Saved successfully
Save failed
Saved Successfully
Save Failed
公开(公告)号：CN116149148A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202211149997.8
申请日：2022-09-21
Applicant: 株式会社LG化学
Inventor： 孙成旼 , 朴泰文 , 宋贤宇 , 崔容铣
IPC: G03F7/42
Abstract: 本公开内容涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其的光致抗蚀剂的剥离方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物在对光致抗蚀剂具有优异的剥离力的同时，具有改善的光致抗蚀剂溶解度并且抑制在剥离过程期间对下部金属膜的腐蚀。
