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公开(公告)号：CN117800088A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202310907147.8
申请日：2023-07-24
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种运转成本的削减效果高的运输装置，其用于在真空室内在一个方向上运输能够使被处理基板以其处理面开放的状态设置的运输托盘。运输装置(TM)具备一对运输单元(Tm1、Tm2)，各运输单元具有：运输带(23a、23b)，其卷绕在沿运输托盘的运输方向留出间隔设置的两个旋转部件(21a、21b、22a、22b)之间并环绕行进；以及多个支撑辊(24)，其支撑载置有运输托盘的运输带的部分。运输带构成为，在使各运输带同步环绕行进，重复进行跨置于这些运输带载置的运输托盘向X轴方向的运输时，比运输托盘优先变形。
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公开(公告)号：CN102686764B
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201080059579.9
申请日：2010-12-20
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/042 , C23C14/56
Abstract: 本发明提供一种能够与基板的大型化相对应，并且生产节拍短、低成本的成膜装置以及成膜方法。将放置基板（11）的基板保持框（12）运入真空排气后的真空槽（41）内，使基板保持框（12）上的基板（11）在与配置在基板运送路径和蒸镀源（42）的排放口（42c）之间的掩模保持框（43）上的掩模（15）相面对的位置静止，使基板保持框（12）离开运送机构（51）的运送部件，使基板（11）的背面静电吸附在基板吸附板（81b）表面上而保持。接着，使掩模（15）相对于基板（11）对位，在使基板（11）与掩模（15）均相对于真空槽（41）静止的状态下从排放口（42c）排放成膜材料的蒸气，通过蒸气在基板（11）表面上进行成膜。成膜后，保持将掩模（15）放置在真空槽（41）内的掩模保持框（43）上，将放置基板（11）的基板保持框（12）向真空槽（41）外运出。
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公开(公告)号：CN101802251B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200880107821.8
申请日：2008-09-17
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/545 , C23C14/546 , G01B17/02
Abstract: 本发明涉及薄膜形成装置、膜厚测定方法、膜厚传感器。本申请中提供一种即使产生剥落也能够测定正确的膜厚的技术。根据当前时刻(a0)处的膜厚传感器(15)的共振频率(f0)和紧前的过去时刻(a1)的共振频率(f1)的值算出差频(Δf0)，根据与其符号或基准值的比较结果判断有无剥落。在发生剥落的情况下，在根据在将来时刻(ax)测定的共振频率(fx)求出的增加膜厚值(T)上加上剥落的膜厚(Δt0)，求出修正膜厚值(T’)，换算为成膜对象物(18)的膜厚，与目标值进行比较，判断成膜结束。即使在膜厚传感器(15)上产生剥落，也能够求出成膜对象物(18)表面的薄膜的正确的膜厚值。
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公开(公告)号：CN102162082A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110036180.5
申请日：2011-02-11
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 提供一种能够对应于大型基板的蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀方法。在蒸镀掩模（10）上形成开口部（11），以使其中心间距离为基板（50）的像素（51a1、51a2）的中心间距离的2倍。将该蒸镀掩模配置在基板上，在进行对位以使开口部和遮蔽部（19）交替地配置在各像素（51a1、51a2、51ax）的上方的状态下，将与开口部面对的像素（51a1）成膜，接着使蒸镀掩模移动像素（51a1、51a2）的中心间距离，使开口部位于在移动前与遮蔽部面对的未成膜的像素（51a2、51ax）的上方，在此状态下在未成膜的像素（51a2、51ax）上成膜薄膜。由于开口部的间隔比以往宽，所以能够使在开口部形成时蒸镀掩模损坏的可能性比以往减小，大型的蒸镀掩模的制造变得容易。
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