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公开(公告)号:CN114063388A
公开(公告)日:2022-02-18
申请号:CN202110885231.5
申请日:2021-08-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜及其制造方法、图案形成方法。本发明的课题旨在提供可形成微细图案,并可获得高分辨率,且即使于低温硬化时,机械特性亦良好,而且无于高温高湿试验前后的密接力劣化的正型感光性树脂组成物、及正型感光性干薄膜。一种正型感光性树脂组成物,含有:(A)碱可溶性树脂,含有选自聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的至少1种以上的结构;(B)交联性高分子化合物,含有下列通式(1)表示的结构单元,且具有会与(A)成分交联的基团;及(C)感光剂,是因光而产生酸且对于碱水溶液的溶解速度增大的感光剂,为具有醌二叠氮化物结构的化合物。
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公开(公告)号:CN114063387A
公开(公告)日:2022-02-18
申请号:CN202110884911.5
申请日:2021-08-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜。本发明的课题是提供能形成矩形性高的微细图案并可获得高分辨率,且即使于低温硬化时机械特性亦良好,而且高温高湿试验前后的密接力不会劣化的负型感光性树脂组成物。一种负型感光性树脂组成物,含有:(A)碱可溶性树脂,含有选自聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的至少1种以上的结构;(B)交联性高分子化合物,含有下列通式(1)表示的结构单元,且具有会与(A)成分交联的基团;(C)因光而产生酸的化合物;及(D)热交联剂。
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公开(公告)号:CN106249542B
公开(公告)日:2020-10-23
申请号:CN201610405479.6
申请日:2016-06-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/075 , H01L21/312
Abstract: 本发明提供一种半导体装置,其利用在半导体元件上实施微细电极形成,并在半导体元件外部实施贯穿电极,使在配线基板上的载置和半导体装置的积层变得容易。为了解决上述课题,本发明提供一种半导体装置,其具有半导体元件、和与所述半导体元件电连接的半导体元件上金属焊盘及金属配线,所述金属配线与贯穿电极及焊料凸块电连接,其中,在所述半导体元件上形成有第一感光性绝缘层,在所述第一感光性绝缘层上形成有第二感光性绝缘层,所述第一感光性绝缘层及所述第二感光性绝缘层由光固化性树脂组合物形成,所述光固化性树脂组合物含有:具有由下述通式(1)及(2)所表示的重复单元的硅酮高分子化合物、光致产酸剂、溶剂及交联剂,
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公开(公告)号:CN105315467B
公开(公告)日:2019-12-20
申请号:CN201510454091.0
申请日:2015-07-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供了带有有机硅结构的聚合物,其包含衍生自双(4‑羟基‑3‑烯丙基苯基)衍生物的重复单元并具有3,000‑500,000的Mw。包含所述聚合物的化学增幅型负型抗蚀剂组合物克服了将涂层从Cu或Al的金属配线、电极和SiN基材剥离的剥离问题。
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公开(公告)号:CN110016136A
公开(公告)日:2019-07-16
申请号:CN201811477764.4
申请日:2018-12-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够导出聚酰亚胺的四羧酸二酐、使用该四羧酸二酐而得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法,所述聚酰亚胺可在不损害机械强度、密着性等优异的特征的情况下形成微细的图案并得到高分辨率,且可用作光敏树脂组合物的基础树脂。所述四羧酸二酐的特征在于,为下述通式(1)所示的四羧酸二酐。[化学式1]
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公开(公告)号:CN115044040B
公开(公告)日:2024-07-02
申请号:CN202210219992.1
申请日:2022-03-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含有聚酰亚胺的聚合物、正型感光性树脂组成物、负型感光性树脂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供溶剂溶解性良好且可溶于碱性水溶液中,又可形成微细图案且能获得高分辨率的正型感光性树脂组成物及负型感光性树脂组成物;可使用作为它们的基础树脂的含有聚酰亚胺的聚合物;以及使用了上述组成物的图案形成方法及硬化被膜形成方法。上述课题的解决手段为一种聚合物,其特征为:包含下列通式(1)表示的结构单元。#imgabs0#式中,X1为4价的有机基团,Z1为2价的有机基团,k=1~3的整数。
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公开(公告)号:CN116991034A
公开(公告)日:2023-11-03
申请号:CN202310474659.X
申请日:2023-04-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/075 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/32 , C08L33/06 , C08L33/08 , C08L33/14 , C08L33/26 , G03F1/48
Abstract: 本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件。一种负型感光性树脂组成物,包含:下列结构中的1种以上:聚酰亚胺结构、聚酰胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱物结构;光酸产生剂;下列交联剂中的1种以上:经甲醛或甲醛‑醇改性的氨基缩合物、1分子中平均具有2个以上的羟甲基或烷氧基羟甲基的苯酚化合物、多元苯酚的羟基的氢原子取代成环氧丙基或具有环氧丙基的基团的化合物、多元苯酚的羟基的氢原子取代成式(C‑1)表示的取代基的化合物、式(C‑15)表示的化合物、及含有2个以上式(C‑2)表示的具有环氧丙基的氮原子的化合物;式(1)表示的鎓盐;溶剂。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN113527101A
公开(公告)日:2021-10-22
申请号:CN202011486319.1
申请日:2020-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种化合物、使用该化合物得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法,所述化合物能够衍生出聚酰亚胺,该聚酰亚胺能够用作不损害机械强度、溶解性等优异的特征,可形成微细的图案且能够获得高分辨率的光敏性树脂组合物的基础树脂。所述化合物的特征在于,由下述通式(1)表示。
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公开(公告)号:CN110016136B
公开(公告)日:2021-09-24
申请号:CN201811477764.4
申请日:2018-12-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够导出聚酰亚胺的四羧酸二酐、使用该四羧酸二酐而得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法,所述聚酰亚胺可在不损害机械强度、密着性等优异的特征的情况下形成微细的图案并得到高分辨率,且可用作光敏树脂组合物的基础树脂。所述四羧酸二酐的特征在于,为下述通式(1)所示的四羧酸二酐。[化学式1]
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