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公开(公告)号：CN107893216B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201710944000.0
申请日：2017-09-30
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种修正石英监控法制备宽带增透膜沉积误差的方法，该方法包括以下步骤：1)设计监控厚度，制备一四层膜系，该四层膜系包括由高折射率材料制成的两种厚度的两层薄膜和由低折射率材料制成的两种厚度的两层薄膜；2)通过对制备的四层膜系的逆向反演及线性拟合，获得高折射率材料和低折射率材料的薄膜厚度偏差；3)以相同材料的所述薄膜厚度偏差对待制备的宽带增透膜的镀膜参数进行修正。与现有技术相比，本发明可以有效地修正沉积误差并提高光谱性能、操作简单且普适性强，使得宽带增透膜可以在实际中广泛生产。
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公开(公告)号：CN106862114B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201710070731.7
申请日：2017-02-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种LBO晶体表面镀膜前的清洗方法，将LBO晶体依次执行下述步骤：采用无水乙醇和乙醚混合液擦拭LBO晶体表面；采用弱碱性溶液对LBO晶体进行超声波清洗，所述弱碱性溶液包括NH4OH和H2O2，体积比为NH4OH：H2O2：H2O＝1:8:50；采用无水乙醇对LBO晶体进行漂洗；将LBO晶体放置于装有无水乙醇的密闭容器内，对LBO晶体进行超声加热清洗；取出LBO晶体，再次漂洗；在正压容器环境中利用干燥氮气风刀对LBO晶体进行干燥。与现有技术相比，本发明具有清洗效果好，既可以提升LBO晶体镀膜后的抗激光损伤特性，又可以提升其镀膜后的薄膜附着力及抗裂纹特性等优点。
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公开(公告)号：CN103175886B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201310090224.1
申请日：2013-03-20
Applicant: 同济大学
IPC: G01N27/60
Abstract: 本发明涉及一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法，属于高功率激光元器件技术领域。该方法通过调控电场在基板亚表面中的分布，可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面中的深度分布信息。该方法的步骤包括基于高反射膜的基板亚表面电场设计、基板的清洗、高反射薄膜制备、高反射薄膜的光谱测量及拟合、损伤阈值测试。实验证明，采用本发明可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面数十纳米至数百纳米深度范围内分布的相对信息。该方法具有设计思路简单，可操作性强，检测结果直观可靠等优点，对于改进光学基板冷加工技术，控制基板亚表面层中残余的吸收性颗粒，提高光学基板的损伤阈值具有重要的指导意义。
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公开(公告)号：CN103014616B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201210507272.1
申请日：2012-12-03
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心，在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度，大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103882385A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410050340.5
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种提高氧化物薄膜抗激光损伤阈值的蒸镀方法。主要针对抗激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——薄膜中的吸收及缺陷。通过在蒸发源与基板之间添加隔离挡板，阻挡并吸附无效的蒸发材料，减少了基板附近的污染，降低了薄膜缺陷形成的几率；在真空室导入氧化能力比普通分子态氧气和离子氧更强的氧自由基，使氧自由基气体略入射基板表面，使得沉积材料在高真空条件下充分氧化成为了可能，降低了薄膜的吸收，从而得到阈值更高的氧化物薄膜。此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度；具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103226057A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310102099.1
申请日：2013-03-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种真空环境下高效率多功能的激光损伤测试装置和方法，真空腔内的样品台一次可以放入五个样品，通过旋转样品台，可以将样品依次旋转至激光辐照位置进行激光损伤测试，利用CCD相机在线成像和散射光探测装置以及压力探测元件进行在线监测、判断损伤情况，还可以将样品旋转至观察窗用显微镜离线观察分析其损伤形貌。同时样品台的旋转又能够实现样品的正面和背面分别接受激光辐照的功能。该装置简单易操作，极大地节省了真空环境下的损伤测试时间，提高了损伤测试的效率，同时测试方法和功能多样，能够得到比较全面的损伤信息。
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公开(公告)号：CN103215550A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310102800.X
申请日：2013-03-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对近红外激光高反膜中限制阈值的瓶颈——节瘤。当前的技术手段主要通过消除节瘤，即降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但在当前技术条件下，消除节瘤需要耗费巨大的成本，而且无法完全消除。本发明提出了一种直接改善节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，镀膜工艺决定了节瘤的几何特性，而节瘤的几何特性与抗激光损伤特性息息相关。通过加大薄膜分子在基板沉积的入射角，降低入射分子的沉积动能，可以使得节瘤的阈值得到明显改善。此方法具有针对性强、效率高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN104032266B
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201410050291.5
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Inventor： 程鑫彬 , 阿卜杜萨拉木·图尼亚孜 , 焦宏飞 , 鲍刚华 , 王占山
Abstract: 本发明涉及一种提高光学薄膜损伤阈值的设计方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射膜中影响损伤阈值的最主要的缺陷‑节瘤缺陷。节瘤缺陷的阈值决定整个薄膜的阈值。目前提高高反膜激光损伤阈值的技术手段主要通过消除节瘤，即尽可能的降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但是在目前的技术条件下，消除节瘤需要的工艺难度大，需要的成本高，而且无法完全消除。本发明提出了一种直接提高节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，电场在节瘤损伤特性中起很重要的角色，而节瘤中的电场与节瘤的几何特性和光谱特性信息相关。通过改变膜系设计来降低节瘤中的电场强度，从而提高节瘤的损伤阈值。此方法具有针对性强，效率高，简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103882385B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201410050340.5
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种提高氧化物薄膜抗激光损伤阈值的蒸镀方法。主要针对抗激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——薄膜中的吸收及缺陷。通过在蒸发源与基板之间添加隔离挡板，阻挡并吸附无效的蒸发材料，减少了基板附近的污染，降低了薄膜缺陷形成的几率；在真空室导入氧化能力比普通分子态氧气和离子氧更强的氧自由基，使氧自由基气体略入射基板表面，使得沉积材料在高真空条件下充分氧化成为了可能，降低了薄膜的吸收，从而得到阈值更高的氧化物薄膜。此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度；具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN104101932A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410336342.0
申请日：2014-07-16
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/28
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片，主要针对短波通滤光片中影响半波孔的一个关键因素——材料非均质性。膜系设计包含两部分：薄膜周期结构和与基板和空气的导纳匹配层。薄膜由H和L组成，H，L分别表示光学厚度为1/4参考波长的高、低折射率膜层。膜系基本周期结构为（0.5LH0.5LHL），周期为N，参考波长为高反射带中心波长。采用常规薄膜设计软件，在基板与薄膜周期结构之间，空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层，得到消除半波孔的膜系设计。该发明将薄膜基本周期结构的导纳误差降到近似为零，该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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