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公开(公告)号:CN101561347A
公开(公告)日:2009-10-21
申请号:CN200910051318.1
申请日:2009-05-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种视频眼镜双目视轴偏差的检测装置和方法,主要是利用摄像装置对视频眼镜产生的识别图案进行成像,通过检测识别图案的位置计算得到视频眼镜双目视轴的夹角,其特征在于:将一个发光十字放在离摄像装置一定距离处,且发光十字中心位于摄像装置两个物镜光轴的中间,通过校正程序标定出摄像装置两个图像传感器的基准点,然后利用摄像装置获得视频眼镜产生的识别图案在图像传感器上的位置,根据其相对于基准点的偏差计算出视频眼镜双目视轴的偏差。本发明具有检测速度快、精度高、可以动态显示等优点,为视频眼镜的装校和检验提供极大的便利。
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公开(公告)号:CN101256353A
公开(公告)日:2008-09-03
申请号:CN200810035321.X
申请日:2008-03-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜及其制备方法,该探针诱导光刻薄膜的结构由沉积于玻璃基底上的直写光刻材料层、介质层和表面等离子体共振层组成,所述的直写光刻材料层由AgOx或NiOy组成;所述的介质层由SiO2组成;所述的表面等离子体共振层由Ag组成。采用磁控溅射的方法制备。本发明探针诱导光刻薄膜用于探针诱导表面等离子体共振光刻将大大降低刻蚀线宽。
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公开(公告)号:CN101256353B
公开(公告)日:2010-12-08
申请号:CN200810035321.X
申请日:2008-03-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜及其制备方法,该探针诱导光刻薄膜的结构由沉积于玻璃基底上的直写光刻材料层、介质层和表面等离子体共振层组成,所述的直写光刻材料层由AgOx或NiOy组成;所述的介质层由SiO2组成;所述的表面等离子体共振层由Ag组成。采用磁控溅射的方法制备。本发明探针诱导光刻薄膜用于探针诱导表面等离子体共振光刻将大大降低刻蚀线宽。
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公开(公告)号:CN101216674A
公开(公告)日:2008-07-09
申请号:CN200710173060.3
申请日:2007-12-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 华东师范大学
Abstract: 一种探针诱导表面等离子体共振耦合的光刻方法,其特点是:激光从包含有记录介质的待刻样品的基底入射,并在待刻样品的记录介质的表面发生等离子体共振,初步形成激光增强场,然后将金属探针扫描所述的待刻样品表面的激光增强场的近场,该探针针尖所处的近场的局域场进一步增强,在所述的探针针尖下面的记录介质产生光热作用而实现光刻。本发明方法所要求的材料结构简单,可以大大降低刻蚀线宽、提高扫描速度和范围。
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公开(公告)号:CN119987127A
公开(公告)日:2025-05-13
申请号:CN202510059926.6
申请日:2025-01-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 台州光电产业创新中心
Abstract: 本发明公开了一种基于掩模版网格化区域的亚像素处理方法及系统,方法包括:S1、基于掩模版设计文件建立指定长宽的虚拟网格,以及将虚拟网格中的所有网格单元的灰度值初始化0,且每个网格单元的面积记为Sg;S2、将掩模版设计文件中所有的图形读取为相应的多边形并呈现于所述虚拟网格中的对应位置;S3、确定被多边形边界穿过的网格和完全处于多边形边界内部的网格,分别记为W1、W2;S4、计算W1处于多边形边界内部分的面积Sn,将W1的灰度值H设置为Sn与Sg的比值,其中,0<H<1;以及通过内部填充将W2的灰度值设置为1;S5、将计算得到的灰度值H存储为亚像素图像。本发明能够提高亚像素技术的实施效率。
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公开(公告)号:CN117269169A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202311193323.2
申请日:2023-09-15
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种大口径光学元件表面纳米级缺陷并行扫描检测装置,包括:单频紫外激光器,用于产生检测激光束;达曼分束光栅,用于将单频紫外激光器发出的激光束分束,产生强度分布均匀的检测子光束;多焦点空间滤波系统,将各检测子光束聚焦后进行空间滤波,滤除高频杂散光,形成“干净”的检测子光束;扫描检测系统,用于对被检测光学元件进行扫描并记录表面缺陷及其空间分布。通过控制扫描反射镜、CCD相机转台的扫描速度实现大口径光学元件表面缺陷的快速检测。本发明采用紫外相干激光光源并结合并行光束扫描技术,解决了大口径光学元件表面纳米级缺陷高分辨快速检测难题,为超光滑大口径光学元件的加工检测提供了技术支撑。
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公开(公告)号:CN117192914A
公开(公告)日:2023-12-08
申请号:CN202311186275.4
申请日:2023-09-14
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种反射式双光束干涉曝光系统的像差调控方法,包括:构建反射式双光束干涉曝光系统,将激光器输出的光束分为两束强度相同的双光束,并形成干涉曝光场;构建像差调控系统,利用球面干涉仪分别对双光束光路的像差进行测试和记录,并利用可变形反射镜对双光束中任一路光束的波前进行调控,使其与另一路光束的像差相匹配,完成干涉曝光场像差的调控。本发明解决了基于大口径离轴抛物面反射镜的反射式双光束干涉曝光系统精密装调、波前像差控制等难题,为米量级大口径、低像差衍射光栅的制备提供了新的解决方案。
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