-
公开(公告)号：CN102333797A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201080008657.2
申请日：2010-02-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07C69/96 , C07C68/06 , C07C2601/14 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及通式(1)(其中，R0为碳原子数1～10的(n+1)价的直链状或支链状脂肪族烃基等，R1为氢原子、甲基或三氟甲基，R2为单键等，R3为碳原子数1～4的直链状或支链状烷基等，X为碳原子数1～10的直链状或支链状氟代亚烷基，n为1～5的整数)表示的化合物。
-
公开(公告)号：CN102037030A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980117928.5
申请日：2009-05-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/28 , C07C69/96 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F220/28 , C08F220/22
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法，其中，所述液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物对放射线的透明性高、灵敏度等作为抗蚀剂的基本物性优异、同时最小倒塌尺寸(倒塌)优异、且液浸曝光工艺中的图案形状的参差不齐得到改善。本发明的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂，其中，(A)树脂成分在将该(A)树脂成分设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。
-
公开(公告)号：CN112368643B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201980044459.2
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种无镀敷液的渗入而可制造形状良好的镀敷造形物的镀敷造形物的制造方法、电路基板及表面处理剂以及表面处理剂套组。本发明的镀敷造形物的制造方法包括：步骤(1)，将表面处理剂暴露于在表面具有含铜膜的基板上，形成表面处理基板，所述表面处理剂含有0.001质量％～2质量％的选自三唑(A1)及苯并三唑系化合物(A2)中的至少一种三唑化合物(A)及90质量％～99.999质量％的有机溶剂(B)；步骤(2)，在所述表面处理基板上形成抗蚀剂组合物的涂膜；步骤(3)，对所述涂膜进行曝光及显影，形成抗蚀剂图案；以及步骤(4)，将所述抗蚀剂图案作为掩模来进行镀敷液处理。
-
公开(公告)号：CN113508337A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202080017960.2
申请日：2020-04-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种感光性树脂组合物，用于形成驻波轨迹得到抑制且剖面为矩形的抗蚀剂图案膜。本发明的感光性树脂组合物含有：具有酸解离性基的聚合物(A)；光酸产生剂(B)；具有羟基的氨基甲酸酯(C)；以及溶剂(D)，所述溶剂(D)含有：选自丙二醇单甲醚乙酸酯等中的至少一种溶剂(D1)；以及选自二丙二醇二甲醚等中的至少一种溶剂(D2)。
-
公开(公告)号：CN112534353B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。#imgabs0#
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112534352A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980051416.7
申请日：2019-07-01
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/20 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供一种形成作为镀覆处理的掩模而有用的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用了通过所述形成方法所形成的抗蚀剂图案的镀覆成形物的制造方法、以及具有所述镀覆成形物的半导体装置，感光性树脂组合物含有：聚合体(A)，具有下述式(a1)所示的结构单元(a1)、下述式(a2)所示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所示的结构单元(a3)；以及光酸产生剂(B)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
-
公开(公告)号：CN102804065A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201080026410.3
申请日：2010-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/18 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F8/34 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/111 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有(A)含有酸解离性基团的树脂和(C)通式(i)表示的化合物(通式(i)中，R1表示氢原子等；R2表示单键等；R3表示氢原子的一部分或全部可以被氟原子取代的、碳原子数为1～10的直链状的1价烃基等；X+表示阳离子)。
-
公开(公告)号：CN112534353A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
-
公开(公告)号：CN110383170A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015558.3
申请日：2018-01-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制镀敷处理时的镀敷的渗入的镀敷造型物的制造方法，以及用于所述镀敷造型物的制造方法中、可在基板上形成抑制了镀敷的渗入的抗蚀剂的镀敷造型物制造用感光性树脂组合物。本发明的镀敷造型物的制造方法包括：在基材上形成感光性树脂组合物的感光性树脂涂膜的工序(1)，所述感光性树脂组合物含有因酸的作用而对碱的溶解性增大的树脂(A)、光酸产生剂(B)、及因酸的作用而分解并生成伯胺或仲胺的化合物(C)；对感光性树脂涂膜进行曝光的工序(2)；对曝光后的感光性树脂涂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序(3)；以及将抗蚀剂图案作为掩模进行镀敷处理的工序(4)。
-
公开(公告)号：CN102333797B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201080008657.2
申请日：2010-02-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07C69/96 , C07C68/06 , C07C2601/14 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及通式(1)(其中，R0为碳原子数1～10的(n+1)价的直链状或支链状脂肪族烃基等，R1为氢原子、甲基或三氟甲基，R2为单键等，R3为碳原子数1～4的直链状或支链状烷基等，X为碳原子数1～10的直链状或支链状氟代亚烷基，n为1～5的整数)表示的化合物。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.016 seconds)
