一种晶圆清洗装置、系统及系统的工作方法

    公开(公告)号:CN116313899A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310046898.5

    申请日:2023-01-31

    Abstract: 本发明公开了一种晶圆清洗装置、系统及系统的工作方法,装置包括用于真空吸盘,真空吸盘上方设有一体式的清洗执行机构,清洗执行机构一端连接有驱动机构;清洗执行机构包括刷头,刷头套设在传动转轴上,传动转轴内设有至少一路清洗液管路,清洗液管路连接有管路支撑轴,清洗液管路的一端沿管路支撑轴的长度方向往外延伸,清洗液管路的另一端靠设有多个出液口,传动转轴和刷头相对于出液口的位置设有多个导液孔。本发明的结构更加紧凑,控制更加便捷,提高了晶圆的刷洗效率。通过刷头结构的设计使得刷头旋转过程中输液管路不会随着刷头一起进行旋转,从而清洗液不会伴随着刷头的旋转运动产生飞溅和浪费。

    一种面向具有微细内孔零件的绳式抛光装置

    公开(公告)号:CN117817533A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202410112212.2

    申请日:2024-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种面向具有微细内孔零件的绳式抛光装置,包括机体模块,机体模块内设有抛光液循环模块、工件固定运动模块和抛光绳控制模块。待抛光工件安装在工件固定运动模块上,在抛光液循环模块提供抛光液的情况下,通过抛光绳控制模块完成工件的光整加工。本发明所提供的一种面向具有微细内孔零件的绳式抛光装置,通过带有抛光工作段的抛光绳穿过狭长内孔,利用其高速旋转对具有微细内孔零件内壁进行磨削抛光加工。同时工件进行多自由度运动,实现对具有狭长内孔特征零件内孔的随形抛光。该装置的抛光效率高,抛光质量、抛光均匀性较好。

    一种双轨道自定位夹爪卡盘
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116276642A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310287310.5

    申请日:2023-03-22

    Abstract: 本发明属于夹具技术领域,具体涉及一种双轨道自定位夹爪卡盘,轨道盘在所述轨道盘的上表面设置有三个径向滑槽;套筒罩设于轨道盘的上方;所述第一轨道槽呈倾斜于套筒的周向和径向;三个夹爪均设置于所述套筒的上方,各个夹爪的柄部分别穿过对应第一轨道槽并与对应的滑块相连;套筒相对于轨道盘转动时,三个夹爪在第一轨道槽的导向作用下,相互聚拢或相互散开;多个定位开关设置于套筒上方且高于夹爪,且通过分别的立柱与轨道盘相连。本方案在夹爪卡盘上加装定位开关,其能够在实现夹取定位的同时,还能够在晶圆在夹取或松开时,防止轨道盘在摩擦力作用下移动,而导致夹取或松开动作的失效;通过两个轨道来对夹爪位置进行控制实现夹紧并定心,具有结构简单、夹持稳定性高的特点。

    一种单片半导体清洗系统的往复旋转喷头液路结构

    公开(公告)号:CN219400771U

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202320504160.4

    申请日:2023-03-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种单片半导体清洗系统的往复旋转喷头液路结构,涉及半导体加工技术领域,包括:悬臂,所述悬臂内设置有清洗液通道,悬臂装配在单片半导体清洗系统的悬臂驱动机构上;喷头,所述喷头装配在所述清洗液通道的出液端且其出液孔朝下,悬臂驱动机构驱动所述喷头往复旋转;快插接头,所述快插接头装配在所述清洗液通道的进液端并连接单片半导体清洗系统的供液软管;密封套壳,所述密封套壳位于所述清洗液通道的进液端,并装配在悬臂驱动机构上方对其进行密封保护。本实用新型通过设置内嵌式清洗液通道液路结构,避免了旋转过程中硅胶软管变形所导致流量以及喷淋效果的变化,保证了喷头的工作压力和流量从而保证了清洗的效果。

Patent Agency Ranking