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公开(公告)号：CN103240665B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201310088370.0
申请日：2013-02-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: B24B1/00 , B24B37/044 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种合成石英玻璃衬底的制造方法。使用含有四方或立方氧化锆的抛光浆料将起始合成石英玻璃衬底的粗糙表面抛光至镜面光洁度。
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公开(公告)号：CN106141918A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201610317737.5
申请日：2016-05-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及基板的制备方法。本发明提出基板的制备方法、特别是合成石英玻璃的基板的制备方法，同时使基板表面免于致命性缺陷而没有采取任何大规模装置和精密抛光板，由此与用常规设施制备相比，进一步减少缺陷和改善收率。通过抛光制备基板的方法，包括如下步骤：将基板原料各自放入下抛光板上的载体中形成的加工孔中；使上抛光板接触所述基板原料的表面，所述基板原料的表面涂覆有冲击吸收液并且使所述下抛光板旋转；和使所述上抛光板和下抛光板旋转，所述基板原料的表面伴有抛光浆料。
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公开(公告)号：CN102096311B
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201010582088.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/60 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/60 , G03F1/14 , Y10T428/24488
Abstract: 提供了一种形成光掩模的玻璃基板，其具有方形主表面，其中在该主表面上限定两个条带区域，使得每一区域跨展在侧边内2mm至10mm之间并且不包括从该侧边的相对的端部向内延伸2mm的端部部分，对两个条带区域中的每一个计算最小二乘平面，两个条带区域的最小二乘平面的法线之间包括的角度在10秒内，并且两个条带区域之间高度差为直至0.5μm。
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公开(公告)号：CN103159250A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201210553192.X
申请日：2012-12-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C01F17/00
CPC classification number: C09K3/1409 , C01F17/0043 , C09G1/02
Abstract: 本发明涉及一种用于回收氧化铈的方法。本发明特别涉及一种用于从主要由氧化铈组成的磨料废物回收氧化铈的方法，所述磨料废物源自玻璃衬底的抛光，所述方法包括以下步骤：（i）向磨料废物添加碱性物质的水溶液；（ii）向所得的溶液添加沉淀剂，从而形成主要由氧化铈组成的沉淀物，并且除去上清液；（iii）向所得的沉淀物添加酸性物质的溶液，从而使所述沉淀物为微酸性至中性；（iv）用有机溶剂洗涤该沉淀物；以及（v）干燥并且压碎沉淀物。该方法使将磨料废物再造成主要由氧化铈组成的纯磨料成为可能，可再使用该磨料来抛光与光掩模和中间掩模相关的半导体尖端技术的合成石英玻璃衬底。
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公开(公告)号：CN101430499B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200810188750.0
申请日：2008-07-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: H01L21/67359 , H01L21/67393 , Y10T428/13 , Y10T428/131 , Y10T428/1314
Abstract: 一种用于容纳形成光掩模的合成石英玻璃衬底的存储容器，其包括面向玻璃衬底的前和后表面的内壁，和提供在容器内壁上用于收纳用以吸附来自容器的释气成分的吸附剂的贮存器。比率A/B在1.0-120m2/cm2范围内，设A是吸附剂的BET比表面积(m2/g)乘以吸附剂总重量(g)的乘积(m2)，和B是玻璃衬底前和后表面的总面积(cm2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102516872A
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201110286406.7
申请日：2011-07-26
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: B24B1/00 , B24B37/044 , C03C19/00 , C09G1/02
Abstract: 一种包括胶原衍生物和胶体溶液的抛光浆料，其有效抛光合成石英玻璃基板。其防止具有可被高灵敏度缺陷探测仪检测到的尺寸的缺陷的形成。
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公开(公告)号：CN102314082A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110259707.0
申请日：2011-06-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种用于制造电子级合成石英玻璃衬底的方法。通过机加工整体上具有至多3nm/cm的最大双折射率的合成石英玻璃衬底的至少一个表面以形成凹槽、沟道或台阶，和去除由机加工所致的残余应力来制造具有凹槽、沟道或台阶的电子级合成石英玻璃衬底。
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公开(公告)号：CN101804589A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN201010173034.2
申请日：2010-01-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: B24B7/241 , B24B13/0018 , B24B41/053
Abstract: 本发明公开了一种加工半导体用人造石英玻璃基板的方法，其中使小型旋转式加工工具的抛光部件接触人造石英玻璃基板的表面，接触面积为1～500mm2，并且旋转的同时在基板表面上扫描移动，从而抛光基板表面。当利用这种方法制造人造石英玻璃，如IC等制造中重要的光刻用光掩模基板时，可以比较容易和廉价地得到具有极好平整度并且甚至能用于EUV光刻的基板。
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公开(公告)号：CN117226680A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310687732.1
申请日：2023-06-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种衬底及其制造方法。本文中提供了用于制造适于EUVL的掩模坯料的衬底的方法，以及能够抑制深度小于5nm的凹陷缺陷的方法。本发明提供了制造衬底的方法，其中通过具有配备有抛光垫的上抛光板的抛光设备来进行最终抛光，所述方法包括以下步骤：将衬底原料放置在抛光设备中，使得该衬底原料的主表面朝向该上抛光板；旋转上抛光板并在衬底原料的主表面上与抛光浆料一起抛光该衬底原料；以及将保持旋转的上抛光板升高以使其与抛光的衬底原料的主表面分离。
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公开(公告)号：CN113497172A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110288846.X
申请日：2021-03-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及带抗反射膜的合成石英玻璃基板、窗材料、光学元件封装用盖、光学元件封装和光照射装置。带抗反射膜的合成石英玻璃基板，包括：合成石英玻璃基板；和在合成石英玻璃基板的主面上形成的抗反射膜，其中，合成石英玻璃基板的主表面的通过JIS R 3257：1999的静滴法测定的接触角在5度以内，并且抗反射膜包括在合成石英玻璃基板的主表面上依次层叠的含Al2O3的第一层、含HfO2的第二层和含MgF2或SiO2的第三层。
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