公开(公告)号：CN102227458B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN200980148064.3

申请日：2009-12-01

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 尹敬皓 ,  李镇国 ,  田桓承 ,  金旼秀 ,  宋知胤

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/00 ,  C08L65/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08L65/00 ,  C08G61/02 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1067 ,  C08G2261/3424 ,  C08L79/08 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

Abstract: 本发明提供一种用于平版印刷方法的具有良好抗反射性的下层组合物。该组合物具有优异的光学特性、机械特性，及蚀刻选择性，且可使用旋涂方法涂敷。有利地，该组合物可应用于短波长平版印刷方法并显示最少的剩余酸。

公开(公告)号：CN103901727A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201310239669.1

申请日：2013-06-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李俊昊 ,  权孝英 ,  田桓承

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233

Abstract: 本发明提供了一种正感光性树脂组合物、由其制造的有机绝缘膜和显示装置。所述正感光性树脂组合物包含：（A）选自包含由下列化学式1表示的重复单元的化合物和包含由下列化学式2表示的重复单元的化合物中的至少一种溶解控制剂，（B）聚苯并噁唑前体，（C）感光性重氮醌化合物，和（D）溶剂。[化学式1][化学式2]在化学式1和2中，各个取代基与具体实施方式中限定的相同。

公开(公告)号：CN102060980B

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201010242377.X

申请日：2010-07-29

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 宋知胤 ,  田桓承 ,  赵诚昱 ,  尹敬皓 ,  金旼秀 ,  吴丞培

IPC: C08G61/02 ,  C08L65/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/76 ,  C08L65/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明公开了一种光刻胶下层聚合物、含有这种光刻胶下层聚合物的光刻胶下层组合物以及图案化器件的方法。该聚合物包括由以下化学式1表示的重复单元和/或由以下化学式2表示的重复单元。[化学式1] [化学式2]在以上化学式1或2中，每一取代基与在详细描述中定义的取代基相同。

公开(公告)号：CN102566282A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110306768.8

申请日：2011-10-11

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 吴丞培 ,  田桓承 ,  赵诚昱 ,  金旼秀 ,  宋知胤 ,  崔有廷

IPC: G03F7/09 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/31144 ,  G03F7/094 ,  H01L21/02112 ,  H01L21/0332

Abstract: 本发明提供硬掩模组合物，所述硬掩模组合物包括一种化合物和溶剂，所述化合物包括用以下化学式1表示的结构单元，在化学式1中，A、L、B、R1、R2、n1和n2中的每一个与在具体实施方式中所定义的相同。并且，本发明提供了利用所述硬掩模组合物形成图案的方法，以及包括通过所述图案形成方法形成的多个图案的半导体集成电路器件。所述硬掩模组合物具有高的蚀刻选择性和改进的光学特性，同时保证对多重蚀刻的抗蚀性。[化学式1]

公开(公告)号：CN101641390A

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200780052470.0

申请日：2007-12-31

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  鱼东善 ,  吴昌一 ,  尹敬皓 ,  邢敬熙 ,  李镇国 ,  金钟涉 ,  田桓承 ,  南伊纳 ,  纳塔利娅·托克列娃

IPC: C08G61/12

CPC classification number: G03F7/091

Abstract: 本发明提供了一种具有抗反射性能的硬掩模组合物。该硬掩模组合物适合于光刻，提供了良好的光学和机械性能，并且表现出高蚀刻选择性。此外，该硬掩模组合物可以容易地通过旋涂(spin-on)施加技术而施用。有利地，该硬掩模组合物可用于短波长光刻并具有最小的残留酸含量。

公开(公告)号：CN104570608B

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201410214041.0

申请日：2014-05-20

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 南宫烂 ,  权孝英 ,  田桓承

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016

Abstract: 本发明公开了正型光敏树脂组合物、使用其制备的光敏树脂膜以及显示装置。所述正型光敏树脂组合物包含：（A）聚苯并噁唑前体，在端基处包括被约400nm至约550nm波长区的光分解并且酸化的官能团；（B）光敏重氮醌化合物；以及（C）溶剂。

公开(公告)号：CN104423159B

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：CN201410284151.4

申请日：2014-06-23

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金昇炫 ,  元东勋 ,  辛明晔 ,  田桓承

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G02B5/20

Abstract: 本发明涉及用于滤色片的光敏树脂组合物和使用其制备的滤色片。该光敏树脂组合物包含含有由式1表示的染料的着色剂。在式1中，Z1至Z16和M1与在本发明的具体实施方式中的相同，用式2至式5中的一种取代Z1至Z16中的1至8个，其中，X和M2与本发明的具体实施方式中的相同，并且Y、k和W与在本发明的具体实施方式中的相同。所述组合物具有高亮度、高对比度以及优异的耐热性：

公开(公告)号：CN104122754B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201310546101.4

申请日：2013-11-06

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权孝英 ,  金民兼 ,  李俊昊 ,  田桓承

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/092

Abstract: 本发明公开了抗蚀剂下层组合物、图案形成方法以及包括该图案的半导体集成电路装置。该抗蚀剂下层组合物包括包含由以下化学式1表示的部分的化合物和溶剂。在上述化学式1中，A1、A2、B1、R1、R2与具体实施方式中所定义的相同。[化学式1]。

公开(公告)号：CN103105731B

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201210249993.7

申请日：2012-07-18

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权志伦 ,  金南光 ,  沙赫鲁赫·穆塔尔里比 ,  李仁宰 ,  陈仙喜 ,  金宰贤 ,  田桓承 ,  韩圭奭

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G02B5/20

CPC classification number: G02B5/223 ,  C09B23/06 ,  C09B23/083 ,  C09B23/086 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/105

Abstract: 本发明公开了光敏树脂组合物和应用其的滤色器，所述光敏树脂组合物包括染料，该染料包括由以下化学式1表示的基于次甲基的化合物和金属络合物。在化学式1中，各个取代基与在具体实施方式中限定的相同。本发明的光敏树脂组合物具有高亮度和对比度。[化学式1]

公开(公告)号：CN104698755A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201410211435.0

申请日：2014-05-19

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权孝英 ,  南宫烂 ,  姜真熙 ,  李范珍 ,  田桓承

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016

CPC classification number: G03F7/0233

Abstract: 本发明公开了正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜及使用其的显示装置。所述正性光敏树脂组合物包括：(A)包含由以下化学式1表示的重复单元的碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；以及(C)溶剂，[化学式1]在以上化学式1中，各取代基与在具体实施方式中定义的相同。