公开(公告)号：CN1402066A

公开(公告)日：2003-03-12

申请号：CN02142050.5

申请日：2002-08-23

Applicant: 夏普株式会社 ,  大见忠弘

Inventor： 小林和树 ,  藤野公明 ,  迫野郁夫 ,  大见忠弘 ,  须川成利 ,  森本明大

IPC: G02F1/136 ,  H01L21/3205 ,  H01L29/786

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F1/136213 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/78633

Abstract: 制造具有埋置式结构的基片的方法，包括以下步骤：制备具有主表面的玻璃基片；通过湿法蚀刻工艺在玻璃基片的主表面制成凹槽；和在玻璃基片的主表面沉积第1材料，并用其填充凹槽，制成具有与主表面基本齐平的表面的埋置式结构，制成凹槽的步骤包括：使用包含氢氟酸、氟化铵、和盐酸或草酸的蚀刻剂进行湿法蚀刻工艺。

公开(公告)号：CN1399720A

公开(公告)日：2003-02-26

申请号：CN00809901.4

申请日：2000-06-05

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  川田幸司 ,  池田信一 ,  森本明弘 ,  皆见幸男 ,  米华克典 ,  本井傅晃央

IPC: G01N25/32

CPC classification number: G01N25/32 ,  G01N33/0013

Abstract: 本发明的主要目的是简化气体检测传感器的构造，并且在有H2O和O2存在的条件下，可高精度地检测被检测气体内的可燃性气体的浓度、和含有可燃性气体的被检测气体内的氧气的浓度。为了达到上述目的，本发明的气体检测传感器是通过可燃性气体的接触反应而使传感器发热，通过该发热而发出可燃性气体的检测信号的气体检测传感器，由以下部分构成：膜片，该膜中在被检测气体所接触的接气面上具有白金镀层薄膜；第1检测传感器，该检测传感器由两种不同金属的一端分别接近上述膜片的非接气面地固定的热电偶构成，通过可燃性气体的接触反应而被加热；具有与被检测气体相接触的接气面的膜片；对被检测气体的温度进行检测的第2检测传感器，该传感器由两种不同金属的一端分别接近上述膜片的非接气面地固定的热电偶构成。

公开(公告)号：CN1398661A

公开(公告)日：2003-02-26

申请号：CN01123256.0

申请日：2001-07-23

Applicant: 日本酸素株式会社 ,  大见忠弘

Inventor： 石原良夫 ,  大见忠弘

IPC: B01D53/68 ,  C30B25/14

Abstract: 一种化学气相沉积(CVD)排气的处理回收方法及装置，是将化学气相沉积排气中所含有的原料气体或中间产物转化反应成高挥发性的卤化物，以防止排气系统管路的附着、堆积、可将具有再利用价值的资源进行分离回收、以及减少保养维护。将化学气相沉积排气中所含有的原料气体与中间产物进行分解处理或转化反应处理，待一部分分解后，即进行氢卤化硅气体与氯化氢的分离回收。又，原料气体及中间产物也可完全分解成氯化氢再进行回收。

公开(公告)号：CN1363719A

公开(公告)日：2002-08-14

申请号：CN01143879.7

申请日：2001-12-14

Applicant: 夏普株式会社 ,  大见忠弘

Inventor： 钟筑律夫 ,  山本达志 ,  平山昌树 ,  大见忠弘

IPC: C23C16/00 ,  C23C16/513 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23F4/00 ,  H01L21/32136

Abstract: 按照一种等离子体处理方法,送入处理腔体(1)内的处理气体产生等离子体并且借助等离子体对处理腔体(1)内放置的衬底(8)进行处理。衬底(8)包括至少两种类型被等离子体刻蚀的堆叠薄膜(21,22),并且根据被刻蚀的薄膜类型,改变等离子体产生期间内的处理气体。因此可以缩短除主等离子体处理以外的任何过程所需时间从而可以缩短整个等离子体处理的总计时间以改善处理速度。

公开(公告)号：CN1322007A

公开(公告)日：2001-11-14

申请号：CN01120789.2

申请日：2001-03-21

Applicant: 夏普公司 ,  大见忠弘

Inventor： 钟筑律夫 ,  田寺孝光 ,  山本达志 ,  平山昌树 ,  大见忠弘

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32192 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/511

