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公开(公告)号：CN116579183B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202310767010.7
申请日：2023-06-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F119/14
Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域，公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据，构建对应的反射镜模型和支撑环模型，根据预设的极限抗压阈值，调整反射镜模型的刀具加工力矩，确定反射镜的加工应力，通过辅助支撑方法，基于反射镜模型和支撑环模型，结合预设的共振频率范围，计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度，汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度，生成反射镜的加工分析结果数据，通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度，对反射镜的加工进行分析，提高了反射镜的加工效率。
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公开(公告)号：CN119439334A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411643033.8
申请日：2024-11-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及光学元件领域，本发明公开了一种双面反射镜及其优化方法，双面反射镜包括上下两面的镜体，两面所述镜体的结构对称，所述镜体的正面设置有反射面，所述镜体的背面设置有轻量化孔，所述轻量化孔内设有板筋，两面所述镜体的背部拼接贴合为一体，本申请将双面反射镜拆分为上下两面的镜体，对任一镜体的背面均设置轻量化孔，后续再将两面镜体的背部拼接贴合为一体，实现双面反射镜中单面镜体的背部轻量化。
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公开(公告)号：CN116579183A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310767010.7
申请日：2023-06-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F119/14
Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域，公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据，构建对应的反射镜模型和支撑环模型，根据预设的极限抗压阈值，调整反射镜模型的刀具加工力矩，确定反射镜的加工应力，通过辅助支撑方法，基于反射镜模型和支撑环模型，结合预设的共振频率范围，计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度，汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度，生成反射镜的加工分析结果数据，通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度，对反射镜的加工进行分析，提高了反射镜的加工效率。
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公开(公告)号：CN115609450A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211206757.7
申请日：2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光大口径的单晶碳化硅的抛光装置，该抛光装置包括：夹具、机器人，磨盘和抛光部；夹具用于固定大口径的单晶碳化硅；机器人具有移动部；磨盘与移动部连接，移动部带动磨盘移动，用于对大口径的单晶碳化硅的曲面进行打磨；抛光部对应于大口径的单晶碳化硅的平面设置，抛光部能够转动用于对大口径的单晶碳化硅的平面进行打磨，且抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积。本发明技术方案中，机器人带动磨盘对大口径的单晶碳化硅的曲面打磨，抛光部转动对大口径的单晶碳化硅的平面打磨，能够满足双面抛光；同时抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积能够满足对大口径的单晶碳化硅的打磨条件。
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公开(公告)号：CN119661229A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202510201294.2
申请日：2025-02-24
IPC: C04B35/565 , C04B35/622 , B28B11/00 , B28B11/24
