基板处理装置、基板处理方法以及物品的制造方法

    公开(公告)号:CN116666261A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310140960.7

    申请日:2023-02-16

    Abstract: 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及物品的制造方法。基板处理装置的特征在于通过如下干燥工序使基板上的膜进行干燥,干燥工序包括:第一干燥工序,使基板上的膜在比既定压力高的压力下进行干燥;第二干燥工序,使膜在比既定压力低的压力下进行干燥,基板处理装置具有:保持基板的基板保持部;腔室;对腔室的内部进行减压的减压机构;罩盖,其设置有开口,并且在腔室的内部中覆盖被基板保持部保持的基板;第一供给部,其向腔室的内部且为罩盖的外部即第一空间供给气体;第二供给部,其向腔室的内部且为罩盖的内部即第二空间供给气体,第一供给部在第一干燥工序中向第一空间供给气体,第二供给部在第二干燥工序中向第二空间供给气体。

    光学元件、遮光涂料组和光学元件的制造方法

    公开(公告)号:CN109343216A

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201811315636.X

    申请日:2016-02-05

    Abstract: 本发明提供一种光学元件、遮光涂料组和光学元件的制造方法。该光学元件包括基材和该基材的周边的一部分上的遮光膜。该遮光膜含有具有环氧基的化合物、着色剂、具有2.2以上的折射率的无机颗粒和二氧化硅颗粒。自该基材与该遮光膜之间的界面具有15nm的厚度的界面区域中该无机颗粒的平均浓度为该遮光膜中该无机颗粒的平均浓度的1.1-1.5倍。

    光学构件及其制造方法
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107229086A

    公开(公告)日:2017-10-03

    申请号:CN201710167451.8

    申请日:2017-03-21

    Inventor: 寺本洋二

    Abstract: 公开了光学构件及其制造方法。该光学构件包括光透射基板,该光透射基板具有包括光学有效区域和光学无效区域的表面,光学有效区域和光学无效区域彼此相邻,光学有效区域和光学无效区域在其边界上形成不小于45度且不大于90度的角度。光学构件具有纹理化结构,该纹理化结构具有不大于使用波长的面内尺寸,该结构连续形成在沿着光学有效区域和光学无效区域的边界延伸的边界区域中,并且遮光膜形成在基板的表面上的光学无效区域的包括至少边界区域在内的区域中。

    电子发射元件、电子源和图像显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN1574159A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410001835.5

    申请日:2004-01-14

    Inventor: 寺本洋二

    CPC classification number: H01J9/025

    Abstract: 提供制造工艺是容易的、电子束直径的控制性是良好的电子发射元件的制造方法。上述电子发射元件的制造方法具有下述工序:(A)在基板上配置由覆盖上述基板的第1导电层、覆盖上述第1导电层并包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层、覆盖上述包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层的保护层、覆盖上述保护层的第2导电层、覆盖上述第2导电层的绝缘层和覆盖上述绝缘层的第3导电层构成的构件的工序;(B)利用干法刻蚀形成从上述第3导电层的表面延伸到上述保护层的开口的工序;以及(C)通过经上述开口对上述保护层进行湿法刻蚀,使上述包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层的一部分在上述开口部内露出的工序。

    透光部件和护罩
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114325887B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202111148212.0

    申请日:2021-09-29

    Abstract: 透光部件包括基材和设置在基材上的功能膜,所述基材包括树脂层。所述基材具有1μm以上且小于1mm的厚度。对于波长为464nm以上且653nm以下的光,所述功能膜的光学厚度小于所述波长的一半。对于透光部件中的功能膜的上表面的水接触角小于90°。所述功能膜具有含多个颗粒的多孔部分。所述多个颗粒中的第一颗粒和第二颗粒用粘合剂彼此结合。第一颗粒、第二颗粒和粘合剂各自含有无机材料。

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