Abstract: 本发明提供一种能够防止异常等离子体的发生、可稳定地实施均匀的等离子体处理的等离子体处理装置。该等离子体处理装置具备:处理室(1、2);微波发射构件(5);以及反应气体供给装置(14、15、21、22),反应气体供给装置包含反应气体供给路(15),该供给路具有在微波发射构件的另一壁面和处理室内壁面的一部之间形成的空间,还具备防微波透射构件(16),该防微波透射构件被配置在微波发射构件的另一壁面上的面对反应气体供给路的区域上。

公开(公告)号：CN1236418A

公开(公告)日：1999-11-24

申请号：CN98801149.2

申请日：1998-08-13

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘 ,  东京电子株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  加贺爪哲 ,  杉山一彦 ,  深田収 ,  尾泽进 ,  佐藤义浩 ,  土肥亮介 ,  宇野富雄 ,  西野功二 ,  福田浩幸 ,  池田信一 ,  山路道雄

IPC: F15D1/08 ,  B23P15/16

CPC classification number: G01F1/40 ,  G05D7/0186

Abstract: 一种压力式流量控制装置中使用的节流孔,节流孔具备入口圆锥部1和与其相连接的节流平行部2,该节流平行部2为在压力式流量控制装置中使用的节流孔中,将穿设在主体构件D上的下孔6一方的开口端部切削而形成的喇叭吹口状;并且还具备圆锥扩径部3和与其相连接的平行扩径部4,该圆锥扩径部3与通过将上述下孔6另一方的开口端部扩径而形成的上述节流平行部2相连接。

公开(公告)号：CN101942648A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN201010226730.5

申请日：2004-08-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  大见忠弘 ,  日本瑞翁株式会社

Inventor： 小林保男 ,  川村刚平 ,  大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  杉本达也 ,  山田俊郎 ,  田中公章

IPC: C23C16/32

CPC classification number: H01L21/3127 ,  H01L21/0212 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3146

Abstract: 本发明涉及一种等离子CVD法用气体，包括不饱和碳氟化合物，并且含有作为杂质的不超过1×10-3原子％且多于0原子％的氢原子。

公开(公告)号：CN101263589B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200580051562.8

申请日：2005-09-13

Applicant: 大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  赤堀浩史

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L29/78 ,  B65G49/00 ,  B65G49/07 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/3003 ,  B65G2201/0247 ,  H01L21/31 ,  H01L29/6659 ,  H01L29/7833

Abstract: 本发明通过在含有氢气的惰性气体气氛中保持晶片，抑制晶片表面的氢末端性在输送途中(20)等中变差。

公开(公告)号：CN1751415B

公开(公告)日：2010-05-05

申请号：CN200480004525.7

申请日：2004-02-17

Applicant: 大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  森本明大 ,  中村史明

IPC: H01Q1/38

CPC classification number: H01Q9/0485

Abstract: 在通过使电介质谐振来发射电波的电介质谐振器天线中，通过使电介质含有磁性体，使相对磁导率大于1且降低相对介电常数，从而以维持波长缩短率的状态使谐振的Q值降低，由此，实现宽频带的电介质谐振器天线。

公开(公告)号：CN100591959C

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200710142236.9

申请日：2003-12-18

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  池田信一 ,  西野功二 ,  永濑正明 ,  土肥亮介 ,  西村龙太郎

IPC: F16K7/17 ,  G05B13/00 ,  G05D16/02

CPC classification number: F16K47/02 ,  F16K47/023 ,  F16L55/043 ,  Y10T137/0324 ,  Y10T137/0379 ,  Y10T137/0396 ,  Y10T137/7761 ,  Y10T137/86389 ,  Y10T137/86461

Abstract: 通过极为简单的装置及操作，不会发生水击、而且在短时间内，可以将流体通路紧急关闭。为此，由以下部分构成无水击关闭装置：加装在流体通路上的致动器动作式阀；向致动器动作式阀供应两级阶梯状的致动器动作压力Pa的电-气变换装置；可自由拆装地固定到前述致动器动作式阀的上游侧管路上的振动传感器；输入由振动传感器检测出来的振动检测信号Pr、并且向电-气变换装置输出控制前述两级阶梯状的致动器动作压力Pa的阶梯动作压力Ps′的大小的控制信号Sc，通过该控制信号Sc的调整、从电-气变换装置输出振动检测信号Pr基本上成为零的阶梯动作压力Ps′的两级阶梯状的致动器压力Pa的调整箱。