公开(公告)号：CN1885409A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：CN200610093140.3

申请日：2006-06-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 喜喜津哲 ,  镰田芳幸 ,  白鸟聪志 ,  樱井正敏

IPC: G11B5/596

CPC classification number: G11B5/855 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743

Abstract: 根据一个实施方式，一种用制造晶格介质(11)的方法，包括在具有中心孔的衬底(21)上形成具有突起和凹部的磁性层(23)的图样，这些突起和凹部对应于轨道、伺服区(13)或数据区(12)，以及在形成所述磁性层(23)的图样之前或之后向所述衬底的中心孔喷射由扩散液化气所生成的气流。

公开(公告)号：CN100487793C

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200710091357.5

申请日：2007-03-30

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 樱井正敏 ,  镰田芳幸 ,  白鸟聪志

IPC: G11B5/596 ,  G11B5/82

CPC classification number: G11B5/59655 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743 ,  G11B5/855

Abstract: 一种磁记录介质包括：数据区域，其中将要记录数据；伺服区域，其中记录了用于定位记录/再现磁头的位置信号，该伺服区域设有地址部分，其中记录了地址信息，其中该地址部分具有由多列记录部分和设置在所述多个列之间的非记录部分配置的磁图案，所述多个列设置为在与记录磁道方向相交的方向上相互平行。

公开(公告)号：CN101276602A

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200810087956.4

申请日：2008-03-25

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 木村香里 ,  镰田芳幸 ,  白鸟聪志 ,  杉村忍

IPC: G11B5/74

CPC classification number: G11B5/855 ,  G11B5/667 ,  G11B5/7325

Abstract: 本发明提供一种嵌埋于磁性图案间的非磁性层其强度高的磁记录媒体(带图案的媒体)。该磁记录媒体其特征在于，包括：形成于基底上的软磁性层；由分开设置于所述软磁性层上的呈凸起状的铁磁性材料所形成的多个磁性图案；以及形成于所述多个磁性图案间的所述软磁性层上的、由同一材料所形成的大于等于2层的非磁性层。

公开(公告)号：CN101101758A

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200710112695.2

申请日：2007-06-27

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 白鸟聪志 ,  樱井正敏 ,  镰田芳幸 ,  喜喜津哲

IPC: G11B5/65

CPC classification number: G11B5/855 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743

Abstract: 提供了一种磁记录介质，其包括：基底(11)；以及磁记录层，其包括在所述基底(11)上以凸起的形状形成的磁性膜图形(12)，所述磁性膜图形(12)的侧壁具有不同倾角的至少两个面。

公开(公告)号：CN1819033A

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN200610008960.8

申请日：2006-01-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 喜喜津哲 ,  镰田芳幸 ,  山本尚之 ,  兵藤浩之

IPC: G11B5/66 ,  G11B5/84 ,  G11B21/21

CPC classification number: G11B5/855

Abstract: 一种图案化磁记录介质具有形成在基底(11)上的磁记录层(13)和保护层(14)，其中，该磁记录层(13)包括图案化为磁轨的磁性材料(15)和填充在数据区域(33)内的磁轨间的非磁材料(16)，并且具有在距离介质外侧端1mm内的区域(42)中形成并延伸到该介质端部的一凹进部分(32)。该凹进部分(32)被形成为比该数据区域(33)深1到50nm。

公开(公告)号：CN1627372A

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN200410103870.8

申请日：2004-09-29

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 镰田芳幸 ,  大沢裕一 ,  稗田泰之 ,  喜喜津哲

IPC: G11B5/667 ,  G11B5/84 ,  C23C14/06

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G11B5/74 ,  G11B5/743 ,  G11B5/855 ,  G11B2005/001 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/265

Abstract: 提供一种磁记录介质及其制造方法，可以进行高密度记录且耐久性优异。该磁记录介质，其特征在于包括：在非磁性基片上形成的软磁性层上分离排列的多个铁磁性体点；以及形成在各个铁磁性体点上的碳层，该碳层在通过铁磁性体点中心的截面上的膜面形状是平滑的，且具有从所述铁磁性体点的中心向外缘逐渐减小的膜厚。

公开(公告)号：CN101399050B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200810215456.4

申请日：2008-08-15

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 木原尚子 ,  稗田泰之 ,  镰田芳幸

IPC: G11B5/74 ,  G11B5/82 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/82 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G11B5/855

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法，其包括在基材(11)上形成至少包含PS和PEO的二嵌段共聚物组合物的层(12)，使所述层经受相分离以获得相分离的层(13)，由此形成由PS构成并且具有沿第一方向延展的圆柱体或层状构型的易蚀刻区域(14)，在所述相分离的层上形成压印抗蚀剂层(16)，对所述压印抗蚀剂层进行压印，以在所述压印抗蚀剂层上形成沿与所述第一方向交叉的第二方向延展的由凸起(19)和凹陷(18)构成的不规则图案，从所述压印抗蚀剂层选择性地除去所述凹陷，由此仅剩下所述凸起，并且同时选择性地从所述相分离的层除去PS以获得包含PEO的耐蚀刻的图案，以及不仅使用所述凸起而且使用所述耐蚀刻的图案作为掩模来蚀刻所述基材。

公开(公告)号：CN101542602A

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：CN200880000667.4

申请日：2008-06-20

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 汤泽亚希子 ,  樱井正敏 ,  镰田芳幸 ,  白鸟聪志 ,  木村香里 ,  鬼塚刚

IPC: G11B5/65 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/855 ,  G11B5/65

Abstract: 根据一个实施例，一种磁记录介质包括形成在基底上的凸起的磁图形；以及填充在所述磁图形之间的凹陷处并由含有Ni或Cu以及含有从Ta、Nb、Ti、Zr、Hf、Cr、Mo和Ag中选出来的两种或两种以上金属的多元素非晶合金构成的非磁性材料。

公开(公告)号：CN100458920C

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200610093140.3

申请日：2006-06-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 喜喜津哲 ,  镰田芳幸 ,  白鸟聪志 ,  樱井正敏

IPC: G11B5/596

CPC classification number: G11B5/855 ,  B82Y10/00 ,  G11B5/743

Abstract: 根据一个实施方式，一种用制造晶格介质(11)的方法，包括在具有中心孔的衬底(21)上形成具有突起和凹部的磁性层(23)的图样，这些突起和凹部对应于轨道、伺服区(13)或数据区(12)，以及在形成所述磁性层(23)的图样之前或之后向所述衬底的中心孔喷射由扩散液化气所生成的气流。

公开(公告)号：CN101308669A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200810099507.1

申请日：2008-05-13

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 白鸟聪志 ,  镰田芳幸 ,  木村香里

IPC: G11B5/72 ,  G11B5/82

CPC classification number: G11B5/855 ,  G11B5/72

Abstract: 一种磁记录介质，其包括：基底；记录层，形成在所述基底上，具有沟槽图案；以及保护层，形成在所述记录层上，填充所述沟槽图案，其中规定所述记录层具有保留伺服数据的伺服部分和保留记录数据的记录轨道部分，并且其中，在所述伺服部分处的所述保护层的第一膜的厚度比在所述记录轨道部分处的所述保护层的第二膜的厚度大1nm到10nm的厚度范围。