一种多阻态忆阻器
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    发明公开

    公开(公告)号:CN102832343A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201210348359.9

    申请日:2012-09-18

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提供了一种多阻态忆阻器,包括:自下而上依次生成的底电极层、阻变层、顶电极层,其中底电极层和顶电极层用于与外部电源进行电连接,阻变层用于实现多阻态之间的转换;使多阻态忆阻器工作在单、双极两种操作方式下,不同阻值间的变化由顶电极上所加电压激励的方向和大小控制;通过本发明解决了多值存储中多阻态的稳定性和一致性问题,满足了多值存储的需要。

    阻变存储器存储单元及其制备方法

    公开(公告)号:CN102117822A

    公开(公告)日:2011-07-06

    申请号:CN200910244442.X

    申请日:2009-12-31

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明具体涉及一种阻变存储器存储单元及其制备方法,属于非挥发性存储器件技术领域。为解决小尺寸下传统平面肖特基二极管驱动电流不足的缺点,本发明提供一种阻变存储器存储单元,包括单晶硅衬底以及阻变存储材料层,所述存储单元还包括肖特基二极管;所述肖特基二极管作为开关及电流驱动单元设置于所述单晶硅衬底与所述阻变存储材料层之间。其中阻变存储材料层和肖特基二极管都可以用传统CMOS工艺来制备。该1D-1R结构可有效克服在小尺寸下传统平面肖特基二极管驱动电流不足的缺点,可有效应用于阻变非挥发性存储器单元中,获得具有足够驱动电流、高密度、高可靠性阻变存储单元,且其制备方法是与传统CMOS工艺相兼容。

    太阳能电池的复合电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN101692411A

    公开(公告)日:2010-04-07

    申请号:CN200910093999.8

    申请日:2009-10-09

    Applicant: 北京大学

    CPC classification number: Y02E10/542 Y02E10/549

    Abstract: 本发明公开了一种染料敏化太阳能电池的复合电极,其包括导电基片、形成于所述导电基片上的多孔状半导体电极层,以及吸附于所述半导体电极层上的半导体纳米颗粒膜层。本发明的技术方案通过蒸发或溅射形成的Ti薄膜可以与透明导电波膜形成良好的界面接触,因此通过阳极氧化法制备的TiO2纳米孔结构后,在透明导电基底与纳米TiO2层形成了良好的界面接触,有效地避免了光电子在透明导电基底与纳米TiO2层界面的输运损失。整个工作电极是由TiO2纳米孔结构以及TiO2纳米颗粒组成的,它们之间的接触良好,利于电子更好地传输,从而可以提高光电转换效率。

    一种自对准的金属氧化物薄膜晶体管的制作方法

    公开(公告)号:CN101488459A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200910077731.5

    申请日:2009-02-13

    Abstract: 本发明提供了一种自对准的金属氧化物薄膜晶体管的制作方法,先在玻璃衬底上依次形成金属源漏区、金属氧化物半导体沟道区和透明栅介质层后,在栅介质层上涂布正性光刻胶,前烘后从玻璃衬底的背面进行曝光,显影并坚膜,然后带胶生长一层导电薄膜,再剥离光刻胶和导电薄膜,光刻和刻蚀形成栅电极。该方法可保证器件的栅电极和源漏区之间形成自对准,即栅电极对称位于源漏之间正上方,而且其长度由源漏之间的距离而非掩膜版上的尺寸所决定,有效避免寄生效应的产生。

    一种用于肿瘤细胞检测的传感器的制备方法

    公开(公告)号:CN112858418B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202110205251.3

    申请日:2021-02-24

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种用于肿瘤细胞检测的传感器的制备方法,该方法将3D打印技术与微电子技术结合,制备出的传感器结构包括衬底、绝缘层、传感层,两个测试电极和溶液装载区,绝缘层位于衬底之上,传感层位于绝缘层之上,测试电极和溶液装载区位于传感层之上,溶液装载区位于两个测试电极之间。本发明基于细胞外基质pH的准确测量,实现肿瘤细胞检测工作。本发明可用于临床肿瘤细胞的实时、准确测定。

    底栅氧化物半导体薄膜晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN107464848B

    公开(公告)日:2020-08-25

    申请号:CN201710532464.0

    申请日:2017-07-03

    Abstract: 本申请涉及一种底栅氧化物半导体薄膜晶体管及其制备方法,该方法包括在衬底上依次堆叠形成底栅电极、底栅介质层、氧化物半导体有源层、沟道保护层以及钝化层和在所述钝化层开口中引出的源、漏电极,所述有源层经图形化形成有源区,所述沟道保护层经图形化形成沟道保护区;所述方法还包括,在所述有源区和所述沟道保护区上形成掺杂材料层以及随后的退火操作,从而在所述有源区中形成所述薄膜晶体管的源区和漏区。本申请还公开了根据该方法制备的底栅氧化物半导体薄膜晶体管。

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