公开(公告)号：CN119626880A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202410445113.6

申请日：2024-04-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 姜璨秀 ,  姜大元 ,  金敏周 ,  金泰铉 ,  南象基 ,  成德镛 ,  梁正模 ,  吴世真 ,  林建熙 ,  任埈澔

IPC: H01J37/32

Abstract: 衬底加工装置包括提供加工空间的加工室、位于加工室中并被配置为支撑衬底的工作台、耦合到加工室的一侧的窗口、以及耦合到窗口的一侧表面的闪烁体层。闪烁体层覆盖窗口的一侧表面的一部分，该部分小于整个窗口表面。与窗口的一侧表面的另一部分相对应的第二表面被暴露。由加工空间中的等离子体发射的光穿过窗口并由光学系统收集并进行分析。穿过闪烁体的紫外光被转换为更长波长的光，通常是可见光。将穿过裸露窗口的光与穿过闪烁体层的光进行比较可以对等离子体进行分析。

公开(公告)号：CN115274390A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202210291022.2

申请日：2022-03-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹贵玹 ,  南象基 ,  徐权相 ,  张圣虎 ,  高廷旼 ,  金南均 ,  金泰铉 ,  白承翰 ,  安昇彬 ,  梁正模 ,  李昌宪 ,  全康民

IPC: H01J37/32

Abstract: 提供了一种等离子体约束环、包括该等离子体约束环的半导体制造设备以及使用该半导体制造设备制造半导体装置的方法。所述等离子体约束环包括下环、在下环上的上环以及延伸以将下环连接到上环的连接环。下环包括在下环的中心处竖直地穿透下环的下中心孔以及在下中心孔外部的区域中穿透下环的至少一个狭缝。狭缝被构造为在更靠近下环的中心的第一部分处比在更远离下环的中心的第二部分处通过更大量的空气或气体。

公开(公告)号：CN109253528B

公开(公告)日：2021-12-24

申请号：CN201810763343.1

申请日：2018-07-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金泰佑 ,  金珉奭 ,  金锺云 ,  朴承俊 ,  李成圭 ,  姜熙讚 ,  具治旭 ,  金泰铉 ,  徐炯濬 ,  成正镛 ,  孙瑄希 ,  全弘锡 ,  韩承娟

IPC: F24F11/54 ,  F24F11/61 ,  F24F11/64 ,  F24F11/77 ,  F24F11/84 ,  F24F11/65 ,  F24F11/52 ,  F24F110/10 ,  F24F110/12 ,  F24F110/20

Abstract: 公开了空调及其控制方法。空调包括压缩机、室内风扇和控制器，其中，室内风扇配置成吹送室内空气，控制器配置成在压缩机关闭时改变并控制室内风扇的每分钟转数(RPM)直至预定时间。