公开(公告)号：CN113138544A

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN202110023695.5

申请日：2021-01-08

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋贤宇 ,  孙成旼 ,  韩东一 ,  朴泰文 ,  李东勋

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。

公开(公告)号：CN113138544B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN202110023695.5

申请日：2021-01-08

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 宋贤宇 ,  孙成旼 ,  韩东一 ,  朴泰文 ,  李东勋

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物和使用其剥离光致抗蚀剂的方法，所述用于除去光致抗蚀剂的剥离剂组合物具有优异的光致抗蚀剂剥离力，并且可以在剥离过程期间抑制下部金属层的腐蚀并有效地除去氧化物。所述剥离剂组合物包含：其中氮经1至2个碳数为1至5的线性或支化烷基取代的酰胺化合物；胺化合物；极性有机溶剂；水合肼；和基于三唑的化合物。