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公开(公告)号：CN101331593A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200680047185.5
申请日：2006-12-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 化学机械研磨用水系分散体，其含有(A)细孔容积为0.14ml/g以上的磨粒和(B)分散介质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102150082B
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN200980135499.4
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C08F20/28 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。
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公开(公告)号：CN103140551B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201180047387.0
申请日：2011-09-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L33/04 , C08F220/18 , C08F224/00 , C08L37/00 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F224/00 , C08L2312/06 , C09D133/04 , G03F7/004 , G03F7/2041
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有［A］具有来自下述式（1）表示的化合物的结构单元（I）和来自下述式（2）表示的化合物的结构单元（II）的聚合物、［B］产酸体和［C］有机溶剂。式（1）中，R1与构成内酯环的碳原子一起形成碳原子数3～8的环结构。R2为氟原子、羟基或碳原子数1～20的有机基团。a为0～6的整数。a为2以上时，多个R2可以相同或不同，也可以互相结合而形成环结构。其中，R1和R2中的至少1个基团具有杂原子或卤素原子。
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公开(公告)号：CN103140551A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201180047387.0
申请日：2011-09-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L33/04 , C08F220/18 , C08F224/00 , C08L37/00 , G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F224/00 , C08L2312/06 , C09D133/04 , G03F7/004 , G03F7/2041
Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性树脂组合物，其含有［A］具有来自下述式（1）表示的化合物的结构单元（I）和来自下述式（2）表示的化合物的结构单元（II）的聚合物、［B］产酸体和［C］有机溶剂。式（1）中，R1与构成内酯环的碳原子一起形成碳原子数3～8的环结构。R2为氟原子、羟基或碳原子数1～20的有机基团。a为0～6的整数。a为2以上时，多个R2可以相同或不同，也可以互相结合而形成环结构。其中，R1和R2中的至少1个基团具有杂原子或卤素原子。
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公开(公告)号：CN102150082A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200980135499.4
申请日：2009-09-10
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C08F20/28 , C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。
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公开(公告)号：CN100565813C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200680047185.5
申请日：2006-12-04
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 化学机械研磨用水系分散体，其含有(A)细孔容积为0.14ml/g以上的磨粒和(B)分散介质。
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