用于近场区光场调控的显微镜针尖及其制备方法

    公开(公告)号:CN113406361B

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202110302022.3

    申请日:2021-03-22

    Abstract: 本发明公开了一种用于近场区光场调控的显微镜针尖及其制备方法,该针尖包括针尖本体,针尖本体呈三棱柱状,且其顶面为等腰三角形状,针尖本体外表设有由多片不同材质金属膜构成的用于改变磁场分布的非轴对称微纳结构。本申请实施例提供的用于近场区光场调控的显微镜针尖及其制备方法,利用该制备方法可快速、便捷地制备出具有非轴对称微纳结构的近场光学显微镜针尖,该针尖通过非轴对称微纳结构调控针尖处磁场分布结构,进而控制针尖局部角动量在电子传输中的作用,可应用在印刷型有机电致发光材料的超分辨检测中获得更高的检测精度。

    一种三蝶烯化合物及其制备方法和发光器件

    公开(公告)号:CN116120328B

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN202310367273.9

    申请日:2023-04-07

    Abstract: 本发明涉及有机电致发光材料与器件领域,具体涉及的是一种三蝶烯化合物及其制备方法和发光器件。本发明三蝶烯化合物的结构通式如式I所示。本发明还提出了三蝶烯化合物作为主体材料在制备有机发光二极管器件中的应用。本发明还提出了一种发光器件,发光器件的主体材料采用该三蝶烯化合物。本发明的三蝶烯化合物作为用于溶液加工OLED工艺中的主体材料,可辅助器件获得平衡的载流子传输性能,进而降低器件的效率滚降水平。(Ⅰ)。

    电子自旋禁阻激发偶极确定方法、装置、设备及存储介质

    公开(公告)号:CN116029185B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202310304338.5

    申请日:2023-03-27

    Inventor: 张赫铭 毕海

    Abstract: 本发明属于计算机技术领域,公开了一种电子自旋禁阻激发偶极确定方法、装置、设备及存储介质。该方法包括:建立超分子计算模型;从超分子计算模型中搜索能量最低的N个构象,并根据N个构象生成计算模型,N≥1;对计算模型进行分析,计算电子自旋禁阻跃迁的微扰矩阵元和能差信息;根据微扰矩阵元和能差信息计算电子自旋禁阻激发偶极。通过上述方式,利用计算机实现一体化的模型自动构建、参数计算和数据后处理,确定电子自旋禁阻激发偶极参数,为发光和吸收光半导体材料的分析和革新提供重要数据支持。

    喷墨打印系统及方法
    145.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115635780A

    公开(公告)日:2023-01-24

    申请号:CN202211370051.4

    申请日:2022-11-03

    Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域,公开了一种喷墨打印系统及方法。控制模块根据当前打印任务的打印分辨率确定目标旋转角度,控制旋转模块旋转;图像采集模块获取当前基板图像;FPGA图像处理模块通过多条并行处理线利用连通域算法从当前基板图像中并行提取打印槽的边缘轮廓,利用最小二乘法进行拟合以确定参考直线,根据参考直线与安装水平线确定当前旋转角度;控制模块在当前旋转角度与目标旋转角度一致时,控制旋转模块停止、控制喷头执行当前打印任务。通过上述方式,控制旋转模块进行旋转,使喷头与打印基板之间产生夹角,以完成分辨率多变的打印任务,并利用低延迟的并行连通域检测实现实时定位,满足了在打印过程中视觉定位的实时需求。

    LED芯片无损检测装置
    146.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115407181B

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211359461.9

    申请日:2022-11-02

    Abstract: 本发明公开一种LED芯片无损检测装置,LED芯片无损检测装置包括电源、导电液出液机构及检测机构,导电液出液机构包括液体压力控制器和微流控芯片,液体压力控制器和电源分别与微流控芯片连接;微流控芯片设有多列用于流通正极导电液的第一导流孔和多列用于流通负极导电液的第二导流孔,液体压力控制器与一列第一导流孔和一列第二导流孔连通,以控制正极导电液在第一导流孔的流通及负极导电液在第二导流孔的流通;检测机构包括与微流控芯片间隔设置的支撑架和光学传感器,支撑架设有凹槽,光学传感器设于凹槽内,凹槽的槽口放置装载有多个LED芯片的晶圆。本发明技术方案通过导电液出液机构代替探头,无需更换探头,提高LED芯片无损检测装置的检测效率。

    光谱分析方法、装置、终端设备及介质

    公开(公告)号:CN115479905A

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202211409528.5

    申请日:2022-11-11

    Abstract: 本发明公开了一种光谱分析方法、装置、终端设备及介质,该方法包括:获取待分析样本的光谱数据,并根据所述光谱数据构建对应的邻接矩阵;基于所述邻接矩阵,对所述光谱数据的批次误差进行移除;对移除批次误差的光谱数据进行集成学习得到对应的光谱分析结果。本发明能够提升对样品进行光谱分析时的准确性。

    透过率分布的检测方法、装置、设备及存储介质

    公开(公告)号:CN115452779A

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202211402876.X

    申请日:2022-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种透过率分布的检测方法、装置、设备及存储介质,涉及光学测量领域,该方法包括:通过光源部件发出入射光照射至待测样品处,产生透射光,以使透射光进入探测部件;获取预设的透过率测试策略,根据透过率测试策略分别控制所述待测样品转动至第一待测角度、所述探测部件转动至第二待测角度,以及所述光源部件转动至第三待测角度;基于探测部件中的探测单元获取透射光的样品透射光强信息;根据第一待测角度、第二待测角度、第三待测角度、样品透射光强信息和预设的标准光强信息确定待测样品的透过率分布函数。本发明采用传递式测量方法,实现了提高光衰减器件的透过率分布函数检测准确度的技术效果。

    制冷控制方法、装置、设备及可读存储介质

    公开(公告)号:CN115451638A

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202211201566.1

    申请日:2022-09-29

    Abstract: 本申请公开了一种制冷控制方法、装置、设备及可读存储介质,该方法包括步骤:获取基板上的目标区域的第一温度值;若第一温度值大于第一预设阈值,则输出制冷指令至半导体制冷装置;制冷指令用于控制半导体制冷片启用制冷功能,并控制制冷压缩机启用液冷功能,制冷功能用于降低目标区域的温度,液冷功能用于半导体制冷片热端散热,以保证半导体制冷片的制冷效果;在半导体制冷装置启动后,获取目标区域的第二温度值;基于第二温度值的大小,输出调整指令至半导体制冷装置;调整指令用于调整半导体制冷片的制冷功率,并维持制冷压缩机功率不变,以控制半导体制冷装置的制冷效果。

    针对复杂颜色与纹理的织物缩水率测试方法及系统

    公开(公告)号:CN114486898A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202210355208.X

    申请日:2022-04-06

    Abstract: 本发明涉及纺织品技术领域,公开了一种针对复杂颜色与纹理的织物缩水率测试方法及系统,该方法包括相机标定、试样标记、初态测量、试样洗涤、末态测量和对比计算等步骤。该方法利用夜光染料或荧光染料将直线交叉记号标记在试样的表面上,该染料在特定光照条件下能清晰成像,避免了受到织物表面的复杂颜色与纹理干扰;再利用直线交叉记号的交点为标记点,可通过标记点周围的图形推理计算标记点所在位置,避免因标记点成像不清晰而导致标记点识别出现误差,用图像识别代替人工量取,自动化程度高,快速高效,减少人为误差,省时省力。

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