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公开(公告)号：CN111983032B
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202010866412.9
申请日：2020-08-25
Applicant: 中国科学院电工研究所
Abstract: 本发明公开了一种光学元件损伤的在线监测方法及系统，该方法包括：采集光学元件表面预设位置被照射时产生的超声信号；将超声信号转换为数字信号；根据数字信号、超声信号在光学元件中的传播速度、损伤直径、光学元件表面预设位置以及超声信号的出射位置计算损伤位置。通过实施本发明，采用光致声场效应，实现了激光器在正常工作情况下对光学元件损伤情况的实时在线监测；同时，通过获取超声信号的传播参数可以计算得到光学元件损伤位置与尺寸，便于详细了解光学元件损伤情况。由此，在激光器正常工作情况下可以及时移动透镜位置，避开损伤区域，有利于激光器寿命的提高。
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公开(公告)号：CN116387124A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310318129.6
申请日：2023-03-28
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: H01J37/304 , H01J37/30 , H01J37/065
Abstract: 本发明涉及电子束加工技术领域，提供了一种具有多级差分真空系统的环境电子束加工设备，至少包括：真空腔室，适于为通过的电子束提供真空环境；至少一个第一节流气阻，设置在真空腔室内且位于电子束的束腰位置，第一节流气阻具有沿电子束的照射方向设置的缩孔结构，适于供电子束通过的同时隔离真空，以使第一节流气阻上游的真空腔室与下游的真空腔室的真空度形成差异。本发明提供的具有多级差分真空系统的环境电子束加工设备，在真空腔室内至少设置有一个第一节流气阻用于隔离真空，使第一节流气阻上游的真空腔室与下游的真空腔室的真空度形成差异，从而可以在电子枪位置提供更高的真空度，在下游真空腔室或者成型腔室位置提供更低的真空度。
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公开(公告)号：CN109585244B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201811281545.9
申请日：2018-10-23
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: H01J37/10 , H01J37/256 , H01J37/26 , H01J37/30
Abstract: 本发明公开了一种高功率密度的电子束聚焦装置，包括沿电子束发射方向依次设置的聚光镜模块、辅助聚光镜模块和物镜模块；所述聚光镜模块用于形成第一磁场，以使电子束形成交叉点；所述辅助聚光镜模块用于形成第二磁场，以使电子束的运动轨迹跟光轴平行，形成平行束，所述第一磁场比第二磁场的磁场强度大；所述物镜模块用于形成第三磁场，使电子束聚焦到靶材平面。采用聚光镜、辅助聚光镜和物镜的多透镜组合方式，实现电子束的交叉‑平行‑聚焦控制，从而获得电子束系统的高缩小倍率、小像差以及束流的高效率传递。
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公开(公告)号：CN109585244A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811281545.9
申请日：2018-10-23
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: H01J37/10 , H01J37/256 , H01J37/26 , H01J37/30
Abstract: 本发明公开了一种高功率密度的电子束聚焦装置，包括沿电子束发射方向依次设置的聚光镜模块、辅助聚光镜模块和物镜模块；所述聚光镜模块用于形成第一磁场，以使电子束形成交叉点；所述辅助聚光镜模块用于形成第二磁场，以使电子束的运动轨迹跟光轴平行，形成平行束，所述第一磁场比第二磁场的磁场强度大；所述物镜模块用于形成第三磁场，使电子束聚焦到靶材平面。采用聚光镜、辅助聚光镜和物镜的多透镜组合方式，实现电子束的交叉-平行-聚焦控制，从而获得电子束系统的高缩小倍率、小像差以及束流的高效率传递。
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公开(公告)号：CN102680741B
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201210158927.9
申请日：2012-05-21
Applicant: 中国科学院电工研究所
Abstract: 一种计量型扫描电子显微镜成像控制系统及扫描成像方法，其控制器（1）产生控制二维柔性铰链扫描台（2）的X方向和Y方向的移动信号，经X向和Y向高压驱动器（7、8）的放大后，控制二维柔性铰链扫描台实现X方向的扫描运动和Y方向的步进移动。X方向激光传感器（3）和Y方向激光传感器（4）采集二维柔性铰链扫描台（2）的位置信号。在二维柔性铰链扫描台（2）逐点移动过程中，信号检测模块（6）完成来自二次电子探测器（5）的二次信号的模数转换，以及来自X方向及Y方向激光传感器（3、4）位置信息的锁存处理功能。通过上述基于扫描台移动方式的逐点扫描成像方法获得的扫描图像中的每个像素点都具有位置坐标信息，最终实现可溯源的，具有纳米级计量精度的扫描电子显微镜成像方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102788888A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210265549.4
