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公开(公告)号：CN110156465A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910495198.8
申请日：2019-06-10
Applicant: 南京信息工程大学
IPC: C04B35/50 , C04B35/465
Abstract: 本发明涉及一种中介电常数陶瓷介质谐振器材料，该中介电常数陶瓷介质谐振器材料的化学表达式为：(Ca0.65+xSm0.65+x)(Ti0.65Al0.35+x)O4-δ，其中x＝0～0.1。其介电常数介于35～42，品质因数Q×f大于50000GHz，频率温度系数τf在±10ppm/℃范围内。由于综合微波介电性能良好，这就增加了中介电常数微波瓷料的种类，为滤波器、介质谐振器等微波器件的设计提供了新的选择。此外，由于涉及到的制备方法为传统固相法，工艺简单，适用于大批量生产。
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公开(公告)号：CN113564648B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202110820195.4
申请日：2021-07-20
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明公开了一步法绿色制备铜基超疏水涂层，包括以下步骤：S1、电极前处理；S2、配置电解液；S3、配置连接改性电解液；S4、电沉积；S5、电沉积后，将样品进行超声清洗、吹干得到铜基超疏水涂层；本发明通过采用绿色电沉积的手段来制备超疏水铜涂层，也就是采用氯化胆碱‑乙二醇离子液体作为电沉积过程中的基础电解液。相比于其他制备超疏水涂层的工艺方法，在离子液体中一次性的电沉积超疏水涂层的技术具有更加绿色、节能的优点，工艺重复性更高，参数更易调节，本发明绿色、环保和相对较低的能耗，并且体系稳定，工艺参数易控制，这些优点符合当前社会发展和绿色制造的需要，具有更好的市场化运用的前景。
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公开(公告)号：CN113564522A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110891752.1
申请日：2021-08-04
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及二氧化钒材料技术领域，尤其是一种二氧化钒薄膜及其制备方法及应用，现提出如下方案，其包括在基体上存在空位缺陷的表面侧制备覆盖在所述表面侧的二氧化钒薄膜。本发明通过在非晶石英基体上形成空位缺陷，利用磁控溅射技术在基体上具有空位缺陷的表面侧制备覆盖在其上的二氧化钒薄膜，进行二氧化钒的生长，这种方法制备的二氧化钒晶体结构会受到缺陷应力的挤压，导致键长、键角发生变化，并通过退火工艺优化二氧化钒薄膜的晶体结构，二氧化钒晶体结构的优化导致二氧化钒相变温度的降低，同时太阳光应用效率得到大幅提升，这种制备方法简单易操作，易于实现规模化制备。
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公开(公告)号：CN112908956A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110123595.X
申请日：2021-01-29
Applicant: 南京信息工程大学
IPC: H01L23/427
Abstract: 本发明公开了一种金属氧化物/石墨烯复合流体及其制备方法与应用，该复合流体包括质量比为10～1：1的金属氧化物纳米流体和石墨烯纳米流体，该流体的制备方法包括以下步骤：(1)制备金属氧化物纳米流体；(2)制备石墨烯纳米流体；(3)将金属氧化物纳米流体和石墨烯纳米流体在研磨罐中混合对其进行球磨处理；(4)将球磨后的混合流体震荡分散、离心，取上清液即得到金属氧化物/石墨烯复合流体；该复合流体稳定性好，粒子分散性好，能够保证复合流体在20‑30天内不会发生大范围的沉降，导热性能好，热阻约为0.145℃/W，能够作为导热流体应用在真空热管中，制备方法简单。
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公开(公告)号：CN111321384A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN202010315678.4
申请日：2020-04-21
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 为了提高成膜摩擦、硬度等问题，本发明提出一种以氧等离子刻蚀为预处理，用磁控溅射实现一种在镍基合金上制备二氧化锆薄膜的方法。本发明的在镍基合金上制备二氧化锆薄膜的方法，该方法制备薄膜性能好，尤其是经过等离子刻蚀后力学性能等到提升，表面粗糙度降低，同时制备方法简单，可以实现大规模制备。本发明靶材是锆靶，在经过氧等离子刻蚀过的镍合金基体上进行磁控溅射。其主要过程是先将镍合金基片用氧等离子刻蚀的方法降低表面粗糙度，并使表面富含氧元素，再将处理好的基片放到磁控溅射炉中的式样台上完成样品表面的二氧化锆薄膜的制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113293350B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202110582236.0
