公开(公告)号：CN103703163A

公开(公告)日：2014-04-02

申请号：CN201280038128.6

申请日：2012-07-25

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 玉垣浩 ,  芳贺润二

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/509

CPC classification number: C23C16/458 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/503 ,  C23C16/509 ,  F16J9/26 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32779

Abstract: 本发明的等离子CVD装置具备：真空腔室；真空排气部，将上述真空腔室内真空排气；气体供给部，向上述真空腔室内供给原料气体；等离子产生电源，使供给到上述真空腔室内的原料气体产生等离子；多个自转保持部，以自转的状态保持上述基材；和多个公转机构，使上述多个自转保持部绕与上述自转保持部的旋转轴轴心平行的公转轴公转；上述多个公转机构分别被分到第1组和第2组的任一个中，所述第1组连接在上述等离子产生电源的一个极上，所述第2组连接在上述等离子产生电源的另一个极上。

公开(公告)号：CN103649370A

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN201280033408.8

申请日：2012-07-05

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 玉垣浩 ,  芳贺润二

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/509 ,  C23C16/515

CPC classification number: C23C14/3464 ,  C23C14/32 ,  C23C14/505 ,  C23C16/4588 ,  C23C16/509 ,  H01J37/32036 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32715 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明的真空成膜装置是在基材形成皮膜的真空成膜装置，具备：真空腔室；对所述真空腔室内进行真空排气的真空排气单元；以自转的状态保持作为成膜对象的所述基材的多个自转保持部；以及使所述多个自转保持部在与各自转保持部的旋转轴平行的公转轴周围进行公转的公转机构，所述多个自转保持部被分为多个组，以按每个组成为不同的电位的方式对各自转保持部供给电力。例如，各组按时间交替地重复成为负的电极而作为在辉光放电等离子体生成中起到主体性的作用的作用极工作的状态和作为其异性极工作的状态。

公开(公告)号：CN103649370B

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：CN201280033408.8

申请日：2012-07-05

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 玉垣浩 ,  芳贺润二

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/509 ,  C23C16/515

CPC classification number: C23C14/3464 ,  C23C14/32 ,  C23C14/505 ,  C23C16/4588 ,  C23C16/509 ,  H01J37/32036 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32715 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明的真空成膜装置是在基材形成皮膜的真空成膜装置，具备：真空腔室；对所述真空腔室内进行真空排气的真空排气单元；以自转的状态保持作为成膜对象的所述基材的多个自转保持部；以及使所述多个自转保持部在与各自转保持部的旋转轴平行的公转轴周围进行公转的公转机构，所述多个自转保持部被分为多个组，以按每个组成为不同的电位的方式对各自转保持部供给电力。例如，各组按时间交替地重复成为负的电极而作为在辉光放电等离子体生成中起到主体性的作用的作用极工作的状态和作为其异性极工作的状态。

公开(公告)号：CN104903491A

公开(公告)日：2015-09-09

申请号：CN201380068470.5

申请日：2013-12-12

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 玉垣浩 ,  芳贺润二

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/44 ,  C23C16/503

CPC classification number: C23C16/54 ,  C23C16/26 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4588 ,  C23C16/503 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32779 ,  H01J37/32853 ,  H01J37/32899 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/6776

Abstract: 提供一种即使持续长时间使用也不花费清扫等工夫、能够在维持稳定的成膜条件的同时以高生产效率进行成膜处理的等离子体化学气相沉积装置（100）。等离子体化学气相沉积装置（100）包括成膜室（1）和与成膜室（1）分开的加载互锁真空室（20、30），是在这些室间输送基材并在基材上生成成膜的连续式。成膜室（1）包括真空腔室（2）、将真空腔室（2）内的空气排出的真空排气机构（3）、向真空腔室（2）内供给原料气体的气体供给部（9）、和使真空腔室（2）内产生等离子体的等离子体产生电源（10）。在成膜室（1）中，基材被分为与等离子体产生电源（10）的一极连接的第1组（18）、和与等离子体产生电源（10）的另一极连接的第2组（19），在相互为不同极性的第1组（18）的基材与第2组（19）的基材之间产生等离子体。