面向多核程序确定性重演的内存竞争记录装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN103020003A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210590026.7

    申请日:2012-12-31

    Abstract: 面向多核程序确定性重演的内存竞争记录装置及其控制方法,涉及一种内存竞争记录装置,为了解决实现内存竞争记录的方法成本高的问题。它为基于Cache一致性协议的多核处理器系统,实现了多核程序运行时内存竞争的记录,所述记录的方法不直接记录内存竞争对应的依赖关系,而是记录用竞争发生时由竞争双方所在处理器核的当前指令表示的间接依赖关系,为每个线程记录一个由间接依赖关系构成的内存竞争日志;记录内存竞争的间接依赖关系,无需为每个内存块保存对应内存操作指令的指令计数值,而是为每条指令存储一个具有更小尺寸的段时戳。同时使用分段方法实现内存竞争日志的约减,大大降低了硬件资源消耗。它用于多核程序调试、入侵检测和容错。

    能够在1100℃环境下长期服役的分级孔径柔性气凝胶隔热涂料

    公开(公告)号:CN119529666A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411613940.8

    申请日:2024-11-13

    Abstract: 本发明公开了一种能够在1100℃环境下长期服役的分级孔径柔性气凝胶隔热涂料,属于隔热涂料技术领域,气凝胶涂料中各组分按质量份数计,由磷酸二氢铝10‑30份,水10‑35份,γ‑缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷10‑30份,α‑氧化铝5‑17份、乳化剂1‑3份,消泡剂1‑3份,气凝胶纳米纤维1‑6份,气凝胶粉末3~5份组成。本发明制备的2‑3mm厚的气凝胶涂料在正面1050‑1100℃加热情况下,背温可控制在300℃以下,满足钢结构等金属的隔热要求,具有优异的防火性能。本涂料制备工艺简单,生产成本低廉,隔热防火性能优异,具有广泛的应用前景。

    多轴支撑气浮平台的调平方法

    公开(公告)号:CN103292130B

    公开(公告)日:2015-03-04

    申请号:CN201310187793.8

    申请日:2013-05-20

    Abstract: 多轴支撑气浮平台的调平方法,属于超精密仪器设备平台技术领域。本发明为了解决现有支撑平台的调平状态受限,应用范围狭窄的问题。它通过上位机将当前的工作模式、控制命令和误差参数通过以太网发送给控制器;控制器每200μs发出伺服周期开始信号,启动平动状态工作模式或静止状态工作模式;控制器对其读取的所有反馈信号进行数据融合处理,获得支撑腿的调节量,然后控制器通过驱动伺服音圈电机驱动器对伺服音圈电机的驱动信号进行修正,然后再判断承载平台是否静止及水平度是否达到设定精度范围之内,若是,当前伺服周期调平结束,等待下一个伺服周期,直至结束。本发明用于气浮平台的调平。

    多轴支撑气浮平台的调平方法

    公开(公告)号:CN103292130A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310187793.8

    申请日:2013-05-20

    Abstract: 多轴支撑气浮平台的调平方法,属于超精密仪器设备平台技术领域。本发明为了解决现有支撑平台的调平状态受限,应用范围狭窄的问题。它通过上位机将当前的工作模式、控制命令和误差参数通过以太网发送给控制器;控制器每200μs发出伺服周期开始信号,启动平动状态工作模式或静止状态工作模式;控制器对其读取的所有反馈信号进行数据融合处理,获得支撑腿的调节量,然后控制器通过驱动伺服音圈电机驱动器对伺服音圈电机的驱动信号进行修正,然后再判断承载平台是否静止及水平度是否达到设定精度范围之内,若是,当前伺服周期调平结束,等待下一个伺服周期,直至结束。本发明用于气浮平台的调平。

    基于VME总线的步进扫描光刻机的同步控制系统及该系统的同步控制方法

    公开(公告)号:CN102621826B

    公开(公告)日:2013-09-18

    申请号:CN201210120751.8

    申请日:2012-04-23

    CPC classification number: Y02P90/02

    Abstract: 基于VME总线的步进扫描光刻机的同步控制系统及该系统的同步控制方法,本发明具体涉及基于VME总线的步进扫描光刻机的同步控制系统及该系统的同步控制方法。它为了解决步进扫描光刻机曝光过程中的同步误差大,光刻效率低的问题。本发明的上位机与下位机通过以太网连接,同步控制组件通过VME64标准总线与下位机连接,同步控制组件通过VME64自定义协议总线与激光计数组件和运动控制组件连接,同步控制组件的网口通过网线与下位机的网口连接,VME总线包括VME64自定义协议总线和VME64标准总线。本发明达到了控制和减小步进扫描过程中的同步误差,提高光刻效率的目的。本发明适用于扫描光刻机领域。

    基于VME总线的步进扫描光刻机的同步控制系统及该系统的同步控制方法

    公开(公告)号:CN102621826A

    公开(公告)日:2012-08-01

    申请号:CN201210120751.8

    申请日:2012-04-23

    CPC classification number: Y02P90/02

    Abstract: 基于VME总线的步进扫描光刻机的同步控制系统及该系统的同步控制方法,本发明具体涉及基于VME总线的步进扫描光刻机的同步控制系统及该系统的同步控制方法。它为了解决步进扫描光刻机曝光过程中的同步误差大,光刻效率低的问题。本发明的上位机与下位机通过以太网连接,同步控制组件通过VME64标准总线与下位机连接,同步控制组件通过VME64自定义协议总线与激光计数组件和运动控制组件连接,同步控制组件的网口通过网线与下位机的网口连接,VME总线包括VME64自定义协议总线和VME64标准总线。本发明达到了控制和减小步进扫描过程中的同步误差,提高光刻效率的目的。本发明适用于扫描光刻机领域。

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