申请日：2021-05-26
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明公开了一种钛合金表面改性方法，将预处理好的钛合金制件悬挂在等离子冶金炉的石墨源极靶材中，在石墨源极靶材上插入所渗金属/合金棒(铬、钼、钨等单元和多元合金)，形成复合靶材结构；启动辉光电极处理技术，调节复合靶材结构电压在550‑950V，氩氮比例3∶3‑3∶0，使石墨源极靶材和钛合金制件升温至500～1000℃，对钛合金制件表面进行轰击，处理结束后降温，即得到表面改性的钛合金制件。本发明以高熔点金属元素与碳/氮元素为溅射靶材源，对钛合金制件进行表面冶金处理，形成高硬耐磨的冶金陶瓷层，金属表面陶瓷层成分与硬度呈梯度分布，改性方法简单，改性层和基层结合紧密，结合强度高。
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公开(公告)号：CN113564522B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202110891752.1
申请日：2021-08-04
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及二氧化钒材料技术领域，尤其是一种二氧化钒薄膜及其制备方法及应用，现提出如下方案，其包括在基体上存在空位缺陷的表面侧制备覆盖在所述表面侧的二氧化钒薄膜。本发明通过在非晶石英基体上形成空位缺陷，利用磁控溅射技术在基体上具有空位缺陷的表面侧制备覆盖在其上的二氧化钒薄膜，进行二氧化钒的生长，这种方法制备的二氧化钒晶体结构会受到缺陷应力的挤压，导致键长、键角发生变化，并通过退火工艺优化二氧化钒薄膜的晶体结构，二氧化钒晶体结构的优化导致二氧化钒相变温度的降低，同时太阳光应用效率得到大幅提升，这种制备方法简单易操作，易于实现规模化制备。
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公开(公告)号：CN113502515B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202110793716.1
申请日：2021-07-14
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明提供一种可改善表面光洁度的低共熔离子液体电沉积铜涂层的制备方法，包括：将氯化胆碱、乙二醇和氯化铜混合均匀并加热，恒温搅拌直到固体全部溶解，生成棕色粘稠的液体，得到电解液，向电解液中加入一定量的水杨酸；铜片作为可溶性阳极，铜块作为阴极，浸入电解液后与电源连接，进行恒电流电沉积；电沉积后，取出样品并清洗、吹干，即得到铜涂层。本发明在电解液中加入水杨酸，可对低共熔离子液体电沉积铜涂层技术进行改进，以获得更加致密平整的铜涂层，从而有效地提高了铜涂层的表面光洁度。本发明采用的原料廉价，绿色环保，安全无毒，电解液后期处理简单，且实验结果的重复性强。
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公开(公告)号：CN113584450A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110893028.2
申请日：2021-08-04
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种经氧等离子刻蚀的二氧化锆薄膜及其制备方法，现提出如下方案，其包括在基体上经过氧等离子刻蚀过的表面侧制备覆盖在所述表面侧的二氧化锆薄膜。本发明提出一种将基体先经过氧等离子刻蚀，再用磁控溅射实现二氧化锆在经过刻蚀基体上的表面沉积的方法，这种方法制备得到的二氧化锆薄膜性能好，尤其是经过等离子刻蚀后力学性能等到提升，表面粗糙度降低，同时制备方法简单，可以实现大规模制备。
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公开(公告)号：CN107385484A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710574513.7
申请日：2017-07-14
Applicant: 南京信息工程大学
Abstract: 本发明涉及一种单连接线电沉积钨涂层的方法，本方法采用了单导线电沉积金属钨涂层技术方案，与常规电沉积技术相比，阳极钨直接放置于可导电的碳化硅石墨坩埚底部，可不使用金属连接线也可保证电路的完整性，降低了电沉积连接线的使用成本。阴极电极采用高温镍合金丝替代铂丝作为连接线，进一步节省了电极连接线成本，采用该方法电沉积出的钨涂层依旧结构致密，无裂纹。
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