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公开(公告)号：CN112185851A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202010634817.X
申请日：2020-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。
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公开(公告)号：CN113314435B
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202011373950.0
申请日：2020-11-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间对向配置，因此能够防止排气管妨碍配管通过的通路，所述配管是用来向保持在保持旋转部上的衬底供给药液。另外，以往是由2种处理单元构成，而本发明中通过1种处理单元即可解决。因此，能够使零件在所有处理单元中共通化。
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公开(公告)号：CN113314437B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202110220015.9
申请日：2021-02-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。
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公开(公告)号：CN112185851B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202010634817.X
申请日：2020-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体供给部，其设于径向的内侧，且用于至少向上述基板与上述对置板之间供给气体；以及至少一个位移部，其设于比上述第一气体供给部靠径向外侧的与上述基板对置的面，且与径向内侧相比，径向外侧的与上述基板之间的距离短。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115116897A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210273419.9
申请日：2022-03-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)具有：处理单元、贮存部(31)、处理液配管(32)、泵(34)、过滤器(35)、第一流量部(36)、第一返送管(51)、第一调整阀(52)、第二返送管(41)、分支供给管(16)、第二流量部(42)以及控制部。第一流量部(36)配置在处理液配管(32)，测定在处理液配管(32)中流动的处理液的流量或压力。第一调整阀(52)配置在第一返送管(51)，调整在第一返送管(51)中流动的处理液的流量。控制部根据由第一流量部(36)测定出的处理液的流量或压力来控制第一调整阀(52)的开度。
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公开(公告)号：CN115050668A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210184146.0
申请日：2022-02-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能减少供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理外壳(22)与供气单元(30)。处理外壳(22)在处理外壳(22)的内部处理衬底(W)。供气单元(30)将气体供给到处理外壳(22)的内部。供气单元(30)具备过滤器(31)、导管(32)及风扇(41)。过滤器(31)配置在处理外壳(22)的上部。过滤器(31)将气体吹出到处理外壳(22)的内部。导管(32)设置在处理外壳(22)的外部。导管(32)连接到过滤器(31)。风扇(41)设置在处理外壳(22)的外部。风扇(41)连接到导管(32)。风扇(41)在俯视下配置在不与过滤器(31)重叠的位置。风扇(41)的至少一部分配置在与处理外壳(22)相同的高度位置。
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公开(公告)号：CN114975170A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210136701.2
申请日：2022-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能将处理单元的构造共通化的衬底处理装置。在衬底处理装置(1)中，第1处理单元(12A)配置在搬送空间(12A)的右方。第1处理单元(21A1)具备第1保持部(25A)。第2处理单元(21B1)配置在搬送空间(12A)的左方。第2处理单元(21B1)具备第2保持部(25B)。第1保持部(25A)具有俯视下位于比第1处理单元(21A1)的中心(24A)更后方的中心(26A)。第2保持部(25B)具有俯视下位于比第2处理单元(21B1)的中心(24B)更前方的中心(26B)。第2处理单元(21B1)的前端(22B)配置在比第1处理单元(21A1)的前端(22A)更后方，且配置在比第1处理单元(21A1)的后端(23A)更前方。第1液体存储部(31)配置在搬送空间(12A)的左方，与第2处理单元(21B1)的前方相邻。
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公开(公告)号：CN114944349A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202210134253.2
申请日：2022-02-14
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供基板处理装置及筒状护罩的加工方法。基板处理装置具备：旋转保持部件，其在保持基板的同时使上述基板绕着规定的旋转轴线旋转；液体供给部件，其向保持于上述旋转保持部件的基板供给液体；和树脂制的筒状护罩，其包围保持于上述旋转保持部件的基板。上述筒状护罩具有内周面和设于上述内周面的凹凸部。上述凹凸部具有多个凹部和位于彼此相邻的上述凹部彼此之间的多个凸部。上述凹部具有比从保持于上述旋转保持部件的基板飞散的液滴的直径小的宽度、和在上述液滴与多个上述凸部接触的状态下使上述液滴不与上述凹部的底部接触的深度。上述凸部具有比上述液滴的直径小且比上述凹部的宽度小的宽度。
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