集成光栅调制衰减器的微镜阵列驱动器及应用

    公开(公告)号:CN102103263B

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201110003989.8

    申请日:2011-01-10

    Inventor: 吴亚明 李四华

    Abstract: 一种集成光栅调制衰减器的微镜阵列驱动器及其在波长选择开关中的应用,其集成光栅调制衰减器的微镜阵列驱动器15由单个集成光栅调制衰减器的微镜驱动器14阵列化排布获得。单个集成光栅调制衰减器的微镜驱动器14由下电极结构11,中间电极结构12和上电极结构13共三个独立结构构成。其三个独立结构又由以下功能部件构成:悬臂梁1、台阶下电极2、台阶下电极引线锚点3、X轴转动方向基底镜面4、X轴转动方向基底镜面的限位凸点5、X轴转动方向基底镜面的限位平面6、Y轴信号衰减方向的可动上镜面7、Y轴信号衰减方向的固定上镜面8、Y轴信号衰减方向的镜面支撑锚点9、Y轴信号衰减方向的镜面支撑锚点10。

    一种低温圆片级微型气体盒的制作方法

    公开(公告)号:CN100564243C

    公开(公告)日:2009-12-02

    申请号:CN200610023325.7

    申请日:2006-01-13

    Abstract: 本发明涉及一种低温圆片级微型气体盒的制作方法,其特征在于利用苯并环丁烯材料进行材料键合和半导体材料的湿法腐蚀或干法刻蚀技术,在250℃的低温条件下键合,实现芯片级气体盒的圆片级气密性封装键合,包括芯片级原子钟气体盒、高精度磁场传感器气体盒、原子反馈式微光稳频装置的原子气体盒、原子滤光器的原子气体盒或微光学法布里—珀罗腔制作,键合后BCB胶厚度为0.2μm,密z封腔体He气的气密性达2.1~5.9×10-4Pa cm3/s,键合强度大于4.65MPa以及热循环可靠性完全达到微电子器件的封装标准。

    平面光波导分段布喇格光栅波分复用器/解复用器

    公开(公告)号:CN1411197A

    公开(公告)日:2003-04-16

    申请号:CN02145415.9

    申请日:2002-11-15

    Abstract: 本发明一种平面光波导分段布喇格光栅波分复用器/解复用器,其特征是用一定的方法在平面波导上形成折射率变化的二维分布,平面光波导分段布喇格光栅整体位于多条等间距的同心圆弧上,每条圆弧被分段为不连续的周期性小圆弧。沿输入波导的入射光受到折射率变化的调制,使入射光形成布喇格衍射。输入波导与输出波导分别位于罗兰圆上。制作方法是根据确定的参数,采用在硅基SiO2基片上利用紫外光照射引起硅基SiO2波导折射率的变化,结合平面集成光路工艺制作。本发明可制作光通信的波分复用器/解复用器,其结构紧凑、尺寸小、比常规阵列波导光栅工艺易于实现,且性能更好。

    基于MEMS技术的堆叠式二轴微镜阵列驱动器及应用

    公开(公告)号:CN102129125B

    公开(公告)日:2017-02-08

    申请号:CN201110003994.9

    申请日:2011-01-10

    Inventor: 李四华 吴亚明

    Abstract: 一种基于MEMS技术的堆叠式二轴微镜阵列驱动器17由单个堆叠式二轴微镜驱动器16阵列化排布而成。单个堆叠式二轴微镜驱动器16由下电极结构13,中间电极结构14和上电极结构15共三个独立部件构成。其中三个独立部件由以下结构构成:弯曲悬臂梁1、扭转悬臂梁2、扭转悬臂梁3、台阶下电极4、X轴转动方向基底镜面的限位平面5、台阶下电极的引线锚点6、X轴转动方向基底镜面7、X轴转动方向基底镜面的限位凸点8、Y轴转动方向上镜面支撑锚点9Y轴转动方向上镜面10,Y轴转动方向上镜面的限位凸点11、Y轴转动方向上镜面的电极引线锚点12。

    一种体硅可调谐光学滤波器及制作方法

    公开(公告)号:CN102200667A

    公开(公告)日:2011-09-28

    申请号:CN201110120151.7

    申请日:2011-05-06

    Inventor: 李四华 吴亚明

    Abstract: 一种体硅可调谐光学滤波器由体硅调谐腔,高掺杂的体硅电阻加热器,下悬臂梁、上悬臂梁,表面高掺杂的左悬臂梁、表面高掺杂的右悬臂梁,金属导线、应力平衡金属导线、左引线区域,右引线区域和支撑SOI硅基底11构成。其采用高电阻率的SOI硅片并利用体硅加工工艺制作获得。包括:(a)SOI硅片器件层表面制作高掺杂区域;(b)硅片器件层表面溅射金属并制作金属结构;(c)硅片器件层表面制作体硅调谐腔和各悬臂梁结构;(d)从硅片下表面衬底层释放体硅调谐腔及悬臂梁结构;(e)在体硅调谐腔上下表面制作高反射膜,形成光学F-P干涉腔体。所制作的该滤波器具有很好的光学性能,且工艺制作简单,结构可靠性高。

