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公开(公告)号：CN119260528A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411787887.3
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B13/005 , B24B1/00 , B24B13/00 , B24B41/00
Abstract: 本发明涉及光学镜片加工技术领域，特别是一种夹持装置、离子束修形设备及加工方法，其包括底座和夹持组件，所述底座上设有安装工位，所述安装工位用于放置待将加工的镜片，所述底座上设有导轨，所述导轨设置多个，所述导轨沿所述安装工位的中心径向设置，所述夹持组件设置多个，每个所述夹持组件一一对应地设置在所述导轨上，所述夹持组件包括滑块、伸缩单元、旋转单元和支撑板，所述滑块与所述导轨滑动连接，所述伸缩单元的固定部与所述滑块固定连接，所述旋转单元设置在所述伸缩单元的伸缩部上，所述支撑板设置在所述旋转单元的旋转部上。避免了夹持装置对工件表面产生遮挡影响最终加工精度的问题，能够保证离子束修形的加工精度。
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公开(公告)号：CN117140203A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202311409197.X
申请日：2023-10-27
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B1/00 , B24B13/00 , B24B31/112 , B24B31/12 , B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种轻量化光学镜片的磁流变抛光固定装置以及固定方法，属于镜片抛光技术领域。固定装置包括配重块，配重块设有第一收纳槽，第一收纳槽用于依次对光学镜片的支撑座、连接轴和镜体进行收纳；第一收纳槽的槽底设有第二固定孔，第二固定孔能够供第一固定件进入第一收纳槽并与支撑座上的第一固定孔连接固定；第一收纳槽的槽壁能够与镜体上背向光学面延伸设置的侧壁相抵接；配重块的顶面围绕第一收纳槽形成有曲率半径与光学面一致的过渡面，过渡面能够与光学面相互拼接。本发明的优点在于，能够对光学镜片的重量进行补偿和对光学镜片的不规则结构进行填补，使光学镜片更容易定心和固定，从而满足超精密抛光的工装要求。
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公开(公告)号：CN115648036A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211206520.9
申请日：2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光双面曲面单晶碳化硅的抛光装置及抛光方法，该用于抛光双面曲面单晶碳化硅的抛光装置包括：夹具，两个机器人和两个磨盘，所述夹具用于固定所述双面曲面单晶碳化硅；两个所述机器人均具有移动部；两个所述磨盘分别与两个所述移动部一一连接，所述移动部带动所述磨盘移动，用于对所述双面曲面单晶碳化硅的曲面进行打磨。本发明技术方案中，两个移动部带动两个所述磨盘分别移动，用于对所述双面曲面单晶碳化硅的曲面同时进行打磨，不仅能够满足对双面曲面单晶碳化硅的打磨条件，还能够双面抛光，提高对双面曲面单晶碳化硅的打磨效率。
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公开(公告)号：CN119501737A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411770016.0
申请日：2024-12-04
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光机床领域，公开了一种抛光头及抛光装置，其中抛光头包括：主杆，其底侧设置有安装槽，安装槽沿主杆的轴向延伸；压电促动器，其连接于安装槽内，压电促动器具有可上下活动的移动端，移动端朝下设置；传动件，其连接于移动端并向下伸出安装槽；抛光盘，其连接于传动件的底端，本发明利用压电促动器对抛光盘的微动控制，可实现快速、准确地控制抛光盘活动，从而提高抛光头的加工效率与质量，并且对于非回转对称的工件表面，在抛光加工过程中抛光盘都能够较好地贴合工件表面，结合计算机控制的平滑轨迹和驻留时间，提高面形迭代效率，从而进一步提高抛光头对不同工件加工的通用性。
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公开(公告)号：CN115609450A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211206757.7
申请日：2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于抛光大口径的单晶碳化硅的抛光装置，该抛光装置包括：夹具、机器人，磨盘和抛光部；夹具用于固定大口径的单晶碳化硅；机器人具有移动部；磨盘与移动部连接，移动部带动磨盘移动，用于对大口径的单晶碳化硅的曲面进行打磨；抛光部对应于大口径的单晶碳化硅的平面设置，抛光部能够转动用于对大口径的单晶碳化硅的平面进行打磨，且抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积。本发明技术方案中，机器人带动磨盘对大口径的单晶碳化硅的曲面打磨，抛光部转动对大口径的单晶碳化硅的平面打磨，能够满足双面抛光；同时抛光部的面积大于大口径的单晶碳化硅的平面的面积能够满足对大口径的单晶碳化硅的打磨条件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119260527B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202411787886.9
