低功耗静态随机存储器单元以及存储器

    公开(公告)号:CN112687308A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011595333.5

    申请日:2020-12-29

    Abstract: 本发明提供了低功耗静态随机存储器单元,包括由第一N型晶体管和第一P型晶体管组成的第一CMOS反相器,由第二N型晶体管和第二P型晶体管组成的第二CMOS反相器,第一和第二CMOS反相器对置互锁设置;还包括第五N型晶体管,其栅极接第一CMOS反相器的输入端,源/漏极接第六N型晶体管的漏/源极;所述第五N型晶体管为背栅晶体管,其背栅接本体栅极;所述第六N型晶体管为背栅晶体管,其背栅接本体栅极,并连接至读字线。本发明在原有传统6管存储单元的基础上增加了第五和第六N型晶体管,写操作时的阈值电压变小,增强了静态随机存储器的写入能力;在读操作时,增大了读“0”电流。

    阈值电压的测量方法以及晶圆测试机台

    公开(公告)号:CN112666440A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202011473363.9

    申请日:2020-12-15

    Abstract: 本发明提供了一种阈值电压的测量方法,包括如下步骤:在晶体管的栅极施加电压Vth0,源极与漏极之间施加一预设电压Vsd;测定源漏之间初始电流Id0;在所述晶体管的栅极均叠加电压偏移Vdelta1;再次测定源漏之间的电流Id1;评估|Id1‑Icon|是否小于一预设误差值,所述Icon为恒定的归一化电流,若小于则记录Vth0‑Vdelta1为该晶体管的阈值电压,若大于,则再次在第二晶体管的栅极均叠加电压偏移Vdelta2,所述Vdelta2的数值与Id1‑Icon呈一致性正相关。本发明考虑到测试获得的电流与归一化电流的数值关系,测试电流与归一化电流的差越大,则后续叠加的电压偏移就越大,两者呈一致性正相关,以使测试能够更迅速的逼近真实的阈值电压,提高了测试效率,有效降低相关测试时间。

    随机数发生单元以及随机数发生器

    公开(公告)号:CN112558925A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011473359.2

    申请日:2020-12-15

    Abstract: 本发明提供了一种随机数发生单元,包括一晶体管,所述晶体管的栅极为输入端,源/漏极电学接地,漏/源极通过一隧道结电学连接至工作电平,所述隧道结为真随机数发生源,故所述晶体管的漏/源极端电平值即为输出的随机数。本发明由于采用真实物理过程作为真随机数的信号源,具有随机和不可预测等特性,因此消除了伪随机数的周期性和相关性等问题,产生的随机数分布均匀,符合不相关等特性,是一种高质量的真随机数。本发明是利用集成电路实现的片内真随机数生成器,利用了芯片设计的流水线,同步处理和资源复用等技术,具有成本低,稳定性好,速率快,易于实现等优点。

    一种新型静态存储单元
    18.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111613262B

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202010324686.5

    申请日:2020-04-22

    Abstract: 本申请实施例提供了一种新型静态存储单元,该新型静态存储单元是通过第一晶体管、第二晶体管、第三晶体管、第四晶体管、第五晶体管、第六晶体管,第七晶体管和第八晶体管,这八个晶体管的电性连接得到的具有特定功能的新型静态存储单元。相较于原有的存储单元,通过增加的第一晶体管、第二晶体管和其他6个晶体管的结合得到的新型静态存储单元采用FDSOI工艺,在不增加面积的情况下可以抑制附体效应,而且具有低功耗和高性能的优势;此外,该新型静态存储单元不仅可以在抗单粒子效应能力上得到提高,还可以在存储数据的稳定性上得到增加。

    RF MOS器件的在片测试结构的去嵌方法

    公开(公告)号:CN113655360A

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN202110913198.2

    申请日:2021-08-10

    Abstract: 本发明提供了一种RF MOS器件的在片测试结构的去嵌方法,包括如下步骤:在同一衬底上同时形成待测器件,以及相对应的引脚结构、开路结构、短路结构以及直通结构;分别对上述待测器件、引脚结构、开路结构、短路结构、直通结构进行S参数测试;利用电磁仿真模型仿真一个金属条阻抗,算出实际短路结构引入的阻抗;利用所获得的实际短路结构引入的阻抗,将S参数转换为Y参数。本发明通过对一个金属条进行电磁仿真其阻抗来模拟实际用于去嵌的短路结构中用于共地互连的那部分金属块的阻抗,并在去嵌过程中将该阻抗去除,从而在更高频率的时候也能获得更好的去嵌精度。

Patent Agency Ranking