基板处理装置、基板的处理方法、物品的制造方法、计算机程序产品、计算机可读存储介质

    公开(公告)号:CN119012877A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202410591667.7

    申请日:2024-05-14

    Abstract: 本发明提供以高的处理量适当地处理基板的干燥的基板处理装置、基板的处理方法、物品的制造方法、计算机程序产品、计算机可读存储介质。使用基板处理装置的基板处理方法具备:将具有膜的基板载置在配置在腔室的内部的基板保持部的工序;用挡板罩覆盖载置在基板保持部的基板的工序;对腔室的内部进行减压而使膜干燥的工序;使用具备分压真空计的气体分析部,单独地检测存在于由基板保持部和挡板罩包围的基板收容空间中的气体和存在于腔室和挡板罩之间的内部空间中的气体的工序;以及判定工序,使用基板收容空间中的特定的气体成分的检测结果和内部空间中的特定的气体成分的检测结果,判定与特定的气体成分有关的膜的干燥的结束。

    基板处理装置和物品的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118237241A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202311748207.2

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 本发明提供降低配置在基板之上的溶液的干燥速度的偏差且提高干燥速度的基板处理装置和物品的制造方法。基板处理装置具备:气密容器;减压机构,对所述气密容器的内部进行减压;基板保持部,配置于所述气密容器的内部,且能够保持基板;以及旋转构件,在所述气密容器的内部配置于与保持于所述基板保持部的所述基板相向的位置,且能够相对于所述基板保持部旋转。

    包括层叠体的部件以及包括层叠体的部件的制造方法

    公开(公告)号:CN116099743A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202211390667.8

    申请日:2022-11-07

    Inventor: 寺本洋二

    Abstract: 本发明涉及包括层叠体的部件以及包括层叠体的部件的制造方法。提供了一种部件,其中改善位于外部的最外表面上的第二层的强度以便足够表现和维持功能,由此改善耐冲击性和耐刮擦性。该部件是依次包括基材、第一层、第二层和第三层的部件,其中第一层是多个无机颗粒彼此接合于其中的无机多孔层,并且第一层和第二层具有0.3μm以上且2μm以下的总厚度,其中第三层含有树脂并且具有0.4μm以上且2000μm以下的厚度,其中第二层含有无机颗粒和树脂。

    光学装置、要设置在光学装置表面上的膜以及要用于光学装置的涂料

    公开(公告)号:CN108710162B

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN201810323174.X

    申请日:2018-04-12

    Abstract: 本发明提供光学装置、要设置在光学装置表面上的膜以及要用于光学装置的涂料。提供了一种光学装置,其包括透镜和保持透镜的透镜镜筒,其中在透镜镜筒的表面上形成了膜,该膜包含树脂、涂覆有二氧化硅的氧化钛和无机粒子,该无机粒子的平均粒径为10nm以上且110nm以下,并且涂覆有二氧化硅的氧化钛的平均粒径为0.2μm以上。因此,可以获得一种光学装置,该光学装置即使颜色浅时,在缺氧气氛中也具有较少由于的日光引起的变色和较少的反射率劣化,并且具有高日光反射率。

    透光部件和护罩
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114325887A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202111148212.0

    申请日:2021-09-29

    Abstract: 透光部件包括基材和设置在基材上的功能膜,所述基材包括树脂层。所述基材具有1μm以上且小于1mm的厚度。对于波长为464nm以上且653nm以下的光,所述功能膜的光学厚度小于所述波长的一半。对于透光部件中的功能膜的上表面的水接触角小于90°。所述功能膜具有含多个颗粒的多孔部分。所述多个颗粒中的第一颗粒和第二颗粒用粘合剂彼此结合。第一颗粒、第二颗粒和粘合剂各自含有无机材料。

    电子发射元件、电子源和图像显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN100435262C

    公开(公告)日:2008-11-19

    申请号:CN200410001835.5

    申请日:2004-01-14

    Inventor: 寺本洋二

    CPC classification number: H01J9/025

    Abstract: 提供制造工艺是容易的、电子束直径的控制性是良好的电子发射元件的制造方法。上述电子发射元件的制造方法具有下述工序:(A)在基板上配置由覆盖上述基板的第1导电层、覆盖上述第1导电层并包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层、覆盖上述包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层的保护层、覆盖上述保护层的第2导电层、覆盖上述第2导电层的绝缘层和覆盖上述绝缘层的第3导电层构成的构件的工序;(B)利用干法刻蚀形成从上述第3导电层的表面延伸到上述保护层的开口的工序;以及(C)通过经上述开口对上述保护层进行湿法刻蚀,使上述包含构成电子发射体的材料的至少一部分的层的一部分在上述开口部内露出的工序。

    电子发射器件、电子源和图像显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN1929072A

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:CN200610128583.1

    申请日:2006-09-05

    Inventor: 寺本洋二

    CPC classification number: H01J1/304 H01J9/025 H01J29/04 H01J31/127

    Abstract: 一种制造电子发射器件的方法,包括如下步骤:隔着插入其间的绝缘层3层叠阴极电极2和栅极电极4,将阴极电极2上的电子发射膜5设置在穿过栅极电极4和绝缘层3的栅极孔中。其中,形成第二孔,该第二孔在绝缘层3和栅极电极4之中至少穿过栅极电极4,并与作为栅极孔的第一孔6并置,蚀刻第二孔和电子发射膜5被淀积到其内侧壁表面上的第一孔6之间的绝缘层3,直到第一孔6和第二孔7彼此连通。由此清除了淀积在第一孔内壁表面上的电子发射膜材料以减小泄漏电流。

    基板处理装置以及物品制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118237242A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202311748470.1

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 本发明提供基板处理装置以及物品制造方法,减少配置在基板上的溶液的干燥速度的不均。基板处理装置具备:气密容器;对上述气密容器的内部进行减压的减压机构;配置在上述气密容器的内部并能保持基板的基板保持部;以及在上述气密容器的内部配置在与上述基板保持部所保持的上述基板的侧面相向的位置的壁构件。上述壁构件具有与上述基板的侧面相向的那侧的壁面。上述壁构件在上述壁面的至少一部分具有第1防液构件。

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