公开(公告)号：CN106574359B

公开(公告)日：2018-11-09

申请号：CN201580034459.6

申请日：2015-06-25

Applicant: 住友金属矿山株式会社

Inventor： 小泽诚 ,  安东勋雄

IPC: C23C14/34 ,  C04B41/80 ,  C04B35/01 ,  C04B37/02

CPC classification number: C23C14/3407 ,  C04B35/457 ,  C04B37/021 ,  C04B37/023 ,  C04B41/80 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2237/12 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/402 ,  C04B2237/403 ,  C04B2237/406 ,  C04B2237/407 ,  C04B2237/52 ,  C23C14/34 ,  C23C14/3414 ,  H01J37/3423 ,  H01J37/3426 ,  H01J37/3429 ,  H01J37/3491

Abstract: 本发明提供电弧、结节的产生极少的溅射靶及其制造方法。加工由氧化物烧结体构成的材料而得到平板状或圆筒形靶材(3、13)。此时，使用规定粒度的磨石，并根据该磨石的粒度对所述材料中成为溅射面(5、15)的面，实施一次以上的粗磨，然后，实施一次以上的清磨，从而将溅射面(5、15)的表面粗糙度控制在以算数平均粗糙度Ra计为0.9μm以上、以最大高度Rz计为10.0μm以下、并且以十点平均粗糙度RzJIS计为7.0μm以下。介由接合层(4、14)将所得到的靶材(3、13)与支撑本体(2、12)接合而制成溅射靶(1、11)。

公开(公告)号：CN108349816A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680067703.3

申请日：2016-09-20

Applicant: 住友金属矿山株式会社

Inventor： 小泽诚 ,  五十岚茂 ,  安东勋雄

IPC: C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C23C14/34 ,  H01B1/08 ,  H01B13/00 ,  H01B5/14

Abstract: 本发明的课题是提供一种具有机械强度、高密度以及低电阻的特性且作为溅射靶使用的Sn-Zn-O系氧化物烧结体及其制造方法。作为本发明的解决手段，上述氧化物烧结体，其特征在于，以原子数比Sn/(Sn+Zn)计为0.1以上且0.9以下的比例含有Sn，当将从Si、Ti、Ge、In、Bi、Ce、Al以及Ga中选出的至少一种作为第一添加元素M且将从Nb、Ta、W以及Mo中选出的至少一种作为第二添加元素X时，以相对于全部金属元素的总量的原子数比M/(Sn+Zn+M+X)计为0.0001以上且0.04以下的比例含有第一添加元素M，以相对于全部金属元素的总量的原子数比X/(Sn+Zn+M+X)计为0.0001以上且0.1以下的比例含有第二添加元素X，并且，相对密度为90％以上且电阻率为1Ω·cm以下。