申请日：2012-07-27
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G01Q10/00
Abstract: 一种扫描探针显微镜进针装置，其步进电机（8）以垂直于水平面方向固定在扫描探针显微镜进针装置的底座，步进电机（8）连接压电陶瓷扫描器（7）；压电陶瓷扫描器（7）上设置样品台（11）；探针（2）针尖朝下，位于样品台（11）的正上方；探针（2）的上方安装有激光光源（9）；光电传感器（10）位于探针的斜上方，接收探针（2）所反射的光斑的位置信号，并将光斑位置信号转换为电压信号送入控制器（4），通过控制器（4）控制步进电机（8）带动样品向探针（2）逼近。本发明还包括双通道反射式光纤位移传感器，通过双通道反射式光纤位移传感器检测探针与样品表面距离，在控制器的控制下，提高粗进针速度，结合细进针控制，实现快速进针。
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公开(公告)号：CN102297839A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110131656.3
申请日：2011-05-20
Applicant: 中国科学院电工研究所
Abstract: 一种用于吸收光谱测定的气体吸收池。该气体吸收池包括池体(1)、两个平面反射镜和气室。所述的气室位于两个平面反射镜之间，以多次反射光传输路径为主轴。池体(1)上覆盖平面盖板(4)。所述的气体吸收池的气室的内壁开有多个光学窗口，所述的光学窗口由两个平面反射镜暴露于气体样品的光反射表面所形成。所述的气体吸收池的气室包括一个样品流入口和一个样品流出口。光束在两个所述的平面反射镜之间的区域实现一次以上次数的反射传输，气体样品沿多次反射光传输路径流动。
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公开(公告)号：CN100541333C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200510012023.5
申请日：2005-06-28
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
Abstract: 电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统，包括CPLD逻辑电路模块(1)、X方向高速光电隔离模块(2)、Y方向高速光电隔离模块(3)、X方向16位高速高精度数模转换模块(4)、Y方向16位高速高精度数模转换模块(5)、X方向输出极性控制模块(6)、Y方向输出极性控制模块(7)、X方向衰减匹配器(8)、Y方向衰减匹配器(9)。电子束曝光过程中样片X方向位置误差信号和Y方向位置误差信号分别通过独立的16位数据线与CPLD逻辑电路模块(1)连接，经过运算和转化，最终在输出端口上得到X方向和Y方向的偏转电压信号。此信号导入到电子束曝光机的偏转线圈控制电路，控制电子束曝光机的聚焦电子束的扫描位置实现对样片步进误差的动态补偿。
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公开(公告)号：CN115166810B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202210786535.0
申请日：2022-07-04
Applicant: 中国科学院电工研究所
IPC: G01T1/29
Abstract: 本发明涉及电子束测量技术领域，具体涉及一种电子束参数测量装置及电子束参数测量方法。一种电子束参数测量装置，包括：微器件阵列结构多层板，所述多层板上设有多个阵列分布的法拉第杯组件，每个所述法拉第杯组件包括同轴设置的至少两个法拉第杯，至少两个所述法拉第杯贯通设置，电子束经上层所述法拉第杯射入下层所述法拉第杯中，获取每层所述法拉第杯的电子束束流大小，以得到所述电子束的相应参数。本发明提供了一种可快速测量的电子束参数测量装置及电子束参数测量方法。
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公开(公告)号：CN113721346B
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202110985306.7
申请日：2021-08-25
Applicant: 齐鲁中科电工先进电磁驱动技术研究院 , 中国科学院电工研究所
Abstract: 本发明涉及激光测量技术领域，具体涉及一种透镜组件及具有其的激光位移传感器。一种透镜组件，包括：沿光线传输方向依次同轴设置的第一透镜、第二透镜和第三透镜，所述第一透镜和第三透镜均为双凸透镜，第二透镜为双凹透镜，且所述第一透镜和第三透镜的折射率均大于第二透镜的折射率，所述第一透镜和第三透镜的阿贝数均小于第二透镜的阿贝数。本发明测量精度较高。
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