公开(公告)号：CN116632116A

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202310779366.2

申请日：2023-06-29

Applicant: 兰州大学

Inventor： 张泽民 ,  刘彗雅 ,  胡孝梁

IPC: H01L31/18 ,  H01L31/0445 ,  H01L31/032

Abstract: 本发明公开了一种静电掺杂实现BiFeO3薄膜P‑N型反转的新方法，即在BiFeO3薄膜上滴加离子液体并施加电压，通过电场作用下的离子迁移实现BiFeO3薄膜的P‑N型反转。这一发现不仅拓宽了人们对静电掺杂这种半导体工艺的认知，加深了对BiFeO3半导体薄膜光电转换性能的调控能力，还为BiFeO3薄膜光电转换器件的构建与应用提供了新思路与新方向。本发明不但解决了目前BiFeO3薄膜P‑N型反转的难点，并且结构和设备简单，步骤简便，可控性强，反型效率高且可量化，具有较强的推广性。

公开(公告)号：CN112903792B

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202110111365.1

申请日：2021-01-27

Applicant: 兰州大学

Inventor： 张泽民 ,  孙萌迪 ,  刘博

IPC: G01N27/416 ,  G01N27/30 ,  G01N21/65

Abstract: 本发明公开了一种新型多功能光电化学反应池，可实现双面、单面导通的半导体薄膜光电极的光电化学性能测试。同时也可以作为原位Raman光谱学研究的反应池。通过准确控制工作电极的工作面积、与对电极的距离，实现样品光电化学性能的精准测试，并通过正反面入射光测试，实现载流子传输距离的测试分析。本发明不仅结构简单、成本低廉，而且还能保证样品性能测试的准确性，提高研究质量。

公开(公告)号：CN107245752B

公开(公告)日：2019-04-30

申请号：CN201710271260.6

申请日：2017-04-24

Applicant: 兰州大学

Inventor： 谢二庆 ,  张泽民 ,  杨佳明 ,  江筱

IPC: C25D21/12 ,  C25D19/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种连续离子层吸附沉积法量子点制备装置及其方法，包括控制盒、固定螺杆、固定盖、旋转轴、盛液烧杯、连接轴、升降电机、升降杆、基片夹具；采用可编程步进电动机和单片机对实验过程中的关键参数如基底下降速度、浸渍时间、提拉时间、样品烘干速度、烘干温度、以及沉积次数等进行精确控制，连续可调；为高效率、大面积、均匀沉积量子点提供可行方案。本发明所述的连续离子层吸附沉积法量子点制备装置实现了量子点的高效、可靠、大面积制备。该技术将在实验室甚至工业生产中产生重要的影响和推动。

公开(公告)号：CN119008473A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202411233933.5

申请日：2024-09-04

Applicant: 兰州大学

Inventor： 张泽民 ,  骆莉莉

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种热脉冲处理氧化物半导体薄膜的方法及装置，所述方法为基于氢氧发生器的热脉冲退火，将待处理样品置于开放环境中的金属基底上，进行N次热脉冲退火后得到处理后样品，且9≤N≤15所述热脉冲退火的温度为800~1000℃，所述热脉冲退火处理持续时间为0.5~1s，所述热脉冲退火的频率为0.5~1 Hz；所述待处理样品为待处理的氧化物半导体薄膜，所述待处理样品内的氧空位浓度为n1，且氧空位均匀分布，n1＜38%；所述处理后样品为完成退火的氧化物半导体薄膜，所述处理后样品的表层膜的氧空位浓度为n2，所述表层膜的厚度为d，且满足40 %≤n2≤55 %，d＜10nm。本发明所述的方法及装置能够精准调控样品内部氧空位分布及浓度且不损伤样品。

公开(公告)号：CN115463777B

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202211021612.X

申请日：2022-08-24

Applicant: 兰州大学

Inventor： 张泽民 ,  余凯

IPC: C23C18/12

Abstract: 本发明公开了一种新型的超声喷雾热解旋转镀膜机，通过超声雾化的方式将含有膜成分的前驱体溶液分散成尺寸均匀的微米级微粒，利用压缩气体作为载气，将前驱体微粒喷洒到高速旋转的基底上，在离心力作用下微粒变成纳米级液膜，后经热解成薄膜。本发明巧妙结合了喷雾热解和高速旋涂两种制膜方法的优势，制备的薄膜具有尺寸可调，大面积均匀，致密度高等特点，能够满足诸多领域对于高质量薄膜的要求。本发明不仅功能强大还结构简单、成本低廉，能够广泛应用到各种工业和实验室镀膜环境中，提高镀膜效率和质量。

公开(公告)号：CN105890841A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201410686895.9

申请日：2014-11-26

Applicant: 兰州大学

Inventor： 韩卫华 ,  王有庆 ,  张泽民 ,  于凯 ,  谢二庆

IPC: G01L25/00 ,  G01L27/00 ,  B82Y35/00

Abstract: 一种简易可编程微弱应力施加装置，它涉及传感器件和纳米压电发电机测试技术领域，竖直支架设置在测试平台底座的一端，水平支架的一端与竖直支架连接，高频高灵敏度压力传感器与控制与数据采集电脑连接，控制与数据采集电脑与可编程电流信号发生器连接，可编程电流信号发生器与轻质电感线圈连接，轻质电感线圈与轻质悬挂弹簧连接，永久磁铁设置在磁力升降平台的底部，它运用了手动两级逼近装置结合电磁控制轻质悬浮平台实现了对样品的接触，其操作简单，制造成本低廉，维护简便。