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公开(公告)号：CN107207760B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201680009021.7
申请日：2016-02-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供对金属等杂质的除去性能优异、且应力、断裂伸长率等也优异的聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质体以及其制造方法、使用该多孔质体来进行分离及/或吸附的方法、由该多孔质体形成的分离材料、吸附材料及过滤介质、以及包含该多孔质体的层叠体及过滤装置。一种聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质体，其中，聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺具有选自由羧基、盐型羧基及‑NH‑键组成的组中的至少一者。
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公开(公告)号：CN101084473A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200580043768.6
申请日：2005-12-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/168
Abstract: 本发明提供一种光蚀刻用清洗液，其对于用于i线、KrF、ArF的各种抗蚀剂、含硅抗蚀剂、化学放大型正型抗蚀剂等各式各样组成的抗蚀剂显示同样优良的清洗性，处理后的干燥性良好，不会由于清洗而损害抗蚀剂特性。该清洗液含有(A)选自乙酸或丙酸的低级烷基酯中的至少1种和(B)选自1分子中的碳原子数为5～7的酮中的至少1种，并且(A)∶(B)的质量比为4∶6～7∶3的范围。
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公开(公告)号：CN101076759A
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200580042542.4
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种新颖的光蚀刻用清洗液，该清洗液对抗蚀图案而言，是为了减少制品的表面缺陷的所谓瑕疵、防止水冲洗时的图案破坏的发生、又赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐受性、抑制图案的收缩而使用的，且在储存中又不会发生因细菌造成的污染。该光蚀刻用清洗液，包括含有下述通式(式中的R1为可被氧原子中断的碳原子数8～20的烷基或羟烷基；R2及R3为碳数1～5的烷基或羟烷基)所示的含氧化胺化合物的水性溶液。
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公开(公告)号：CN101010640A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200580028774.4
申请日：2005-08-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种新型光蚀刻用显影液组合物，其不用改变抗蚀剂组合物本身的组成，不会因使用而伴随产生抗蚀图案的品质降低，并高效减少缺陷；本发明还提供一种新型抗蚀图案形成方法，其使用该光蚀刻用显影液组合物以减少缺陷发生率，组合后续的采用特定冲洗液处理而控制图案的崩溃。本发明涉及组合物，其包含以下溶液，该溶液含有至少一种选自含有四烷基氢氧化铵、具有含氮杂环的单体结构单元的水溶性或碱溶性聚合物；并通过：(1)在基板上设置抗蚀膜的步骤；(2)通过掩模图案对于该抗蚀膜选择性地进行曝光处理的步骤；(3)曝光后进行加热处理的步骤；以及(4)以上述组合物进行显影处理的步骤形成抗蚀图案。
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公开(公告)号：CN1947067A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580012690.1
申请日：2005-04-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及一种新型光刻用冲洗液，及使用其的抗蚀图案的形成方法，所述光刻用冲洗液是，对于光致抗蚀图案，可以减少制品的表面缺陷，即所谓缺陷，并赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐性，抑制图案收缩所使用的。调制包括含有在分子结构中具有氮原子的水溶性树脂的溶液的光刻用冲洗液，使用其通过以下工序形成抗蚀图案：(A)在基板上设置光致抗蚀膜的工序、(B)通过掩模图案对该光致抗蚀膜进行选择性曝光处理工序、(C)曝光后加热(PEB)处理工序、(D)碱性显影处理工序，及(E)使用上述光刻用冲洗液的处理工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1947065A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580012685.0
申请日：2005-04-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40
Abstract: 提供基于与目前防止图案崩溃的方法完全不同的原理的冲洗处理，不损害需要形成的图案的物性，制造高品质的制品的方法，该方法是对设置于基板上的光致抗蚀剂层实施成像曝光后，进行显影处理形成抗蚀图案的方法，其中，在显影处理后，对抗蚀图案表面上的接触液，进行使接触角降低为40度以下的处理，以及随后的使其上升为70度以上的处理后，进行干燥，形成抗蚀图案的方法。
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公开(公告)号：CN107249720B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN201680011538.X
申请日：2016-02-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供使用了聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜的液体的纯化方法、使用了该纯化方法的药液或清洗液的制造方法、由该多孔质膜形成的过滤介质以及包含该多孔质膜的过滤装置，所述聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜对金属等杂质的除去性能优异，优选还可同时实现优异的流速，而且应力、断裂伸长率等也优异。本发明涉及一种液体的纯化方法，所述液体的纯化方法包括下述步骤：利用差压使所述液体的一部分或全部从具有连通孔的聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜的一侧向另一侧透过。
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公开(公告)号：CN107207760A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680009021.7
申请日：2016-02-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供对金属等杂质的除去性能优异、且应力、断裂伸长率等也优异的聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质体以及其制造方法、使用该多孔质体来进行分离及/或吸附的方法、由该多孔质体形成的分离材料、吸附材料及过滤介质、以及包含该多孔质体的层叠体及过滤装置。一种聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺多孔质体，其中，聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺具有选自由羧基、盐型羧基及‑NH‑键组成的组中的至少一者。
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公开(公告)号：CN102591160A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201210078008.0
申请日：2005-04-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/26 , C08F226/10 , C08F226/06
Abstract: 本发明涉及一种新型光刻用冲洗液，及使用其的抗蚀图案的形成方法，所述光刻用冲洗液是，对于光致抗蚀图案，可以减少制品的表面缺陷，即所谓缺陷，并赋予抗蚀剂对电子射线照射的耐性，抑制图案收缩所使用的。调制包括含有在分子结构中具有氮原子的水溶性树脂的溶液的光刻用冲洗液，使用其通过以下工序形成抗蚀图案：(A)在基板上设置光致抗蚀膜的工序、(B)通过掩模图案对该光致抗蚀膜进行选择性曝光处理工序、(C)曝光后加热(PEB)处理工序、(D)碱性显影处理工序，及(E)使用上述光刻用冲洗液的处理工序。
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公开(公告)号：CN1947066B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200580012689.9
申请日：2005-04-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/32 , C11D3/245 , C11D3/349 , C11D11/0041 , G03F7/322
Abstract: 本发明是提供一种可将接触角40度以下的容易润湿的抗蚀图案表面改质成接触角70度以上，可有效防止图案崩溃，制造高品质制品的新颖冲洗液。该冲洗液包含下述溶液，所述溶液含有选自通式(I)(式中的R1及R2是各自氢原子的一部分或全部被氟原子取代的碳原子数为1～5的烷基或取代烷基，R1与R2可以相互连接并与和两者结合的SO2及N一同形成五员环或六员环)、通式(II)(式中的Rf是氢原子的一部分或全部被氟原子取代的碳数1～5的烷基或取代烷基，m及n是整数2或3)、或通式Rf’-COOH(式中的Rf’是碳数8～20且至少一部分被氟化的烷基)表示的水或醇溶剂可溶性氟化合物中的至少一种。
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