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公开(公告)号：CN119012877A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410591667.7
申请日：2024-05-14
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供以高的处理量适当地处理基板的干燥的基板处理装置、基板的处理方法、物品的制造方法、计算机程序产品、计算机可读存储介质。使用基板处理装置的基板处理方法具备：将具有膜的基板载置在配置在腔室的内部的基板保持部的工序；用挡板罩覆盖载置在基板保持部的基板的工序；对腔室的内部进行减压而使膜干燥的工序；使用具备分压真空计的气体分析部，单独地检测存在于由基板保持部和挡板罩包围的基板收容空间中的气体和存在于腔室和挡板罩之间的内部空间中的气体的工序；以及判定工序，使用基板收容空间中的特定的气体成分的检测结果和内部空间中的特定的气体成分的检测结果，判定与特定的气体成分有关的膜的干燥的结束。
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