使用自组装的聚合物纳米掩模的表面纳米制造方法

    公开(公告)号:CN105229530A

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201480005862.1

    申请日:2014-01-21

    CPC classification number: B05D5/00 B82Y10/00 B82Y40/00 G03F7/0002 Y10S977/888

    Abstract: 用于制造纳米柱化基材表面的方法包括把包含两性嵌段共聚物和亲水均聚物的聚合物溶液施涂到基材表面。聚合物溶液中的两性嵌段共聚物和亲水均聚物在基材表面上进行自组装以形成自组装的聚合物层,该自组装的聚合物层包括与基材表面相邻的疏水结构域和延伸进入自组装的聚合物层的亲水结构域。可去除至少一部分的亲水结构域,从而在自组装的聚合物层的暴露的表面中形成多个孔。可将保护层沉积在暴露的表面作为掩模,用于通过多个孔蚀刻来形成通孔。可通过通孔把形成纳米柱的材料沉积到基材表面上。然后,可去除自组装的聚合物层的其余部分,来暴露纳米柱化基材表面。

    具有光引出层的柔性气密性薄膜

    公开(公告)号:CN105190931B

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:CN201480006404.X

    申请日:2014-01-22

    CPC classification number: H01L51/5253 H01L51/5268

    Abstract: 一种受保护的有机发光二极管(200),其包括在基材(10)上形成的有机发光二极管结构,在至少一部分的有机发光二极管结构上形成的气密性阻挡层(8),和光引出层(12)。所述阻挡层(8)可包括玻璃材料,例如氟磷酸锡玻璃,钨掺杂的氟磷酸锡玻璃,硫属化物玻璃,亚碲酸盐玻璃,硼酸盐玻璃或磷酸盐玻璃。可在阻挡层(8)上形成的光引出层(12)包括高折射率基质材料(16)以及下述的至少一种:在整个基质材料(16)中分散的散射颗粒(14)和粗糙化的表面。

    具有光引出层的柔性气密性薄膜

    公开(公告)号:CN105190931A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201480006404.X

    申请日:2014-01-22

    CPC classification number: H01L51/5253 H01L51/5268

    Abstract: 一种受保护的有机发光二极管(200),其包括在基材(10)上形成的有机发光二极管结构,在至少一部分的有机发光二极管结构上形成的气密性阻挡层(8),和光引出层(12)。所述阻挡层(8)可包括玻璃材料,例如氟磷酸锡玻璃,钨掺杂的氟磷酸锡玻璃,硫属化物玻璃,亚碲酸盐玻璃,硼酸盐玻璃或磷酸盐玻璃。可在阻挡层(8)上形成的光引出层(12)包括高折射率基质材料(16)以及下述的至少一种:在整个基质材料(16)中分散的散射颗粒(14)和粗糙化的表面。

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