公开(公告)号：CN107403742A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201710352102.3

申请日：2017-05-18

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 天久贤治 ,  吉田武司 ,  难波敏光

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 基板处理装置包括：基板保持单元，其将基板保持为水平；基板旋转单元，其使被保持的基板绕沿铅直方向的规定的旋转轴线旋转；处理液供给喷嘴，其沿水平方向移动，向被保持的基板的上表面供给处理液；切断构件，其将与被保持的基板的上表面之间的环境气体从周围环境气体切断；非活性气体供给单元，其向被保持的基板的上表面与切断构件之间供给非活性气体；切断构件旋转单元，其使切断构件绕所述旋转轴线旋转；控制器，其控制切断构件旋转单元，调整旋转方向上的通过容许部的位置，以使处理液供给喷嘴能够通过环状部。切断构件包括包围由基板保持单元保持的基板的环状部、以及设置于环状部并容许所述处理液供给喷嘴通过所述环状部的通过容许部。

公开(公告)号：CN115050668A

公开(公告)日：2022-09-13

申请号：CN202210184146.0

申请日：2022-02-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  难波敏光 ,  根来世

IPC: H01L21/67 ,  B01D46/00

Abstract: 本发明提供一种能减少供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理外壳(22)与供气单元(30)。处理外壳(22)在处理外壳(22)的内部处理衬底(W)。供气单元(30)将气体供给到处理外壳(22)的内部。供气单元(30)具备过滤器(31)、导管(32)及风扇(41)。过滤器(31)配置在处理外壳(22)的上部。过滤器(31)将气体吹出到处理外壳(22)的内部。导管(32)设置在处理外壳(22)的外部。导管(32)连接到过滤器(31)。风扇(41)设置在处理外壳(22)的外部。风扇(41)连接到导管(32)。风扇(41)在俯视下配置在不与过滤器(31)重叠的位置。风扇(41)的至少一部分配置在与处理外壳(22)相同的高度位置。

公开(公告)号：CN114342048A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080061195.4

申请日：2020-08-05

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 鳅场真树 ,  村元僚 ,  宗德皓太 ,  难波敏光 ,  吉原直彦

IPC: H01L21/3105 ,  H01L21/311 ,  H01L21/027 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10

Abstract: 保持有具有第1面(S1)及与第1面(S1)相反的第2面(S2)的基板(WF)。在基板(WF)的第2面(S2)上配置有被加压的臭氧水(LQ)。臭氧水在用以进行基板(WF)的处理的使用点被加热。

公开(公告)号：CN107403742B

公开(公告)日：2020-11-03

申请号：CN201710352102.3

申请日：2017-05-18

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 天久贤治 ,  吉田武司 ,  难波敏光

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 基板处理装置包括：基板保持单元，其将基板保持为水平；基板旋转单元，其使被保持的基板绕沿铅直方向的规定的旋转轴线旋转；处理液供给喷嘴，其沿水平方向移动，向被保持的基板的上表面供给处理液；切断构件，其将与被保持的基板的上表面之间的环境气体从周围环境气体切断；非活性气体供给单元，其向被保持的基板的上表面与切断构件之间供给非活性气体；切断构件旋转单元，其使切断构件绕所述旋转轴线旋转；控制器，其控制切断构件旋转单元，调整旋转方向上的通过容许部的位置，以使处理液供给喷嘴能够通过环状部。切断构件包括包围由基板保持单元保持的基板的环状部、以及设置于环状部并容许所述处理液供给喷嘴通过所述环状部的通过容许部。