一种用于纺织布匹防螨检测的智能计数仪

    公开(公告)号:CN119250101A

    公开(公告)日:2025-01-03

    申请号:CN202411593342.9

    申请日:2024-11-08

    Abstract: 本发明涉及螨虫检测技术领域,并公开了一种用于纺织布匹防螨检测的智能计数仪,包括机架、依次从上而下设置在机架上的成像机芯、镜头、光源、以及样品台,所述样品台上放置有培养皿,所述成像机芯与工控机电连接;所述成像机芯用于透过镜头对培养皿中的携带有螨虫的纺织布匹进行拍摄,所述光源用于对培养皿辅助照明。与传统人工技术螨虫相比,智能计数仪通过自动化的拍摄形成大视场全局成像,再通过工控机就能高效且准确地统计出纺织布匹样品上的活体螨虫,极大地减轻了人工计数的工作量和压力,无需长时间进行显微镜观察和繁琐的计数工作,使操作人员能够更轻松地完成防螨检测任务,降低了人工操作的复杂性和出错概率。

    一种流场检测方法、装置、设备及介质

    公开(公告)号:CN119227556A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202411780702.6

    申请日:2024-12-05

    Abstract: 本发明涉及流场分析领域,本发明公开了一种流场检测方法、装置、设备及介质,包括从大气湍流模拟装置获取实验原始数据;根据实验原始数据建立数学仿真模型,并从数学仿真模型中得到仿真数据;对仿真数据和实验原始数据进行数据验证,得到训练数据;建立深度学习模型;根据训练数据对深度学习模型进行训练,得到优化深度学习模型;通过优化深度学习模型对大气湍流模拟装置的内部流场进行反演计算,得到反演数据;得益于深度学习模型的快速反演能力,显著缩短了数学仿真模型的计算周期,提升了仿真效率,使得实验人员可以基于反演数据对大气湍流模拟装置进行实时调控,实时响应实验需求,提升实验的准确性和效率。

    光学元件轻量化设计方法、装置及设备

    公开(公告)号:CN118050893B

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202410451743.4

    申请日:2024-04-16

    Abstract: 本发明适用于光学元件领域,公开了光学元件轻量化设计方法、装置及设备,该方法用于提高设计效率,节省人力;该方法包括:根据光学元件的面积确定支撑背板的面积和预开孔的面积;基于有限元分析确定支撑背板的轻量化孔与支撑背板的最佳面积比,并计算轻量化孔的最佳面积;根据光学元件的尺寸确定支撑背板的接口的位置,并根据接口的位置确定主加强筋;判断主加强筋的长度是否超过预设长度,若是,则在主加强筋与预开孔的孔壁之间添加第一副加强筋;在接口处布置放射状的第二副加强筋;计算当前支撑背板的多个轻量化孔的面积和接口的通槽面积之和,并计算得到的值与轻量化孔的最佳面积的差值,并根据差值进行调整。

    一种三点环绕式主反射镜支撑装置

    公开(公告)号:CN117471642A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202311574731.2

    申请日:2023-11-23

    Abstract: 本发明公开了一种三点环绕式主反射镜支撑装置,属于主反射镜支撑装置技术领域,包括支撑架和至少3个柔性结构,支撑架内安装有镜片;柔性结构包括柔性固定柱,每个柔性结构的柔性固定柱均穿过对应的一个定位孔并固定安装在支撑架上,所有柔性固定柱的端部均抵在镜片的周面上以把镜片固定于凹腔内并使镜片与凹腔的周壁分离;柔性固定柱设置有多个第一槽组,多个第一槽组沿柔性固定柱的轴向方向间隔分布,每个第一槽组均包括两个对称设置的第一通槽,同一第一槽组中的两个第一通槽的槽底平行相对且槽口贯穿对应的柔性固定柱的周面。本发明的三点环绕式主反射镜支撑装置能够在保证镜片面形精度的同时实现光学系统的快速装调。

    一种半导体缺陷检测多工位转移系统

    公开(公告)号:CN119706250A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411811393.4

    申请日:2024-12-10

    Abstract: 本发明涉及晶圆检测技术领域,具体涉及一种半导体缺陷检测多工位转移系统,本发明通过设置了晶圆上料区、等待区、检测区和下料区四个功能区域,并配备传送装置与抓取组件,优势显著;其一,上料区的第一传送装置可自动送待检晶圆盒至等待区,无需人工干预,节省时间,提高生产效率;其二,检测区抓取组件能高效在等待区与检测区转移晶圆,减少等待时间,提升检测设备利用率;其三,下料区的第二传送装置及时移走已检晶圆盒,优化工艺流程。各功能区的划分让晶圆转移有序,使整个流程顺畅。总之,该系统在提高生产效率、优化工艺流程等方面效果显著。

    用于自适应光学系统的窄带扰动抑制方法及系统

    公开(公告)号:CN119620615A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411798687.8

    申请日:2024-12-06

    Abstract: 本申请公开了一种适用于自适应光学系统的窄带扰动抑制方法及系统,包括基于各个有效窄带扰动进行建模得到各个窄带扰动模型,对各个窄带扰动模型进行参数辨识,得到各个窄带扰动模型的窄带扰动模型参数值,根据有效窄带扰动的个数以及每个窄带扰动模型参数值,计算得到窄带扰动控制参数,根据窄带扰动控制参数构建线性二次高斯最优控制器,并通过线性二次高斯最优控制器对各个窄带扰动进行抑制,当判断得出系统中存在窄带扰动时,窄带扰动抑制模块可以对系统中存在的窄带扰动进行快速有效校正,从而消除窄带扰动影响,提高自适应光学系统扰动抑制性能,进而提高光学系统成像质量。

    一种同轴四反光学系统
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119002025A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411489542.X

    申请日:2024-10-24

    Abstract: 本发明涉及空间光学遥感技术领域,具体公开了一种同轴四反光学系统,包括同轴设置的主反射镜、次反射镜、第三反射镜和第四反射镜,所述主反射镜与次反射镜分别位于第三反射镜的同一侧;所述主反射镜与第四反射镜一体化加工设计;所述次反射镜上开设有第一通光孔,所述主反射镜与次反射镜相对,且次反射镜的口径大于主反射镜的口径;所述第三反射镜上开设有第二通光孔,所述第四反射镜与第三反射镜相对,且第三反射镜的口径大于第四反射镜的口径;本申请公开的同轴四反光学系统,具有结构紧凑、杂散光抑制效果佳的优点,通过同轴设置四块反射镜,可有效压缩光学系统的轴向长度,且主反射镜和第四反射镜一体化加工设计,可降低加工与装调难度。

    反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN116579183B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202310767010.7

    申请日:2023-06-27

    Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域,公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据,构建对应的反射镜模型和支撑环模型,根据预设的极限抗压阈值,调整反射镜模型的刀具加工力矩,确定反射镜的加工应力,通过辅助支撑方法,基于反射镜模型和支撑环模型,结合预设的共振频率范围,计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度,汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度,生成反射镜的加工分析结果数据,通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度,对反射镜的加工进行分析,提高了反射镜的加工效率。

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