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公开(公告)号：CN103949771B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201410050350.9
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于特征人工节瘤缺陷的高反射薄膜激光预处理技术，包括：利用SiO2颗粒或金属颗粒制备出包含不同特征人工节瘤缺陷的高反射薄膜被测样品；分别测量获得同种类型人工节瘤缺陷在未进行激光预处理和进行激光预处理后的损伤阈值，依据损伤阈值提升的幅度优化激光预处理工序中的初始能量梯度、能量递增梯度和最大能量梯度；在获得单一缺陷最优激光预处理工艺的基础上，进一步研究其它类型缺陷的最优工艺；最终可以根据实际样品中缺陷的类型和尺寸，选择最优的激光预处理工艺，实现实际样品损伤阈值的最大提升。与现有技术相比，本发明针对高反射薄膜中损伤阈值最低、且最容易率先发生损伤的节瘤缺陷，以特征人工节瘤缺陷的损伤阈值提升为标准，能够获得最优激光预处理工艺。
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公开(公告)号：CN103173720B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201310093167.2
申请日：2013-03-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种防水性激光薄膜的制备方法，根据实际应用中要求，即正入射800nm泵浦光透射、背入射1064nm基频光反射，采用真空电子束蒸发沉积工艺制备HfO2和SiO2膜层，作为背入射时靠近基板电场大、易损伤的膜层，以获得较高的抗激光损伤阈值；针对水冷系统的工作环境，对于靠近水侧、易被渗透侵蚀的膜层，采用离子束辅助沉积工艺制备Ta2O5和SiO2膜层，改善薄膜微观结构，获得较高的堆积密度，实现良好的防水性能；高低折射率材料HfO2、Ta2O5和SiO2交替沉积为多层膜，控制每层的光学厚度，以获得所需的光谱特性。该方法能很好的兼顾这三种特性，使其能应用于二极管泵浦固体激光器系统钕玻璃基板上，使之能在水冷系统中正常工作，并且具有良好的抗激光损伤性能和系统所需的光谱性能。
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公开(公告)号：CN103042008B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201210569708.X
申请日：2012-12-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜元件用光学基板的清洗方法，具体步骤为：用蘸有丙酮的棉签擦拭光学基板，直至在白炽灯照射下基板表面无肉眼可见的污染物为止；将擦拭后的基板置于第一槽碱性溶液，分别用不同频率对基板先后进超声清洗；将所得基板放置于第二槽中，用去离子水喷淋；将基板放置于第三槽去离子水中，分别在不同频率下先后超声3～6分钟，在白炽灯下观测基板表面洁净度，无肉眼可见颗粒后将基板放置于第四槽去离子水中在80KHz超声下进行慢提拉，用热吹风将提拉后的基板干燥，即得到所需产品。本发明将清洗过程与表面检测结合起来，将擦拭法、化学清洗法、超声波清洗法结合起来综合运用，以达到清洗效率高而又对基板光滑表面损伤小的最优清洗效果。
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公开(公告)号：CN104535984A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201410828917.0
申请日：2014-12-29
Applicant: 同济大学
CPC classification number: G01S7/4814 , G02B27/10
Abstract: 本发明涉及一种双通道复合波长近红外激光雷达发射系统光学镜头。两路光学通道的共用激光光源和前级扩束系统，两路通道输出不同口径的平行光束，通过转换镜切换进行分时工作，满足了紧凑化和低成本的要求，实现了模块化设计；共用的前级扩束系统利用两种光学材料进行消色差设计，满足复合工作波长的需求。通过改变激光光源输出波长，系统功能实现复合工作波长、双发射通道输出不同口径平行光束的多工作模态。本发明中的两路光学通道光轴平行，在调整好测试设备与待测目标后，仅仅调整系统的工作波长和移动切换镜即可对待测目标进行不同波段、不同测试模式的测量，显著提高了测量的便捷性。从工程应用角度考虑，为确保系统的切换复位精度，本发明采用了固定大口径折反射通道，对小口径通道加入反射切换机构的方式。
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公开(公告)号：CN103226057B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201310102099.1
申请日：2013-03-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种真空环境下高效率多功能的激光损伤测试装置和方法，真空腔内的样品台一次可以放入五个样品，通过旋转样品台，可以将样品依次旋转至激光辐照位置进行激光损伤测试，利用CCD相机在线成像和散射光探测装置以及压力探测元件进行在线监测、判断损伤情况，还可以将样品旋转至观察窗用显微镜离线观察分析其损伤形貌。同时样品台的旋转又能够实现样品的正面和背面分别接受激光辐照的功能。该装置简单易操作，极大地节省了真空环境下的损伤测试时间，提高了损伤测试的效率，同时测试方法和功能多样，能够得到比较全面的损伤信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103949771A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410050350.9
