-
公开(公告)号：CN114026679A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202080046664.5
申请日：2020-06-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明的基片处理设备包括：罐；循环管线，其供从罐出发并返回罐的处理液流动；供给调整部，其调整第一液、第二液和处理液中的至少任一者向罐的供给；排放管线，其供从罐或者循环管线排出的处理液流动；排放调整部，其处理液调整经由排放管线的排出；以及浓度传感器，其测量在浓度测量管线中流动的处理液的浓度。控制部基于浓度传感器的测量结果，控制排放调整部来调整处理液的排出，控制供给调整部来调整第一液、第二液和处理液中的至少任一者向罐的供给。
-
公开(公告)号：CN113838774A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202110666079.1
申请日：2021-06-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够提高处理液的清洁度的液处理装置和液处理方法。本发明的实施方式的液处理装置包括储存罐、循环管线、供给管线、返回管线和至少一个过滤器。储存罐用于储存处理液。循环管线用于使从储存罐输送的处理液返回到储存罐。供给管线用于将循环管线和向基片供给处理液的供给部连接。返回管线与供给管线连接，用于使处理液从供给管线返回到储存罐。过滤器设置在供给管线的比返回管线与供给管线的连接部位靠上游侧的位置和返回管线中的至少一者，用于除去处理液中的异物。
-
公开(公告)号：CN112786485A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011147776.8
申请日：2020-10-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够抑制在对基板处理部进行了清洗处理之后液处理的性能恶化的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备基板处理部、排液部以及控制部。基板处理部从处理液供给部向所载置的基板供给处理液而进行液处理。排液部具有与积存处理液的积存部连接的回收路径，对液处理使用后的处理液进行排液。控制部执行液处理的处理制程以及清洗基板处理部和排液部的清洗制程。另外，作为清洗制程，控制部在执行了从清洗液供给部供给清洗液而清洗基板处理部和排液部的清洗动作之后，执行从处理液供给部供给处理液而将附着于基板处理部和排液部的清洗液置换成处理液的恢复动作。
-
公开(公告)号：CN107591345A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201710543742.2
申请日：2017-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板液处理方法和基板液处理装置。能够稳定地抑制水痕等微少微粒的产生。基板处理方法包括以下步骤：向旋转的基板供给处理液的步骤(S12、S13)；在供给处理液的步骤(S12、S13)之后，向旋转的基板的中心部供给冲洗液来在基板上形成冲洗液的液膜的步骤(S14)。具有在形成冲洗液的液膜的步骤(S14)之前、在处理液的液膜中断了的基板的周缘部形成处理液的液膜的步骤(S13)。
-
公开(公告)号：CN119890072A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411432203.8
申请日：2024-10-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 提供一种液供给装置、液供给方法以及存储介质。具备罐、循环线、泵以及供给线。循环线具备设置有泵的主线、以及从主线分支出的第一分支线和第二分支线。第一分支线具备第一加热机构、第一过滤器以及第一排液线，还具备第一分支循环线和第一阀，该第一分支循环线从第一加热机构与第一过滤器之间分支出，使从罐输送出的处理液向罐返回，该第一阀在第一排液线与第一分支线之间切换处理液的流出目的地。第二分支线具备第二加热机构、第二过滤器以及第二排液线，还具备第二分支循环线和第二阀，该第二分支循环线从第二加热机构与第二过滤器之间分支出，使从罐输送出的处理液向罐返回，该第二阀在第二排液线与第二分支线之间切换处理液的流出目的地。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119013767A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202380034040.5
申请日：2023-04-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , B05C5/00 , B05C11/00 , B05C11/10
Abstract: 本发明的一个方式的液供给系统包括罐体(71)、循环管线(72)、泵(73)、过滤器(76)、背压阀(80)和控制部(18)。罐体(71)贮存处理液(L)。循环管线(72)将从罐体(71)送出的处理液(L)送回罐体(71)。泵(73)形成循环管线(72)中的处理液(L)的循环流。过滤器(76)设置在循环管线(72)的泵(73)的下游侧。背压阀(80)设置在循环管线(72)的过滤器(76)的下游侧。控制部(18)控制各部。此外，控制部(18)在使泵(73)的工作停止时，在从泵(73)的出口压力开始下降至泵(73)停止工作的期间，控制泵(73)和背压阀(80)，以使得过滤器(76)的上游侧与下游侧的压差成为给定的阈值以下。
-
公开(公告)号：CN107591345B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201710543742.2
申请日：2017-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板液处理方法和基板液处理装置。能够稳定地抑制水痕等微少微粒的产生。基板处理方法包括以下步骤：向旋转的基板供给处理液的步骤(S12、S13)；在供给处理液的步骤(S12、S13)之后，向旋转的基板的中心部供给冲洗液来在基板上形成冲洗液的液膜的步骤(S14)。具有在形成冲洗液的液膜的步骤(S14)之前、在处理液的液膜中断了的基板的周缘部形成处理液的液膜的步骤(S13)。
-
公开(公告)号：CN115176334A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202180017221.8
申请日：2021-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 基片处理方法具有下述(A)～(D)。(A)向旋转的基片表面的中心位置供给处理液。(B)使所述处理液的供给位置从所述中心位置移动至第一偏心位置。(C)使所述处理液的供给位置停止在所述第一偏心位置，向与所述第一偏心位置不同的第二偏心位置供给用于置换所述处理液的置换液。(D)使所述处理液的供给位置从所述第一偏心位置向与所述中心位置相反的方向移动，并且使所述置换液的供给位置从所述第二偏心位置向所述中心位置移动。(E)以第一流量向所述第一偏心位置供给所述处理液，在使所述处理液的供给位置从所述第一偏心位置开始移动之后、并且到所述置换液的供给位置到达所述中心位置时为止的期间，将所述处理液的流量从所述第一流量减少至第二流量。
-
公开(公告)号：CN115136282A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180015032.7
申请日：2021-02-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板处理装置具备保持部、液供给部、回收部、循环路、气体供给部以及控制部。所述保持部用于保持基板。所述液供给部用于对保持于所述保持部的所述基板的第一主表面供给处理液。所述回收部回收在所述基板的处理中使用过的已使用的所述处理液。所述循环路用于使由所述回收部回收到的所述处理液返回到所述液供给部。所述气体供给部对保持于所述保持部的所述基板的与所述第一主表面为相反方向的第二主表面供给气体。所述控制部控制所述液供给部和所述气体供给部。所述控制部在使得对所述第一主表面供给通过所述循环路返回到所述液供给部的预定的所述处理液时，使得对所述第二主表面供给所述气体。
-
公开(公告)号：CN108292599A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680068848.5
申请日：2016-11-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 基板处理装置具备：基板保持部(31)，其保持基板(W)；外喷嘴(45)，其以使基板的表面的至少中心部被喷出的处理液的液膜覆盖的方式从比被基板保持部保持的基板的外周缘靠外侧的位置朝向基板的表面喷出处理液；以及致动器(46、90)，其能够变更外喷嘴的高度位置或俯仰角。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.024 seconds)