Abstract: 本发明涉及碳化硅陶瓷技术领域，公开了一种碳化硅陶瓷光学机械结构及其制作方法和应用，该制作方法包括以下步骤：根据设计的碳化硅陶瓷光学机械结构，构建得到预设模型；在预设模型上设定横截面，根据横截面将预设模型拆分为预设第一零件和预设第二零件；分别完成预设第一零件和预设第二零件的成型，得到第一零件和第二零件；获取碳化硅陶瓷光学机械结构的原料参数，根据原料参数制备得到粘合剂；采用粘合剂完成第一零件和第二零件的粘合，得到坯体；将坯体烧结成型得到碳化硅陶瓷光学机械结构。本发明充分利用了分体成型和反应烧结技术的优势，实现了复杂碳化硅陶瓷结构的高效制造，同时能够保证结构的致密性和机械性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115609450B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202211206757.7
申请日：2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光大口径的单晶碳化硅的抛光装置，该抛光装置包括：夹具、机器人，磨盘和抛光部；夹具用于固定大口径的单晶碳化硅；机器人具有移动部；磨盘与移动部连接，移动部带动磨盘移动，用于对大口径的单晶碳化硅的曲面进行打磨；抛光部对应于大口径的单晶碳化硅的平面设置，抛光部能够转动用于对大口径的单晶碳化硅的平面进行打磨，且抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积。本发明技术方案中，机器人带动磨盘对大口径的单晶碳化硅的曲面打磨，抛光部转动对大口径的单晶碳化硅的平面打磨，能够满足双面抛光；同时抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积能够满足对大口径的单晶碳化硅的打磨条件。
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公开(公告)号：CN117086338A
公开(公告)日：2023-11-21
申请号：CN202311358311.0
申请日：2023-10-19
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请提供了一种能够辅助夹持的浮动顶尖装置，涉及夹具技术领域，其技术方案要点是：用于数控排刀加工中零件的夹持固定，包括桥板，所述桥板的一侧底部连接有用于使零件随主轴高速旋转的夹持机构，所述桥板的另一侧底部连接有用于顶紧零件的顶紧机构；所述顶紧机构包括气缸、滑动板、缓冲器，所述气缸朝向所述夹持机构设置，所述气缸的输出端与所述滑动板的上部连接，所述滑动板的下部转动设置有所述缓冲器，所述缓冲器抵接作用于所述零件的轴向外壁。本申请提供的能够辅助夹持的浮动顶尖装置，具有在数控排刀加工场景中实现零件在随主轴高速旋转状态下的稳定夹持、以及防止零件飞出的优点。
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公开(公告)号：CN116360062B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310635128.4
申请日：2023-05-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于光学系统技术领域，公开了一种可调节光学镜座，包括支座、主镜座、万向铰接件、弹性支持杆和两根调节螺杆；主镜座的正面设置有反射镜，背面通过万向铰接件与支座铰接；两根调节螺杆和弹性支持杆呈三角形排布地设置支座上，万向铰接件设置在三角形内；调节螺杆的末端与主镜座的背面连接并用于调节主镜座的角度；弹性支持杆的末端与主镜座的背面相抵并用于向主镜座提供弹性支反力；万向铰接件包括球窝件、球头件和锁定件，球头件插入球窝件并与球窝件转动连接，锁定件用于锁定球窝件和球头件的相对位置；从而结构简单，可实现反射镜的全角度自由调节，提高装调效率，且调节后能够有效锁定反射镜的角度。
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公开(公告)号：CN118707999A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410709368.9
申请日：2024-06-03
Applicant: 季华实验室
IPC: G05D23/20
Abstract: 本发明涉及热控技术领域，公开了一种卫星光学系统的热控方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：通过有限元分析将太阳模拟成热源，计算卫星光学系统绕轨道运行一周时模块中的每个组成部件的温度；将模块中所有组成部件的温度曲线绘制在一张图上，得到模块温度曲线图；基于模块温度曲线图以及预设温差阈值，确定单个模块中需要加热的组成部件以及最低加热温度值；基于组成部件的温度曲线以及最低加热温度值对需要加热的组成部件进行实时加热。本发明提供的热控方法能够减小卫星光学系统中低温组成部件与高温组成部件之间的温度梯度，保证卫星光学系统的正常运转，且其加热功率会随着时间发生变化，做到按需加热，避免功率浪费。
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公开(公告)号：CN118550093A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410994364.X
申请日：2024-07-24
Applicant: 季华实验室
IPC: G02B27/09
Abstract: 本发明涉及光线缩束技术领域，本发明公开了三棱镜二维缩束模组及缩束设备，包括沿光路依次设置的若干第一三棱镜和若干第二三棱镜，全部第一三棱镜均垂直于第一平面，全部第二三棱镜均垂直于第二平面，第一平面与第二平面不共面；全部第一三棱镜和全部第二三棱镜的光路均呈螺旋线状；第一三棱镜和第二三棱镜的各个顶角均为60°。本发明提供的三棱镜二维缩束模组及缩束设备能够有效地缩短缩束模组的长度，并且达到较大的缩束倍率。
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