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公开(公告)号：CN101256353A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810035321.X
申请日：2008-03-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜及其制备方法，该探针诱导光刻薄膜的结构由沉积于玻璃基底上的直写光刻材料层、介质层和表面等离子体共振层组成，所述的直写光刻材料层由AgOx或NiOy组成；所述的介质层由SiO2组成；所述的表面等离子体共振层由Ag组成。采用磁控溅射的方法制备。本发明探针诱导光刻薄膜用于探针诱导表面等离子体共振光刻将大大降低刻蚀线宽。
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公开(公告)号：CN101408736A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200810202975.7
申请日：2008-11-19
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种探针诱导表面等离子体共振光刻装置及其光刻方法，该装置由表面等离子体激发装置、探针控制装置、样品台、探针状态检测装置、光学显微镜和控制系统组成。该装置具有光刻所需激光功率低、光刻分辨率高、不易损坏探针、光刻膜层简单的特点，该装置还具有原子力显微镜的功能。
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公开(公告)号：CN101256353B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810035321.X
申请日：2008-03-28
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜及其制备方法，该探针诱导光刻薄膜的结构由沉积于玻璃基底上的直写光刻材料层、介质层和表面等离子体共振层组成，所述的直写光刻材料层由AgOx或NiOy组成；所述的介质层由SiO2组成；所述的表面等离子体共振层由Ag组成。采用磁控溅射的方法制备。本发明探针诱导光刻薄膜用于探针诱导表面等离子体共振光刻将大大降低刻蚀线宽。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101216674A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200710173060.3
申请日：2007-12-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 华东师范大学
Abstract: 一种探针诱导表面等离子体共振耦合的光刻方法，其特点是：激光从包含有记录介质的待刻样品的基底入射，并在待刻样品的记录介质的表面发生等离子体共振，初步形成激光增强场，然后将金属探针扫描所述的待刻样品表面的激光增强场的近场，该探针针尖所处的近场的局域场进一步增强，在所述的探针针尖下面的记录介质产生光热作用而实现光刻。本发明方法所要求的材料结构简单，可以大大降低刻蚀线宽、提高扫描速度和范围。
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公开(公告)号：CN101303447A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200810038933.4
申请日：2008-06-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种可变入射角的激光会聚装置，特点在于其构成包括扩束镜、平面反射镜和会聚透镜，所述的平面反射镜固定在一个平移台上，所述的平面反射镜的反射面与所述的扩束镜的出射光束呈一定的角度，所述的平面反射镜在所述的平移台带动下沿激光入射方向做平移运动；所述的平面反射镜的反射光束通过所述的会聚透镜会聚后照射在样品上。本发明具有结构简单、使用方便、光斑位置恒定的特点。
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公开(公告)号：CN201203698Y
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200820059686.1
申请日：2008-06-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种可变入射角的激光会聚装置，特点在于其构成包括扩束镜、平面反射镜和会聚透镜，所述的平面反射镜固定在一个平移台上，所述的平面反射镜的反射面与所述的扩束镜的出射光束呈一定的角度，所述的平面反射镜在所述的平移台带动下沿激光入射方向做平移运动；所述的平面反射镜的反射光束通过所述的会聚透镜会聚后照射在样品上。本实用新型具有结构简单、使用方便、光斑位置恒定的特点。
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公开(公告)号：CN201174029Y
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200820056586.3
申请日：2008-03-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜，特征在于其结构由沉积于玻璃基底上的直写光刻材料层、介质层和表面等离子体共振层组成，所述的直写光刻材料层由AgOx或NiOy组成；所述的介质层由SiO2组成；所述的表面等离子体共振层由Ag组成。采用磁控溅射的方法制备。本实用新型探针诱导光刻薄膜用于探针诱导表面等离子体共振光刻将大大降低刻蚀线宽。
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