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公开(公告)号:CN115943498A
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202180050839.4
申请日:2021-08-20
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872
Abstract: 提供一种能够在谋求小型化及高密度化的同时提高对过电流的耐久性的半导体装置。本发明的半导体装置具有:多个PN结二极管,具备负温度特性而串联连接;多个电阻元件,与所述多个PN结二极管分别并联连接,并且相互被串联连接;以及肖特基势垒二极管,具备正温度特性而与所述多个PN结二极管并联连接。
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公开(公告)号:CN115053355A
公开(公告)日:2022-09-13
申请号:CN202180013173.5
申请日:2021-02-05
Applicant: 株式会社FLOSFIA
IPC: H01L29/872 , H01L21/28 , H01L29/06 , H01L29/24 , H01L29/47 , H01L29/786 , H01L21/336 , H01L21/329
Abstract: 提供一种半导体特性及散热性优异的半导体元件及半导体装置。一种半导体元件,包含层叠结构体,该层叠结构体通过在导电性基板上直接或隔着其他层层叠有氧化物半导体膜而成,所述氧化物半导体膜包括含有镓的氧化物作为主成分,所述导电性基板具有比所述氧化物半导体膜大的面积,所述半导体装置通过所述半导体元件与引线框、电路基板或散热基板利用接合部件接合而成。
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