公开(公告)号：CN106062638A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201580012366.3

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及回收废光刻胶剥离剂的方法，所述方法包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。

公开(公告)号：CN104903794A

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201480004032.7

申请日：2014-04-28

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李佑然 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  朴泰文

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及一种用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物和一种使用其剥离光致抗蚀剂的方法，其中所述用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物在移除和剥离光致抗蚀剂中表现出优异的性能，并可有效地抑制污点在含铜下膜等上的产生和残留。用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物包含至少一种胺化合物；极性有机溶剂；亚烷基二醇系溶剂；和腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：CN113138544B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202110023695.5

申请日：2021-01-08

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋贤宇 ,  孙成旼 ,  韩东一 ,  朴泰文 ,  李东勋

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。

公开(公告)号：CN111989621A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN201980009806.8

申请日：2019-10-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/43

Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及涉及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在能够表现出对光致抗蚀剂优异的剥离能力的同时能够抑制剥离过程期间下部金属膜的腐蚀并能够有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN106062638B

公开(公告)日：2020-02-07

申请号：CN201580012366.3

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及回收废光刻胶剥离剂的方法，所述方法包括以下步骤：使包含40重量％到75重量％的至少一种胺化合物、20重量％到55重量％的亚烷基二醇化合物、以及1重量％到10重量％的添加剂的回收液体接触废光刻胶剥离剂的纯化液体。

公开(公告)号：CN107438470A

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201680020924.5

申请日：2016-04-01

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李诗奈 ,  李成圭 ,  李相范 ,  李成镐 ,  金正锡 ,  申俊浩 ,  郑大哲 ,  张龙熙 ,  朴泰文 ,  李炫稷

IPC: B01D3/02

Abstract: 通过使用本申请的蒸馏装置，与使用双蒸馏塔的情况相比，可以使包含在光致抗蚀剂的剥离工序中使用的废物剥离剂和被剥离的光致抗蚀剂树脂的溶液的纯化工序中产生的能量损失最小化，并且可以减小蒸馏装置的安装成本，从而提高了工序的经济可行性。

公开(公告)号：CN111989621B

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN201980009806.8

申请日：2019-10-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/43

Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及涉及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在能够表现出对光致抗蚀剂优异的剥离能力的同时能够抑制剥离过程期间下部金属膜的腐蚀并能够有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN115039036A

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN202180012135.8

申请日：2021-09-17

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物可以具有优异的光致抗蚀剂剥离力，可以在剥离过程中抑制对下面的金属膜的腐蚀，并且可以有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN113138544A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110023695.5

申请日：2021-01-08

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋贤宇 ,  孙成旼 ,  韩东一 ,  朴泰文 ,  李东勋

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。

公开(公告)号：CN106462088A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580031398.8

申请日：2015-07-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  郑大哲 ,  李东勋 ,  李佑然 ,  李贤浚 ,  金周永

IPC: G03F7/34

Abstract: 本发明涉及一种光刻胶去除设备以及使用所述设备的光刻胶去除方法，所述设备包括：剥离室，其包括用于去除光刻胶的剥离剂储存槽、用于使表面上形成有光刻胶的基底移动的基底移动装置、用于将用于去除光刻胶的剥离剂喷淋到基底移动装置上的剥离剂喷淋器、以及将用于去除光刻胶的剥离剂从储存槽输送至剥离剂喷淋器的剥离剂输送装置；冷却装置，其位于剥离室的上方并且使剥离室中蒸发的物质冷却；以及传送装置，其将通过冷却装置冷却的物质传送至用于去除光刻胶的剥离剂储存槽或剥离室。