一种非辐射边馈电的微带天线
    102.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115693133A

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN202211460183.6

    申请日:2022-11-21

    Abstract: 本申请提供一种非辐射边馈电的微带天线,包括介质基板、辐射贴片、馈电网络和接地板,所述介质基板具有相反的正面和背面,所述辐射贴片和所述馈电网络布设于所述正面上,所述接地板布设于所述背面上,所述辐射贴片设有用于馈电的第一非辐射边,所述馈电网络电连接于所述第一非辐射边。有益效果在于:提供一种非辐射边馈电的毫米波微带天线,对微带天线进行调控,阻抗带宽比较宽,在基本的加工误差范围内,可以实现与雷达系统的阻抗匹配,同时馈电简单、易与馈电系统集成,且体积小,成本较低,适合推广。

    一种具有表面电荷区结构的功率器件

    公开(公告)号:CN108550628B

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN201810399461.9

    申请日:2018-04-28

    Abstract: 本发明提供一种具有表面电荷区结构的功率器件,包括由下至上依次设置的P衬底I(1)、浮空等位层(4)、P衬底II(2)和漂移区(5);所述漂移区(5)上设置有N+漏区、漏电极(10)、栅电极(12)、源电极(11)、N+接触区、P阱(7)以及P+源区;所述漂移区(5)的顶部且位于漂移区内设置有一系列横向且等距离分布的N+电荷区(6)而形成表面电荷区。本发明由于在漂移区表面设置一系列等间距的N+电荷区表面电荷区结构,表面电荷区产生界面电荷,增强了电荷区内电场,提高了器件横向耐压;界面电荷同时增强埋层纵向电场和纵向耐压,降低了漏极附近电场,防止器件表面过早击穿;由于采用等间距N+的表面电荷区结构,工艺简单可行,工艺容差较好,与常规CMOS工艺兼容。

    可见光到近红外双波段内嵌椭圆谐振腔传感器

    公开(公告)号:CN113483792A

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN202110752013.4

    申请日:2021-07-03

    Abstract: 本发明公开了可见光到近红外双波段内嵌椭圆谐振腔传感器,该传感器由输入输出的波导,矩形腔和椭圆环形谐振腔组成,其中波导的宽度为w,矩形谐振腔与输入输出波导之间的耦合距离为g,矩形谐振腔的宽度和高度分别为q和h,矩形谐振腔和椭圆环形谐振腔的耦合距离为g1,椭圆环形谐振器的外椭圆长轴长度和短轴长度为A1,B1,内部椭圆长轴长度和短轴长度为a1,b1。光波在波导中传输时,通过矩形腔与椭圆环形谐振腔的耦合,产生Fano共振,改变结构中的几何参数和介质的折射率后,使Fano共振谱线偏移。本发明可以实现从可见光到近红外波段的双通道调控,并且可以获得较高的灵敏度和品质因数(FOM),计算的灵敏度和品质因数最高为1075nm/RIU和91914。该发明提供的结构易与其他光子器件集成,研究结果可以为这种结构的未来应用提供指导。

    一种二维材料阻变存储器及其制备方法

    公开(公告)号:CN113241406A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110481388.1

    申请日:2021-04-30

    Abstract: 本发明公开了一种二维材料阻变存储器及其制备方法,相比于化学气相沉积制备的阻变存储器具有制备方便和对设备没有依赖性等优势,对于滴铸、旋涂等方法制备的阻变存储器又具有均匀性好,重复性好,制备简单等优势。利用本发明所述方法制备的二维材料阻变存储器所展示了6个数量级的开关比,相比于其他传统材料在几十纳米以下表现出的2到3个数量级具有明显优势,并且高于基于滴铸法和旋涂法制备的二维材料阻变存储器所展示的4到5个数量级,在制备简单、对设备依赖性不高的情况下能够达到与化学气相沉积所制备的二维材料阻变存储器(7个数量级)相似的开关比,在这样的高开关比下阻变存储器还具有着多级储存的潜力。

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