公开(公告)号：CN116149148A

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN202211149997.8

申请日：2022-09-21

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 孙成旼 ,  朴泰文 ,  宋贤宇 ,  崔容铣

IPC: G03F7/42

Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其的光致抗蚀剂的剥离方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在对光致抗蚀剂具有优异的剥离力的同时，具有改善的光致抗蚀剂溶解度并且抑制在剥离过程期间对下部金属膜的腐蚀。

公开(公告)号：CN113138544B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202110023695.5

申请日：2021-01-08

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋贤宇 ,  孙成旼 ,  韩东一 ,  朴泰文 ,  李东勋

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。

公开(公告)号：CN111989621A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN201980009806.8

申请日：2019-10-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/43

Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及涉及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在能够表现出对光致抗蚀剂优异的剥离能力的同时能够抑制剥离过程期间下部金属膜的腐蚀并能够有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN111989621B

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN201980009806.8

申请日：2019-10-07

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/43

Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及涉及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在能够表现出对光致抗蚀剂优异的剥离能力的同时能够抑制剥离过程期间下部金属膜的腐蚀并能够有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN115039036A

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN202180012135.8

申请日：2021-09-17

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴泰文 ,  李东勋 ,  宋贤宇 ,  李佑然

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物以及用于使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物可以具有优异的光致抗蚀剂剥离力，可以在剥离过程中抑制对下面的金属膜的腐蚀，并且可以有效地除去氧化物。

公开(公告)号：CN113138544A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110023695.5

申请日：2021-01-08

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋贤宇 ,  孙成旼 ,  韩东一 ,  朴泰文 ,  李东勋

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。