-
公开(公告)号：CN104903794B
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201480004032.7
申请日：2014-04-28
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/42 , H01L21/306
Abstract: 本发明涉及一种用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物和一种使用其剥离光致抗蚀剂的方法，其中所述用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物在移除和剥离光致抗蚀剂中表现出优异的性能，并可有效地抑制污点在含铜下膜等上的产生和残留。用于移除光致抗蚀剂的剥离剂组合物包含至少一种胺化合物；极性有机溶剂；亚烷基二醇系溶剂；和腐蚀抑制剂。
-
公开(公告)号：CN105143984B
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201480007384.8
申请日：2014-03-06
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/42 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种用于去除光阻剂的剥离剂组合物及一种使用其的方法，所述用于去除光阻剂的剥离剂组合物在不含具有生殖毒性的N‑甲基甲酰胺或N,N’‑二甲基甲酰胺等的情况下，仍能表现出优异的剥离性能和冲洗性能并使随着时间推移的性能退化最小化。所述用于去除光阻剂的剥离剂组合物包括一种或多种胺化合物；N,N’‑二乙基甲酰胺；以及亚烷基二醇单烷基醚或亚烷基二醇的质子性有机溶剂。
-
公开(公告)号：CN106662825A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580038411.2
申请日：2015-08-31
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/42
CPC classification number: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及用于移除光刻胶的剥离剂组合物以及使用其剥离光刻胶的方法，所述组合物包含：至少一种胺化合物；至少一种选自非质子极性有机溶剂和水的溶剂；质子极性有机溶剂；以及聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，所述聚醚改性的聚二甲基硅氧烷在20℃下的动态粘度为25mPa·s至250mPa·s且包含20摩尔％至70摩尔％的包含聚醚类官能团的聚二甲基硅氧烷重复单元。
-
公开(公告)号：CN105143984A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201480007384.8
申请日：2014-03-06
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/42 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种用于去除光阻剂的剥离剂组合物及一种使用其的方法，所述用于去除光阻剂的剥离剂组合物在不含具有生殖毒性的N-甲基甲酰胺或N,N’-二甲基甲酰胺等的情况下，仍能表现出优异的剥离性能和冲洗性能并使随着时间推移的性能退化最小化。所述用于去除光阻剂的剥离剂组合物包括一种或多种胺化合物；N,N’-二乙基甲酰胺；以及亚烷基二醇单烷基醚或亚烷基二醇的质子性有机溶剂。
-
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：CN106462088B
公开(公告)日：2019-09-27
申请号：CN201580031398.8
申请日：2015-07-10
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/34
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶去除设备以及使用所述设备的光刻胶去除方法，所述设备包括：剥离室，其包括用于去除光刻胶的剥离剂储存槽、用于使表面上形成有光刻胶的基底移动的基底移动装置、用于将用于去除光刻胶的剥离剂喷淋到基底移动装置上的剥离剂喷淋器、以及将用于去除光刻胶的剥离剂从储存槽输送至剥离剂喷淋器的剥离剂输送装置；冷却装置，其位于剥离室的上方并且使剥离室中蒸发的物质冷却；以及传送装置，其将通过冷却装置冷却的物质传送至用于去除光刻胶的剥离剂储存槽或剥离室。
-
-
-
公开(公告)号：CN105556392B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201580000649.6
申请日：2015-08-18
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物，其包含：重均分子量大于95g/mol的链胺化合物；重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物；环胺化合物；其中具有1至5个碳原子的直链或支链的烷基基团被氮单取代或双取代的基于酰胺的化合物；和极性有机溶剂，其中所述重均分子量大于95g/mol的链胺化合物与所述重均分子量不大于90g/mol的链胺化合物的重量比为1∶1至1∶10；还涉及一种使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.02 seconds)