    平面光波导分段布喇格光栅波分复用器/解复用器

    公开(公告)号:CN100479357C

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN02145415.9

    申请日:2002-11-15

    Abstract: 本发明一种平面光波导分段布喇格光栅波分复用器/解复用器,其特征是用一定的方法在平面波导上形成折射率变化的二维分布,平面光波导分段布喇格光栅整体位于多条等间距的同心圆弧上,每条圆弧被分段为不连续的周期性小圆弧。沿输入波导的入射光受到折射率变化的调制,使入射光形成布喇格衍射。输入波导与输出波导分别位于罗兰圆上。制作方法是根据确定的参数,采用在硅基SiO2基片上利用紫外光照射引起硅基SiO2波导折射率的变化,结合平面集成光路工艺制作。本发明可制作光通信的波分复用器/解复用器,其结构紧凑、尺寸小、比常规阵列波导光栅工艺易于实现,且性能更好。

    一种圆片级微机械器件或光电器件的低温气密性封装方法

    公开(公告)号:CN100445195C

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN200610023321.9

    申请日:2006-01-13

    Abstract: 本发明涉及一种圆片级微机械器件或光电器件的低温气密性封装方法,其特征在于利用苯并环丁烯(BCB)材料针对经过湿法腐蚀或干法刻蚀的半导体材料或玻璃进行250℃低温圆片级气密性键合,键合压力为1-3×10-5Pa,真空度为10-3Pa;通过BCB键合封装的微机械器件和光电器件封装的气密性,气密性达到2.1~5.9×10-4Pa cm3/s He,优于军用标准一个数量级以上;剪切强度在4.65MPa以上,完全达到了微电子器件的封装标准;本发明提供的封装方法适用于谐振式MEMS器件、微加速度计、微陀螺、微热辐射仪等,可以有效的减小器件的阻尼,提高器件系统的品质因数(Q值),从而提高传感器件的灵敏度,是微机械器件和微光电器件的有效低温圆片级气密性封装方法。

    一种基于紫外光直写技术制作波导布拉格光栅的方法

    公开(公告)号:CN1558260A

    公开(公告)日:2004-12-29

    申请号:CN200410015772.9

    申请日:2004-01-14

    Abstract: 一种基于紫外光直写技术制作波导布拉格光栅的方法,其特征在于采用掺杂锗的二氧化硅基片,利用集成电路工艺在SiO2基片上镀制一层掩模薄膜,并进行光刻、腐蚀工艺制作出波导布拉格光栅的掩模图形,再利用紫外光源在二氧化硅基片表面上照射,使得二氧化硅基片的掺锗的波导芯层发生光学折射率变化,从而制作出波导布拉格光栅。用该方法制作布拉格光栅不仅简单易行,而且可以制作多种结构、多种参数的波导布拉格光栅,并可实现波导光栅的进一步集成,从而可降低成本,扩大波导光栅的应用范围,提高波导光栅的生产效率和成品率。

    MEMS垂直梳齿微镜面驱动器的制作方法

    公开(公告)号:CN103086316B

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201110335464.4

    申请日:2011-10-28

    Abstract: 本发明提供一种MEMS垂直梳齿微镜面驱动器的制作方法,包括:提供具有双层硅器件层的SOI硅结构;在第一衬底层的表面制作第一划片图形;去除第二衬底层;在第二埋层氧化层上制作双层掩膜;利用双层掩膜,制作出高梳齿结构、低梳齿结构以及微镜面结构;将双抛硅片与SOI硅结构进行硅硅键合;在双抛硅片的表面制作第二划片图形;去除第一衬底层并显露出第一埋层氧化层;以第一埋层氧化层作为掩膜,刻蚀第一硅器件层,释放可动梳齿结构、可动微镜面结构和固定梳齿结构;去除第一埋层氧化层;在微镜面区域和引线区域形成薄膜金属层。相较于现有技术,本发明技术方案能制作出具有自对准高低梳齿结构的垂直梳齿微镜面驱动器,具有制作简单和成品率高的优点。

    基于MEMS技术的堆叠式二轴微镜阵列驱动器及应用

    公开(公告)号:CN102129125A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201110003994.9

    申请日:2011-01-10

    Inventor: 李四华 吴亚明

    Abstract: 一种基于MEMS技术的堆叠式二轴微镜阵列驱动器17由单个堆叠式二轴微镜驱动器16阵列化排布而成。单个堆叠式二轴微镜驱动器16由下电极结构13,中间电极结构14和上电极结构15共三个独立部件构成。其中三个独立部件由以下结构构成:弯曲悬臂梁1、扭转悬臂梁2、扭转悬臂梁3、台阶下电极4、X轴转动方向基底镜面的限位平面5、台阶下电极的引线锚点6、X轴转动方向基底镜面7、X轴转动方向基底镜面的限位凸点8、Y轴转动方向上镜面支撑锚点9Y轴转动方向上镜面10,Y轴转动方向上镜面的限位凸点11、Y轴转动方向上镜面的电极引线锚点12。

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