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公开(公告)号：CN118671956B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202411141311.X
申请日：2024-08-20
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种集成量子隧穿传感的单分子等离激元光镊系统，该系统包括用于激发隧穿电极探针局域表面等离激元共振的激发光模块，用于照明成像视场的照明模块，用于观测隧穿电极探针在待测溶液中的位置、定位隧穿电极探针的尖端纳米电极对所在焦平面的成像模块，用于单分子量子隧穿信号探测的电学检测模块。隧穿电极探针的尖端具有纳米电极对，且两个电极的间隙满足使得探针具有量子隧穿效应，电极的材料满足能够产生等离激元共振效应。本发明使用具有量子隧穿传感功能的纳米电极探针作为等离激元光镊操纵平台，可以实现亚5纳米尺度下的单分子的同步光学捕获与实时测量。
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公开(公告)号：CN118671956A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202411141311.X
申请日：2024-08-20
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种集成量子隧穿传感的单分子等离激元光镊系统，该系统包括用于激发隧穿电极探针局域表面等离激元共振的激发光模块，用于照明成像视场的照明模块，用于观测隧穿电极探针在待测溶液中的位置、定位隧穿电极探针的尖端纳米电极对所在焦平面的成像模块，用于单分子量子隧穿信号探测的电学检测模块。隧穿电极探针的尖端具有纳米电极对，且两个电极的间隙满足使得探针具有量子隧穿效应，电极的材料满足能够产生等离激元共振效应。本发明使用具有量子隧穿传感功能的纳米电极探针作为等离激元光镊操纵平台，可以实现亚5纳米尺度下的单分子的同步光学捕获与实时测量。
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公开(公告)号：CN118244445A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410660267.7
申请日：2024-05-27
Abstract: 本发明公开了一种定力矩止动的高精度物镜对焦装置及对焦方法，该装置包括主体固定框架、压电驱动器、电动止推杆、止动活动块、止动部件底座、止动滑动块、主体滑动框架、弹簧柱塞、编码器、光栅尺、升降电机、升降连接器、行程挡块、行程开关等部件。该装置为一种小型化的集成物镜对焦装置，兼顾大范围运动行程与小范围运动精度，并配合行程开关和编码器光栅尺等部件实现闭环绝对位置控制和检测；且使用一种基于杠杆的固定力矩装置进行物镜升降止动，在止动时实现固定的止动力，根据安装的物镜重量进行预设，在失电时能保持止动。利用本发明装置及方法搭建的物镜对焦装置，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN114326322B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111528094.6
申请日：2021-12-14
Abstract: 本发明公开了一种基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统。该系统使用一片包括m×m个镜元的微透镜阵列产生m×m束并行光束，结合紫外飞秒激光器、四光束分束器、DMD、合束器、平板光束位移元件、透镜、物镜搭建而成的光路在物镜焦平面上形成2m×2m个焦点点阵分布，将基于微透镜阵列和DMD的激光直写通量提高到原来的4倍，大幅提高直写速度，且每个焦点可由DMD独立调节光强，从而结合直写算法实现任意图形的并行超分辨激光直写。本发明可应用于微透镜阵列、衍射光学元件、光刻掩模板等的快速加工制造。
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公开(公告)号：CN114002799B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111216079.8
申请日：2021-10-19
Abstract: 本发明公开了一种三轴弹性结构光学调整架，该调整架为一种弹性调节构型，利用结构件本身的弹性提供调整架所需的调节活动范围，并通过预制负角度的初始安装位置使弹性部件获得负极限调节位置，以此实现调节范围内始终能够获得预紧力，及调节零位正负方向上的调节能力；通过组合三对弹性调节结构，使其形成互相垂直的三个调节回转轴，对与安装在该调整架上的光学元件，可获得三轴转动的调节能力，并具有锁定功能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112596349B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202110046632.1
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN112326665B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202011039692.2
申请日：2020-09-28
Abstract: 本发明公开了一种基于空间分步式移频照明的缺陷检测系统，包括光源、显微物镜、管镜、图像探测器、控制模块和数据处理模块，其中，光源包括垂直照明光源和倾斜照明单元。垂直照明光源和各倾斜照明单元的出射光能够照射到被观测样品上而激发出散射场，散射场经显微物镜收集后再经管镜整形而入射到图像探测器，并由数据处理模块转换成远场强度图。控制模块按时序控制各光源的点亮以及各光源照明下图像探测器对被观测样品散射场信号的采集。数据处理模块通过对被观测样品空间频谱信息的重构，最终实现无论是在透射式照明还是反射式照明条件下，被观测样品表面复杂缺陷特征轮廓信息和细节特征信息的检测成像。
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公开(公告)号：CN115639729B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202211053614.7
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法和系统，本发明将一水平偏振方向的激光入射至空间光调制器的液晶面元，所述的空间光调制器加载不同的全息相位图实现对入射光束的分束并调整分束后各个子光束的位置，从而实现良好地耦合进光纤阵列。光纤阵列通过光开光模块实现每一路光的开关。通过每路光的开关以及三维位移台的移动，实现三维大面积的微纳结构直写，本发明的直写效果更加丰富，直写效率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN113189846B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202110388124.1
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20 , G03F1/68 , B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/066 , B23K26/067
Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
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公开(公告)号：CN116224575A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310521844.X
申请日：2023-05-10
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明公开了一种带有滤波功能的光束漂移矫正装置及方法，入射光束经第一压电反射镜架、第二压电反射镜架上的反射镜再经过依次布置的第一透镜、针孔和第二透镜进行滤波，然后一部分光束经第一固定反射镜架上的反射镜透射至能量探测PD上，一部分光束经第二固定反射镜架上的反射镜出射至位置探测CCD的探测面上；通过调整第一压电反射镜架使能量探测PD上的光强保持最大值，以矫正光束位置漂移量；通过调整第二固定反射镜架使位置探测CCD的光斑形心坐标与初始光斑形心坐标相同，实现光束漂移矫正。本发明装置不仅可以完成光束大范围位置漂移和角度漂移矫正，还可以进行滤波，提供光束质量，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持。
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