公开(公告)号：CN101416284A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200780012546.7

申请日：2007-04-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 野泽俊久 ,  小谷光司 ,  田中宏治

IPC: H01L21/3065 ,  B01J4/00 ,  B01J19/08 ,  C23C16/455 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52

CPC classification number: F17D1/04 ,  C23C16/45502 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/1825 ,  Y10T137/0368

Abstract: 本发明提供一种处理装置及处理方法，该处理装置(40)具有：在内部设有用于载置被处理体的载置台的处理容器(42)、具有用于排出处理容器(42)内的气体介质的真空泵(70、72)与压力控制阀(68)的排气系统(64)、具有设于处理容器(42)内的气体喷射孔(102)的气体喷射部件(98)，向气体喷射部件(98)供给处理气体的气体供给部件(100)。由控制部件(114)控制整个装置(40)。控制部件(114)控制排气系统(64)和气体供给部件(100)，在开始规定的处理时，由排气系统(64)排出处理容器(42)内的气体介质，并且在短时间供给比规定流量大的流量的处理气体，然后，供给规定流量的处理气体。

公开(公告)号：CN100421209C

公开(公告)日：2008-09-24

申请号：CN200480006198.9

申请日：2004-03-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 野沢俊久 ,  小谷光司

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/205 ,  G05D23/00

CPC classification number: H01L21/67248 ,  C23C16/463 ,  H01L21/67109

Abstract: 设置第一通道(16)和与第一通道分离的第二通道(19)，且流经第二通道(19)的第二冷却水(18)和第一冷却水(15)进行热交换，其中所述第一通道(16)是利用在温度调节对象中循环的第一冷却水(15)来进行冷却。不需要将第一冷却水(15)储存在固定容量的容器中，且流经相当于冷却器一部分的第一通道(16)的第一冷却水(15)的热量被第二冷却水(18)充分吸收。可迅速响应温度调节对象的负载变动，并在提高温度控制的精度的同时，减少能量的浪费。

公开(公告)号：CN1875467A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480032469.8

申请日：2004-11-02

Applicant: 大见忠弘 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  野泽俊久 ,  森田治 ,  汤浅珠树 ,  小谷光司

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32192 ,  C23C16/4411 ,  C23C16/45572 ,  C23C16/511 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32724

Abstract: 本发明以提高等离子体处理装置的处理气体供给部的冷却效率，抑制该处理气体供给部的温度升高为课题。为此，在本发明中使用的等离子体处理装置，具备：具有保持被处理基板的保持台的处理容器；在前述处理容器上按照与被处理基板相对的方式设置的微波天线；在前述保持台上的被处理基板和前述微波天线之间，按照与前述被处理基板相对的方式设置的处理气体供给部，其特征在于，前述处理气体供给部具有使形成在前述处理容器内的等离子体通过的多个第1开口部；可以与处理气体源相连接的处理气体通路；与前述处理气体通路相连通的多个第2开口部；冷却该处理气体供给部的冷却媒体所流动的冷却媒体通路，前述冷却媒体包含冷却气体和雾。