掩模
    114.
    实用新型
    掩模 有权

    公开(公告)号:CN220665418U

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202321636862.4

    申请日:2023-06-26

    Abstract: 一种掩模,其可以具备:基材,其包括沿第一方向延伸的第一侧缘和第二侧缘、且包括第一面和第二面;和多个贯通孔组,其贯通所述基材。在俯视时,掩模可以具备:第一部分,其包括至少1个第一贯通孔组;和第二部分,其包括至少1个在第一方向上与第一贯通孔组相邻的第二贯通孔组。第一贯通孔组的第一排列方向与第二贯通孔组的第二排列方向所成的第一角度θ1可以为0.00042°以上。第一排列方向是属于第一贯通孔组且沿着第一侧缘排列的贯通孔的排列方向。第二排列方向是属于第二贯通孔组且沿着第一侧缘排列的贯通孔的排列方向。

    蒸镀掩模装置和掩模支承机构

    公开(公告)号:CN211713188U

    公开(公告)日:2020-10-20

    申请号:CN202020154646.6

    申请日:2020-02-06

    Abstract: 本实用新型提供蒸镀掩模装置和掩模支承机构。蒸镀掩模装置具备:框架;支承体,其具有固定于框架的多个支承部件;以及蒸镀掩模,其固定于框架。多个支承部件至少包含:第1支承部件,其最接近框架的第3部分与第4部分的中间位置;和第2支承部件,其比第1支承部件靠框架的第3部分侧。第1支承部件在从框架向下方以第1挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模,第2支承部件在从框架向下方以比第1挠曲量小的第2挠曲量挠曲的状态下从下方支承蒸镀掩模。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    蒸镀掩模
    116.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207918940U

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201820059332.0

    申请日:2018-01-15

    Abstract: 本实用新型提供蒸镀掩模。蒸镀掩模具备:形成有贯通孔的第1面及第2面;一对长侧面,它们与第1面和第2面连接,限定蒸镀掩模在蒸镀掩模的长度方向上的轮廓;以及一对短侧面,它们与第1面和第2面连接,限定蒸镀掩模在蒸镀掩模的宽度方向上的轮廓。长侧面具有向内侧凹陷的第1部分,第1部分具有:位于第1面侧的第1端部;和位于第2面侧且比第1端部靠内侧的第2端部。贯通孔包括:形成于第1面侧的第1凹部;和形成于第2面侧且在孔连接部处与第1凹部连接的第2凹部。长侧面的第1部分的第1端部比孔连接部靠第1面侧。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    掩模
    117.
    实用新型
    掩模 有权

    公开(公告)号:CN218146905U

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202221559728.4

    申请日:2022-06-21

    Abstract: 本实用新型涉及掩模。掩模可以具备:基材,包含沿第1方向延伸的第1侧缘和第2侧缘并包含第1面和第2面;和贯通孔组,贯通基材。在俯视时,掩模可以具备:在上述第1方向上相向的第1端部和第2端部;和位于第1端部与第2端部之间并包含贯通孔组的中间部。第1侧缘可以包含位于第1端部与中间部的边界并在与第1方向正交的第2方向上位移的第1台阶部。第2方向上的第1台阶部的尺寸可以为1mm以下。第1端部可以包含位于第1面或第2面的第1标记。

    蒸镀掩模
    120.
    实用新型

    公开(公告)号:CN212476863U

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202020747759.7

    申请日:2019-07-05

    Inventor: 池永知加雄

    Abstract: 本公开的蒸镀掩模,在设从P1点到Q1点的尺寸为X1,设从P2点到Q2点的尺寸为X2,设尺寸X1和尺寸X2的设计值为αX时,所述蒸镀掩模满足数式1,【数式1】(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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