薄膜晶体管的制造方法
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102709313B

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201210151604.7

    申请日:2006-05-19

    Inventor: 广濑笃志

    Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管的制造方法。本发明提供了形状比传统情况更容易控制的圆形薄膜晶体管的制造方法,同时该方法通过诸如液滴释放方法的无掩模方法形成圆形薄膜晶体管而简化了步骤并且降低了制造时间和成本。在本发明中,通过诸如液滴释放方法的无掩模方法,在衬底的上方堆叠同心圆形薄膜来形成具有圆形电极的圆形薄膜晶体管。另外,通过诸如液滴释放方法的无掩模方法,可以通过在衬底的上方堆叠同心圆形薄膜来形成具有圆形半导体层的圆形薄膜晶体管。

    薄膜晶体管的制造方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1866481B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN200610082449.2

    申请日:2006-05-19

    Inventor: 广濑笃志

    Abstract: 本发明提供了形状比传统情况更容易控制的圆形薄膜晶体管的制造方法,同时该方法通过诸如液滴释放方法的无掩模方法形成圆形薄膜晶体管而简化了步骤并且降低了制造时间和成本。在本发明中,通过诸如液滴释放方法的无掩模方法,在衬底的上方堆叠同心圆形薄膜来形成具有圆形电极的圆形薄膜晶体管。另外,通过诸如液滴释放方法的无掩模方法,可以通过在衬底的上方堆叠同心圆形薄膜来形成具有圆形半导体层的圆形薄膜晶体管。

    半导体器件
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101064496B

    公开(公告)日:2011-07-06

    申请号:CN200710100953.5

    申请日:2007-04-28

    Inventor: 广濑笃志

    Abstract: 本发明涉及一种半导体器件,其中在电流镜电路中对于所述电流镜电路内的寄生电阻设置有补偿所述寄生电阻的补偿电阻,并且所述电流镜电路具有至少两个薄膜晶体管。每个所述薄膜晶体管包括:具有沟道形成区域、源区或漏区的岛状半导体膜;栅极绝缘膜;栅电极;以及源电极或漏电极,并且所述补偿电阻补偿所述栅电极、源电极、以及漏电极中任何一个的寄生电阻。此外,补偿电阻分别具有包含与栅电极、源电极或漏电极、或者源区或漏区相同的材料的导电层。

    半导体器件
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101064496A

    公开(公告)日:2007-10-31

    申请号:CN200710100953.5

    申请日:2007-04-28

    Inventor: 广濑笃志

    Abstract: 本发明涉及一种半导体器件,其中在电流镜电路中对于所述电流镜电路内的寄生电阻设置有补偿所述寄生电阻的补偿电阻,并且所述电流镜电路具有至少两个薄膜晶体管。每个所述薄膜晶体管包括:具有沟道形成区域、源区或漏区的岛状半导体膜;栅极绝缘膜;栅电极;以及源电极或漏电极,并且所述补偿电阻补偿所述栅电极、源电极、以及漏电极中任何一个的寄生电阻。此外,补偿电阻分别具有包含与栅电极、源电极或漏电极、或者源区或漏区相同的材料的导电层。

    半导体装置
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101233394B

    公开(公告)日:2014-02-26

    申请号:CN200680027408.1

    申请日:2006-07-20

    CPC classification number: H01L31/102 G01J1/44 H01L31/145 H04N5/2351

    Abstract: 本发明提供了一种能够探测从弱光到强光的光的光电转换器件,并且涉及一种光电转换器件,其具有:具有光电转换层的光电二极管;包括晶体管的放大器电路;以及开关,其中,当入射光的强度低于预定强度时,通过所述开关使所述光电二极管和所述放大器电路相互电连接,从而通过所述放大器电路将光电电流放大,以供输出,并且可以通过所述开关使所述光电二极管和部分或全部所述放大器电路电断开,从而按照放大系数降低光电电流,以供输出。根据这样的光电转换器件,能够探测从弱光到强光的光。

    薄膜晶体管的制造方法
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102709313A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201210151604.7

    申请日:2006-05-19

    Inventor: 广濑笃志

    Abstract: 本发明涉及薄膜晶体管的制造方法。本发明提供了形状比传统情况更容易控制的圆形薄膜晶体管的制造方法,同时该方法通过诸如液滴释放方法的无掩模方法形成圆形薄膜晶体管而简化了步骤并且降低了制造时间和成本。在本发明中,通过诸如液滴释放方法的无掩模方法,在衬底的上方堆叠同心圆形薄膜来形成具有圆形电极的圆形薄膜晶体管。另外,通过诸如液滴释放方法的无掩模方法,可以通过在衬底的上方堆叠同心圆形薄膜来形成具有圆形半导体层的圆形薄膜晶体管。

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