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于特征人工节瘤缺陷的高反射薄膜激光预处理技术，包括：利用SiO2颗粒或金属颗粒制备出包含不同特征人工节瘤缺陷的高反射薄膜被测样品；分别测量获得同种类型人工节瘤缺陷在未进行激光预处理和进行激光预处理后的损伤阈值，依据损伤阈值提升的幅度优化激光预处理工序中的初始能量梯度、能量递增梯度和最大能量梯度；在获得单一缺陷最优激光预处理工艺的基础上，进一步研究其它类型缺陷的最优工艺；最终可以根据实际样品中缺陷的类型和尺寸，选择最优的激光预处理工艺，实现实际样品损伤阈值的最大提升。与现有技术相比，本发明针对高反射薄膜中损伤阈值最低、且最容易率先发生损伤的节瘤缺陷，以特征人工节瘤缺陷的损伤阈值提升为标准，能够获得最优激光预处理工艺。
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公开(公告)号：CN103885099A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410050337.3
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
IPC: G02B1/11
Abstract: 本发明涉及一种基于多次迭代刻蚀技术的透射型光学元件损伤阈值提升方法，该方法包括以下步骤：采用高浓度氢氟酸溶液对光学元件进行快速刻蚀，刻蚀深度为d1；利用环形抛光机对光学元件进行快速抛光，抛光去除深度为d2；光学元件在300度高温下烘烤，然后利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d3；再次低速抛光处理，抛光去除深度为d4；再次利用离子源对光学元件表面进行轰击刻蚀，刻蚀深度为d5。与现有技术相比，本发明具有针对性强、重复性好等优点，通过多次迭代刻蚀，特别是采用逐次递减的去除深度和去除速率，能够大幅提升透射型光学元件的损伤阈值。
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公开(公告)号：CN103882378A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410050236.6
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种非线性晶体三硼酸氧钙钇晶体表面高激光损伤阈值增透膜的制备方法。针对YCOB晶体各向异性强及增透膜的损伤机理，该方法的步骤包括YCOB基板的氢氟酸刻蚀、YCOB基板的冷加工、YCOB基板的离子束刻蚀、YCOB基板的超声波清洗、YCOB基板的真空离子束清洗以及YCOB基板上薄膜镀制。由本发明制备的YCOB增透膜光学特性优异、损伤阈值高、环境稳定性好，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、易于推广等优点，在未来的高功率激光薄膜领域具有广泛应用前景。
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公开(公告)号：CN102747328B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201210213070.6
申请日：2012-06-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高高反射薄膜激光损伤阈值的镀膜方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对高反射激光薄膜中影响损伤阈值高低的两个关键因素——吸收和缺陷，在电子束蒸镀每层膜结束后，采用高能离子束对薄膜进行轰击处理，此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度，大大提高了高反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103233200A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201310103177.X
申请日：2013-03-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种355nm高阈值高反膜的制备方法，主要针对LaF3/MgF2高反膜中限制薄膜机械特性进而影响光学特性和阈值的关键因素——张应力，采用热舟蒸发技术蒸镀氟化物，在每次镀完LaF3后，采用高能沉积技术镀制一定厚度的SiO2。相对于传统的电子束蒸发和溅射蒸发，本发明不仅可以保证氟化物薄膜中化学计量比的平衡，而且具有应力相对较小的特性；在氟化物膜层中插入一定厚度高能粒子轰击的SiO2膜层，可以在尽可能保持LaF3/MgF2高反膜光谱特性和抗激光损伤特性的同时，很好的补偿膜层中的张应力，降低薄膜的整体应力，从而得到良好的高反射率。本发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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