公开(公告)号：CN111095514A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201880058133.0

申请日：2018-08-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 法鲁克·冈果尔 ,  吴典晔 ,  乔尔·M·休斯顿 ,  张镁 ,  袁晓雄 ,  大东和也 ,  阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ,  仓富敬 ,  张铀 ,  曹斌

IPC: H01L21/67 ,  C23C16/44 ,  H01L21/02 ,  H05H1/46

Abstract: 本文提供了用于处理基板的设备。在一些实施方式中，喷头组件包括：气体分配板，气体分配板具有多个孔；保持器，保持器具有壁、径向向内延伸的凸缘、和径向向外延伸的凸缘，所述径向向内延伸的凸缘从壁的下部延伸且耦接至气体分配板，所述径向向外延伸的凸缘从壁的上部延伸，其中壁具有在约0.015英寸与约0.2英寸之间的厚度；和加热设备，所述加热设备设置在气体分配板上方并且与气体分配板间隔开，其中加热设备包括加热器，加热器配置以加热气体分配板。

公开(公告)号：CN108369902A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680070845.5

申请日：2016-12-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 布伦特·比格斯 ,  阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ,  仓富敬 ,  马克·H·李

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/324 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/32053 ,  H01L21/28518 ,  H01L21/321 ,  H01L21/76862

Abstract: 本发明揭露一种用于在经氧化退火的金属氮化物膜中降低氧含量的方法，包括将此膜暴露至等离子体。