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光设备领域，公开了一种抛光机，包括：机架；工件调位机构，其设置于机架上，工件调位机构具有可自转的加工台，加工台顶侧设置有工件定位槽，加工台还可相对机架沿水平方向的轴线转动；加工机构，其设置于机架上，加工机构具有可三维活动的连接主轴；抛光头，包括主杆、压电促动器与抛光盘，主杆连接于连接主轴，压电促动器连接于主杆，压电促动器具有可上下活动的移动端，移动端传动连接抛光盘，本发明利用压电促动器对抛光盘的微动控制，可实现快速、准确地控制抛光盘活动，并且对于离轴非球面、自由曲面的光学镜片亦同样适用，提高了抛光机的加工效率、质量以及对不同形状光学镜片的适用性。
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公开(公告)号：CN119260529A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411787889.2
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光机床领域，公开了一种沥青磨头及一种抛光机，其中沥青磨头包括：连接盘，其顶侧设置有加热槽；沥青加工盘，其可拆卸地连接于所述连接盘的底侧；隔热盘，其底侧可拆卸地连接有加热源，所述隔热盘可拆卸地连接于所述连接盘的顶侧，所述加热源位于所述加热槽内，本发明通过对沥青加工盘加热软化，有效减少沥青加工盘硬度过高而对镜面造成划花的现象，提高了沥青加工盘对镜面抛光的平滑度，进一步减少光学加工中产生的中频误差，并且可根据对不同工件的加工需要更换不同的沥青加工盘以及加热源，适应不同的使用需求，不需要直接对整体进行更换，通用性更强。
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公开(公告)号：CN117140203B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311409197.X
申请日：2023-10-27
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B1/00 , B24B13/00 , B24B31/112 , B24B31/12 , B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种轻量化光学镜片的磁流变抛光固定装置以及固定方法，属于镜片抛光技术领域。固定装置包括配重块，配重块设有第一收纳槽，第一收纳槽用于依次对光学镜片的支撑座、连接轴和镜体进行收纳；第一收纳槽的槽底设有第二固定孔，第二固定孔能够供第一固定件进入第一收纳槽并与支撑座上的第一固定孔连接固定；第一收纳槽的槽壁能够与镜体上背向光学面延伸设置的侧壁相抵接；配重块的顶面围绕第一收纳槽形成有曲率半径与光学面一致的过渡面，过渡面能够与光学面相互拼接。本发明的优点在于，能够对光学镜片的重量进行补偿和对光学镜片的不规则结构进行填补，使光学镜片更容易定心和固定，从而满足超精密抛光的工装要求。
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公开(公告)号：CN115609388A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211218747.5
申请日：2022-09-29
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开一种用于监测单晶碳化硅的监测装置及监测方法，该用于监测单晶碳化硅的监测装包括：连接件，磨盘，两个工业相机和控制器；磨盘与连接件连接，磨盘用于对单晶碳化硅进行打磨；两个工业相机分别与连接件连接，两个工业相机用于采集单晶碳化硅的图像；控制器根据工业相机的信息控制磨盘停止打磨和/或输出报警信号。本发明技术方案中，通过两个工业相机，采集单晶碳化硅的图像，控制器根据工业相机的信息控制磨盘停止打磨和/或输出报警信号。通过两个工业相机对单晶碳化硅的打磨进行监测，任何一个工业相机识别到单晶碳化硅破裂时，控制输出报警信号，人员可以去除破裂的单晶碳化硅，防止对打磨设备造成损坏，同时能够保证安全性。
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公开(公告)号：CN111739464A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN202010571777.9
申请日：2020-06-22
Applicant: 季华实验室
IPC: G09G3/32
Abstract: 本发明涉及一种像素驱动电路、显示阵列及其驱动控制方法；该电路的行选薄膜晶体管栅极连接行选通数据线，开关薄膜晶体管栅极连接数据线，LED发光器件连接在第一电压端与第二电压端之间；当行选薄膜晶体管和开关薄膜晶体管导通时，电压驱动芯片上的数据驱动电压使驱动薄膜晶体管导通，并使亚像素中的LED发光器件发光，数据驱动电压大小用于控制LED发光器件的电流大小；串进并出移位锁存器用于提供开关薄膜晶体管导通和截止的脉宽调制控制信号，以控制LED发光器件的发光时间；所述LED显示阵列采用将像素数据赋予权值进行脉宽调制的数字驱动控制方法，解决了现有TFT显示驱动控制无法实现整个显示面板的高刷新率的问题。
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