公开(公告)号：CN103710667A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310339461.7

申请日：2013-08-06

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  矢崎秋夫 ,  尾方智彦 ,  山本健一 ,  楠敏明 ,  玉腰武司

IPC: C23C14/24 ,  F27B14/04 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明是提供一种蒸发源、真空蒸镀装置以及有机EL显示装置制造方法，使用能够降低热辐射、能够节电化的蒸发源，能够与大型基板对应，高速形成以铝材料为主的金属薄膜，连续成膜。作为解决本发明课题的方法涉及在使用陶瓷制的坩锅的蒸发源中，通过使夹着凸缘部那样设置热反射构件，有效地阻断沿凸缘部流出的热。其结果是能够用少的电力有效地加热坩锅，另外能够防止凸缘部的温度上升，防止攀缘。

公开(公告)号：CN103374700A

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201310124641.3

申请日：2013-04-11

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 玉腰武司 ,  三宅龙也 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  楠敏明 ,  山本健一 ,  矢崎秋夫 ,  尾方智彦

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。将多个线状蒸发源相对于成膜方向配置成多级，能够在去路和回路中不改变成膜顺序地进行共蒸镀。在基板上成膜蒸镀材料的真空蒸镀装置中，具有以相对于成膜方向为对称的方式配置有多个线状蒸发源的蒸发源组，上述蒸发源组相对于上述基板向第一方向移动并对上述基板成膜后，相对于上述基板向与上述第一方向相反的方向即第二方向移动并对上述基板成膜。

公开(公告)号：CN102312207B

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201110177715.0

申请日：2011-06-29

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 楠敏明 ,  三宅龙也 ,  山本健一 ,  玉腰武司

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明提供一种成膜装置。在薄膜有机EL材料之上进行低损坏且高速的溅射成膜而不会使成膜装置大型化。将磁控管等离子体(20)封闭在可动式屏蔽电极(13)内，所述可动式屏蔽电极(13)在靶材料11侧为开口、在基板侧具有在关闭面内使溅射粒子通过的缝隙，使可动式屏蔽电极(13)和磁控管(17)同时扫描，以进行针对下层膜的损坏较少的成膜，之后，仅仅磁控管(17)扫描以进行利用磁控管等离子体的高速成膜。据此，就能够进行对下层膜损坏较少、且高速的成膜。

公开(公告)号：CN103305796A

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN201310054787.5

申请日：2013-02-20

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  矢崎秋夫 ,  尾方智彦 ,  山本健一 ,  楠敏明 ,  玉腰武司

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供能在大型基板上快速地形成膜厚均匀且有机EL上部电极用的铝金属薄膜，并能长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。通过使用陶瓷制的坩埚防止铝的攀爬，并使用在横向上操作沿纵向排列有在相同方向上以规定的角度倾斜的蒸发源（3-1）的蒸发源列（3-2）并进行蒸镀的机构，能够相对于大型的纵置基板（1-1）快速形成有机EL上部电极用金属薄膜，并使用材料供给机进行长时间的连续成膜。

公开(公告)号：CN119137705A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202280095706.3

申请日：2022-06-20

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 楠敏明 ,  桥诘富博 ,  荒井纪明 ,  福田真大

IPC: H01J37/073 ,  H01J9/02 ,  H01J1/304

Abstract: 提高将六硼化物单晶、过渡金属碳化物单晶的(100)面用作电子发射面的场致发射电子源的放射角电流密度相对于总电流的比率，提高电流稳定性。在构成电子源的 轴的六硼化物单晶或过渡金属碳化物单晶的针尖的前端形成由侧部小面包围的第一(100)面的顶部小面，并且在该第一(100)面的顶部小面的面内形成具有第二(100)面的顶部小面的微小晶体，主要从该第二(100)面的顶部小面发射电子，该侧部小面由n＝1、2、3的整数的至少4面的{n11}面和至少4面的{n10}面构成，且{n11}面的侧部小面的合计面积＞{n10}的侧部小面的合计面积。

公开(公告)号：CN108701571A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201680082576.4

申请日：2016-11-24

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 楠敏明 ,  桥诘富博 ,  糟谷圭吾 ,  大嶋卓 ,  酒井佑辅 ,  小瀬洋一 ,  荒井纪明

IPC: H01J1/304 ,  H01J37/06 ,  H01J37/073 ,  H01J9/02

Abstract: 本发明提供可稳定地加热闪蒸的六硼化物单结晶场致发射电子源，因此，本场致发射电子源具包括：金属丝(107)、与其接合的金属管(108)、发射电子的六硼化物电极头(104)、独立于金属管和六硼化物电极头的石墨片(109)，六硼化物电极头配置成因石墨片而在结构上不与金属管接触，且具有六硼化物电极头、石墨片和金属管机械接触且电接触的结构。

公开(公告)号：CN102732836A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201110442780.1

申请日：2011-12-27

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  玉腰武司 ,  山本健一 ,  松浦宏育 ,  峰川英明 ,  矢崎秋夫 ,  楠敏明 ,  尾方智彦

IPC: C23C14/24 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置及成膜装置，该真空蒸镀装置及成膜装置在大型基板上高速地形成膜厚均匀的有机EL上部电极用的铝金属薄膜，能够长时间连续运行。使用陶瓷制的坩埚，防止铝的向上蠕动，使用在横向上操作蒸发源列(3-2)进行蒸镀的机构，该蒸发源列(3-2)在纵向上排列了至少2个以上在相同方向上按规定角度倾斜了的蒸发源(3-1)，据此，能够相对于大型化的纵向设置的基板(1-1)高速地形成有机EL上部电极用金属薄膜，能够进行长时间的连续成膜。