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公开(公告)号：CN102162082B
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201110036180.5
申请日：2011-02-11
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 提供一种能够对应于大型基板的蒸镀掩模、蒸镀装置、蒸镀方法。在蒸镀掩模（10）上形成开口部（11），以使其中心间距离为基板（50）的像素（51a1、51a2）的中心间距离的2倍。将该蒸镀掩模配置在基板上，在进行对位以使开口部和遮蔽部（19）交替地配置在各像素（51a1、51a2、51ax）的上方的状态下，将与开口部面对的像素（51a1）成膜，接着使蒸镀掩模移动像素（51a1、51a2）的中心间距离，使开口部位于在移动前与遮蔽部面对的未成膜的像素（51a2、51ax）的上方，在此状态下在未成膜的像素（51a2、51ax）上成膜薄膜。由于开口部的间隔比以往宽，所以能够使在开口部形成时蒸镀掩模损坏的可能性比以往减小，大型的蒸镀掩模的制造变得容易。
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公开(公告)号：CN102177270A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200980140206.1
申请日：2009-11-12
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L21/67225 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67005 , H01L27/3211 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 提供小型，处理能力高的有机薄膜蒸镀装置。在真空槽（11）的内部，设置可成为水平姿势与竖立姿势的第一、第二基板配置装置（13a、13b），在成为竖立姿势时，使保持于各个基板配置装置（13a、13b）的基板与第一、第二有机蒸气放出装置（21a、21b）面对。在一方的基板配置装置（13a、13b）为水平姿势时，由直线对准用销（15）与移载用销（16）抬起掩模与基板，与未成膜的基板进行交换并进行对位。在一台的有机薄膜蒸镀装置（10）能够同时处理二枚的基板。
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公开(公告)号：CN106232858A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201580020079.7
申请日：2015-05-22
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种能进行有机膜的成膜速率控制和高精度膜厚测量的成膜装置、有机膜的膜厚测量方法和有机膜用膜厚传感器。成膜装置架(13)、膜厚传感器(14)和测量单元(17)。有机材料源(12)配置于真空腔室(11)的内部，能放出有机材料粒子。基板架(13)被构成为使其与有机材料源(12)相向配置且可保持基板(W)。膜厚传感器(14)配置在真空腔室(11)的内部且具有石英晶体谐振器，该石英晶体谐振器具有4MHz以下的基本频率。测量单元(17)根据所述石英晶体谐振器的谐振频率的变化来测量在基板架(13)上的基板(W)上沉积的有机膜的膜厚。(10)具有真空腔室(11)、有机材料源(12)、基板
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公开(公告)号：CN105980597A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580007320.2
申请日：2015-02-03
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/547 , C23C14/56
Abstract: 提供能够使膜厚的测定结果立即反映到成膜工序中的薄膜制造装置和薄膜制造方法。在一个成膜单元(11)的成膜室(22)内，在成膜对象物形成构图后的薄膜，然后使其移动至另一成膜单元(11)的成膜室(22)而形成构图后的另一薄膜，此时，在位于成膜单元(11)之间的第一移动室(21)或第二移动室(23)中，从光发送部(32)将偏振光照射至所形成的薄膜之中的与成膜对象物表面接触的测定用薄膜的部分，由光接收部(33)接收反射光，通过椭圆偏振计求出薄膜的膜厚。在测定结果为异常值的情况下，使形成显示异常值的薄膜的成膜室(22)的运转停止。当在多个成膜室(22)形成不同的薄膜时，如果预先以各薄膜的测定用部分分离地定位的方式形成掩模，则即使在二层以上的薄膜形成后，也能够进行膜厚测定。
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公开(公告)号：CN118407003A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202311710862.9
申请日：2023-12-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置，其即使在交换移动及扫描移动时的移动速度快也能够尽量抑制蒸镀物质的液面的摇晃，使基板面内的薄膜厚度分布均一性良好且生产性良好地成膜。配置在真空室内、用于使蒸镀物质气化或升华并对被处理基板进行蒸镀的真空蒸镀装置用蒸发源具有：收纳箱，其中填充蒸镀物质且在上表面具有气化的蒸镀物质的放出开口；以及加热机构，其能够加热收纳箱内的蒸镀物质；其具备移动机构，其使收纳箱在第一位置和第二位置之间交换移动，并且使位于第一位置或第二位置的收纳箱在一个方向上扫描移动；收纳箱内设置有分隔部件，其具有比面对放出开口的蒸镀物质的上表面部分更向上方突出的高度，将收纳箱的内部空间分隔成多个小空间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105874098B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480067225.7
申请日：2014-11-26
