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发明公开
感光性树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、镀覆成形物的制造方法及半导体装置审中-实审转让

公开(公告)号：CN112534352A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN201980051416.7

申请日：2019-07-01

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 谷口拓弘 , 西口直希 , 松本朋之 , 榊原宏和 , 广昭人 , 秋丸尚徳

IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/20 , G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供一种形成作为镀覆处理的掩模而有用的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用了通过所述形成方法所形成的抗蚀剂图案的镀覆成形物的制造方法、以及具有所述镀覆成形物的半导体装置，感光性树脂组合物含有：聚合体(A)，具有下述式(a1)所示的结构单元(a1)、下述式(a2)所示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所示的结构单元(a3)；以及光酸产生剂(B)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。

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