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 深尾万里
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/568
Abstract: 本发明提供一种可缩短成膜准备所需的作业时间的低成本的连续式成膜装置的成膜制备方法，其在排列设置多个蒸发源(21、22、23)的真空室(11)内，沿各蒸发源排列设置的方向传送基板(S)，在基板上形成多层膜之前，在基板上形成由各蒸发源提供的蒸发材料的单层膜，制备测量用试样。基板安装在搬运器(SC1)上，从与上游侧的蒸发源相对的位置开始连续或间断地传送到与下游侧的蒸发源相对的位置，使用包括可有选择地分别遮挡基板的一面的规定范围的多个遮挡装置(341、342、343)的装置作为搬运器，在通过搬运器从上游侧向下游侧传送基板时，依次改变各遮挡装置各自遮挡的规定范围，在单个基板的面内分别形成各蒸发源蒸发的蒸发材料的单层膜。
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公开(公告)号：CN105874098A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480067225.7
申请日：2014-11-26
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 深尾万里
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/568
Abstract: 本发明提供一种可缩短成膜准备所需的作业时间的低成本的连续式成膜装置的成膜制备方法，其在排列设置多个蒸发源(21、22、23)的真空室(11)内，沿各蒸发源排列设置的方向传送基板(S)，在基板上形成多层膜之前，在基板上形成由各蒸发源提供的蒸发材料的单层膜，制备测量用试样。基板安装在搬运器(SC1)上，从与上游侧的蒸发源相对的位置开始连续或间断地传送到与下游侧的蒸发源相对的位置，使用包括可有选择地分别遮挡基板的一面的规定范围的多个遮挡装置(341、342、343)的装置作为搬运器，在通过搬运器从上游侧向下游侧传送基板时，依次改变各遮挡装置各自遮挡的规定范围，在单个基板的面内分别形成各蒸发源蒸发的蒸发材料的单层膜。
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公开(公告)号：CN102177270B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200980140206.1
申请日：2009-11-12
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L21/67225 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/56 , H01L21/67005 , H01L27/3211 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供小型，处理能力高的有机薄膜蒸镀装置。在真空槽（11）的内部，设置可成为水平姿势与竖立姿势的第一、第二基板配置装置（13a、13b），在成为竖立姿势时，使保持于各个基板配置装置（13a、13b）的基板与第一、第二有机蒸气放出装置（21a、21b）面对。在一方的基板配置装置（13a、13b）为水平姿势时，由直线对准用销（15）与移载用销（16）抬起掩模与基板，与未成膜的基板进行交换并进行对位。在一台的有机薄膜蒸镀装置（10）能够同时处理二枚的基板。
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公开(公告)号：CN102686764A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201080059579.9
申请日：2010-12-20
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/042 , C23C14/56
Abstract: 提供一种能够与基板的大型化相对应，并且生产节拍短、低成本的成膜装置以及成膜方法。将放置基板（11）的基板保持框（12）运入真空排气后的真空槽（41）内，使基板保持框（12）上的基板（11）在与配置在基板运送路径和蒸镀源（42）的排放口（42c）之间的掩模保持框（43）上的掩模（15）相面对的位置静止，使基板保持框（12）离开运送机构（51）的运送部件，使基板（11）的背面静电吸附在基板吸附板（81b）表面上而保持。接着，使掩模（15）相对于基板（11）对位，在使基板（11）与掩模（15）均相对于真空槽（41）静止的状态下从排放口（42c）排放成膜材料的蒸气，通过蒸气在基板（11）表面上进行成膜。成膜后，保持将掩模（15）放置在真空槽（41）内的掩模保持框（43）上，将放置基板（11）的基板保持框（12）向真空槽（41）外运出。
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公开(公告)号：CN101802251A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880107821.8
申请日：2008-09-17
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/545 , C23C14/546 , G01B17/02
Abstract: 本发明涉及薄膜形成装置、膜厚测定方法、膜厚传感器。本申请中提供一种即使产生剥落也能够测定正确的膜厚的技术。根据当前时刻(a0)处的膜厚传感器(15)的共振频率(f0)和紧前的过去时刻(a1)的共振频率(f1)的值算出差频(Δf0)，根据与其符号或基准值的比较结果判断有无剥落。在发生剥落的情况下，在根据在将来时刻(ax)测定的共振频率(fx)求出的增加膜厚值(T)上加上剥落的膜厚(Δt0)，求出修正膜厚值(T’)，换算为成膜对象物(18)的膜厚，与目标值进行比较，判断成膜结束。即使在膜厚传感器(15)上产生剥落，也能够求出成膜对象物(18)表面的薄膜的正确的膜厚值。
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